专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种超声的定量分析方法-CN201710596517.5在审
  • 郭圣文;江行军;黄岳山;劳永华 - 华南理工大学
  • 2017-07-20 - 2018-01-09 - G06T7/207
  • 本发明公开了一种超声的定量分析方法,包括以下步骤输入待分析的超声显微图像;分离气体区域;分离与背景;得到与背景分离的超声图像后,应用形态学方法去除图像中的干扰噪声;搜索中心点;用形态学填充算法,填补壳体中心孔洞;初始化圆形轮廓;分割粘连计算超声几何参数并显示结果。本发明提出了一种全新的超声形态的定量分析方法,分割超声,重点解决粘连超声泡分离的难点问题,计算超声几何参数,实现对超声的定量分析。
  • 一种超声定量分析方法
  • [发明专利]空化高信噪比超声快速成像及动态尺寸分布估计方法-CN201310161053.7有效
  • 万明习;刘润娜 - 西安交通大学
  • 2013-05-03 - 2013-08-28 - G01N29/02
  • 空化高信噪比超声快速成像及动态尺寸分布估计方法,(1)构造对应静态初始条件下的空化子波;(2)通过全数字化超声平台二维面阵换能器以平面波发射接收方式获取溶液中源能量辐照体积内群的背向散射强度随时间变化的信息,并对其进行空化子波变换来提高空化成像的信噪比;(3)获取空化群中数目最多的所具有的半径;(4)将空化区域划分成等大小的分区,得到每个分区中数目最多的所对应的亮度,进而可以获得整个空化群的尺寸分布;(5)获取在流动状态下空化尺寸的体积分布;本发明进行空化子波变换,获得信噪比增强的空化图像,同时完成对空化尺寸的动态估计。
  • 空化微泡高信噪超声快速成像动态尺寸分布估计方法
  • [发明专利]一种臭气及污水处理系统-CN202011290542.9在审
  • 许岳虎;毛小艺 - 湖南自然创造生物科技有限公司
  • 2020-11-18 - 2021-02-05 - B01D53/18
  • 臭气及污水处理系统还包括臭氧发生组件,臭氧发生组件包括臭氧发生器及与臭氧发生器连通的第一发生器。臭氧发生器产生臭氧,并将臭氧输送至第一发生器内。第一发生器将臭氧与第一发生器内的水液混合并产生臭氧。第一发生器与污水收集池经第一管道连通,第一发生器用于将臭氧输送至污水收集池内。本发明通过设计臭氧发生组件,通过臭氧发生组件能够为喷淋塔内的污水收集池提供臭氧,从而加快了污水收集池内的水液(溶解有臭气内的有害成分)的处理效率及效果。
  • 一种臭气污水处理系统
  • [实用新型]一种臭气及污水处理系统-CN202022676969.4有效
  • 许岳虎;毛小艺 - 湖南自然创造生物科技有限公司
  • 2020-11-18 - 2021-07-27 - B01D53/18
  • 臭气及污水处理系统还包括臭氧发生组件,臭氧发生组件包括臭氧发生器及与臭氧发生器连通的第一发生器。臭氧发生器产生臭氧,并将臭氧输送至第一发生器内。第一发生器将臭氧与第一发生器内的水液混合并产生臭氧。第一发生器与污水收集池经第一管道连通,第一发生器用于将臭氧输送至污水收集池内。通过设计臭氧发生组件,通过臭氧发生组件能够为喷淋塔内的污水收集池提供臭氧,从而加快了污水收集池内的水液(溶解有臭气内的有害成分)的处理效率及效果。
  • 一种臭气污水处理系统
  • [发明专利]清洗液及使用该清洗液的方法-CN202310495620.6在审
  • 左国军;任金枝;成旭;刘旭 - 常州捷佳创精密机械有限公司
  • 2023-05-05 - 2023-08-04 - C11D7/02
  • 本发明公开了清洗液及使用该清洗液的方法,清洗液由纯水和洁净气体制备得到,清洗液内分布有表面携带电荷的的直径范围为0.05um‑100um,且的半衰期≥30s。使用该清洗液的方法包含硅芯清洗方法、硅片清洗方法、硅料清洗方法、RCA清洗方法、硅片吸杂前清洗方法、硅片制绒方法、硅片碱抛光方法、硅片电镀方法、以及薄膜电镀方法中的至少一种。本发明通过增加浓度和半衰期,提高表面电荷量,并通过同种电荷之间相斥的原理,去除基片表面颗粒,大大提高了颗粒去除效果,降低成本且对环境友好。
  • 清洗使用方法

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