专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种SiC陶瓷颗粒表面改性工艺-CN201911316239.9有效
  • 谢志勇;许涛;熊晖;刘小磐;高朋召 - 合肥水泥研究设计院有限公司
  • 2019-12-19 - 2021-05-25 - C04B35/565
  • 本发明公开了一种SiC陶瓷颗粒表面改性工艺,步骤如下:SiC颗粒的预处理;表面改性料浆的制备;SiC颗粒的表面改性处理。本发明工艺在SiC颗粒表面形成MoSi2金属间化合物薄膜。该薄膜能与SiC颗粒形成Mo‑Si‑C键,与SiC颗粒结合性良好。用涂膜后的SiC颗粒制成陶瓷预制体,然后采用浇铸法制备SiC/Fe基复合材料材料时,SiC颗粒与熔融的铁合金润湿性良好,SiC颗粒表面的MoSi2薄膜能抑制铁水与SiC颗粒产生有害的化学反应,SiC颗粒能与铁合金基体形成牢固的界面结合,在磨损载荷下SiC颗粒不会因为界面结合强度低而从铁合金基体表面脱落,能将SiC/Fe复合材料的耐磨性提高50%以上。
  • 一种sic陶瓷颗粒表面改性工艺
  • [发明专利]一种长尺寸SiCf-CN202211380016.0在审
  • 汤哲鹏;董凯;王梦千;刘坤;程仁政;谢宇辉 - 核工业第八研究所
  • 2022-11-04 - 2023-01-17 - C04B35/573
  • 本发明涉及一种长尺寸SiCf/SiC复合材料包壳(PyC/SiC)n多层界面层及其制备方法,(PyC/SiC)n多层界面层位于SiC纤维和SiC基体之间,其由内向外依次由PyC界面层和SiC界面层交替沉积组成,所述(PyC/SiC)n多层界面层中的n为PyC界面层和SiC界面层交替沉积的次数,n的范围为1‑3,所述(PyC/SiC)n多层界面层的总厚度为100nm~1000nm,所述(PyC/SiC)SiC界面层形成的(PyC/SiC)n多层界面层,实现了(PyC/SiC)n多层界面层的均匀沉积,也提高了SiCf/SiC复合材料包壳的抗氧化性能、界面稳定性和力学性能。
  • 一种尺寸sicbasesub
  • [发明专利]半导体装置-CN201610137248.1有效
  • 尾原亮一;野田隆夫;堀阳一 - 株式会社东芝
  • 2016-03-10 - 2019-10-25 - H01L29/78
  • 实施方式的半导体装置具备:SiC层,其具有第1面及第2面;第1电极,其与第1面相接;第1导电型的第1SiC区域,其设置在SiC层内;第2导电型的第2SiC区域,其至少一部分包围第1电极与第1面相接的区域而设置在SiC层内,且设置在第1SiC区域与第1面之间;第2导电型的第3SiC区域,其包围第2SiC区域而设置在SiC层内,且设置在第1SiC区域与第1面之间,第2导电型杂质浓度低于第3SiC区域;及第2导电型的第4SiC区域,其设置在第2SiC区域与第3SiC区域之间的SiC层内,且第2导电型杂质浓度高于第2SiC区域。
  • 半导体装置
  • [发明专利]一种SiC/SiC复合材料的连接方法-CN201711257277.2有效
  • 谢巍杰;邱海鹏;陈明伟;刘善华 - 中航复合材料有限责任公司
  • 2017-12-01 - 2020-12-29 - C04B35/565
  • 本发明涉及一种复合材料的连接方法,特别涉及一种SiC/SiC复合材料的连接方法,主要适用于大型复杂薄壁和尺寸精度要求高的SiC/SiC复合材料构件的连接。本发明提供的SiC/SiC复合材料连接方法中,SiC/SiC复合材料螺钉起到了紧固连接的作用,先驱体转化法生成的碳化硅起到了锁紧与粘接的作用,巧妙结合了紧固连接与粘接并充分发挥各自优点,连接强度和可靠性高本发明提供了一种一体化制备大型复杂SiC/SiC复合材料构件的方法,在SiC/SiC复合材料的制造过程完成连接,缩短SiC/SiC复合材料构件的制备周期并降低成本。本发明提供一种SiC/SiC复合材料的连接方法,可以克服现有技术中粘接的脆性大且可靠性差、螺栓连接的构件表面形状改变、铆接的铆钉易脱出且可靠性差等缺点。
  • 一种sic复合材料连接方法
  • [发明专利]SiC复合基板的制造方法-CN201680052879.1有效
  • 秋山昌次;久保田芳宏;长泽弘幸 - 信越化学工业株式会社;CUSIC股份有限公司
  • 2016-09-09 - 2021-02-26 - C30B29/36
  • 本发明提供SiC复合基板的制造方法,是在多晶SiC基板11上具有单晶SiC层12的SiC复合基板10的制造方法,其特征在于,在由Si构成的保持基板21的单面设置单晶SiC层12而制作了单晶SiC层负载体14后,在该单晶SiC层12上采用化学气相沉积法沉积多晶SiC而制作在保持基板21'上将单晶SiC层12和厚度t的多晶SiC基板11层叠的SiC层叠体15时,进行将单晶SiC层负载体14加热至低于1414℃而只沉积厚度t的一部分的多晶SiC,接着升温到1414℃以上而边将保持基板21的至少一部分熔融边进一步沉积多晶SiC直至成为厚度t后进行冷却,然后将保持基板21'以物理和/或化学方式除去。根据本发明,用简便的制造工艺得到在具有结晶性良好的单晶SiC层的同时翘曲小的SiC复合基板。
  • sic复合制造方法
  • [实用新型]一种复合半导体衬底-CN202121722381.6有效
  • 田野;王晓宇 - 北京青禾晶元半导体科技有限责任公司
  • 2021-07-27 - 2022-01-28 - H01L21/02
  • 本实用新型属于半导体器件技术领域,具体涉及一种复合半导体衬底,包括:高掺杂SiC基底,用于降低电流损耗;低掺杂SiC转移层,用于作为SiC外延层的生长基底;键合界面层,设置在所述高掺杂SiC基底与所述低掺杂SiC转移层之间,用于键合所述高掺杂SiC基底与所述低掺杂SiC转移层。本实用新型通过采用基于键合剥离转移技术的高掺杂‑低掺杂复合半导体衬底,在能够使用高掺杂的SiC基底材料降低器件导通损耗的前提下,通过在高掺杂SiC基底材料上方引入低掺杂SiC转移层,解决了传统高掺杂SiC衬底在生长外延时难以控制SiC外延层掺杂浓度的弊端。
  • 一种复合半导体衬底

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