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[发明专利]掩模、设置掩模的方法以及使用其设置显示面板的方法-CN202111313981.1在审
发明人：李璱;文敏浩;文英慜;孙智熙;宋升勇;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及设置沉积掩模的方法、设置显示面板的方法和沉积掩模。设置掩模的方法包括:设置面对第二掩模层的第一掩模层；在第二掩模层中,设置对应于掩模的沉积开口的第一开口；设置辅助层，辅助层面对第一掩模层且第二掩模层位于它们之间并且覆盖第一开口；在辅助层中，设置对应于第一开口并将第一掩模层暴露于辅助层外部的第二开口；在第一掩模层中，通过使用辅助层作为掩模，设置对应于第一开口和第二开口的第三开口；以及设置辅助层与第一掩模层和第二掩模层分离，以设置具有包含第三开口的第一掩模层和包含第一开口的第二掩模层的沉积掩模。
掩模设置方法以及使用显示面板

[发明专利]一种具有辅助开口的掩模板及其制作方法-CN201310065563.4在审
发明人：魏志凌;高小平;潘世珎;刘学明 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2013-03-01 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板主体，所述掩模板主体上有掩模图案，所述掩模图案由掩模开口组成；辅助开口图案，所述辅助开口图案由辅助开口构成，所述辅助开口位于所述掩模板主体上，并分布在所述掩模图案两侧，所述辅助开口长度方向与所说掩模开口长度方向平行通过设置辅助开口，使绷网后的掩模板的掩模区域受力均衡，避免了因绷网后掩模区域边缘处开口间狭长金属丝因受力过小，产生下垂，而导致开口精度不高的缺陷，提高开口精度，从而提高蒸镀质量。
一种具有辅助开口模板及其制作方法

[实用新型]一种具有辅助开口的掩模板-CN201320094230.X有效
发明人：魏志凌;高小平;潘世珎;刘学明 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2013-03-01 - 公布日： 2013-08-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩模板主体，所述掩模板主体上有掩模图案，所述掩模图案由掩模开口组成；辅助开口图案，所述辅助开口图案由辅助开口构成，所述辅助开口位于所述掩模板主体上，并分布在所述掩模图案两侧，所述辅助开口长度方向与所说掩模开口长度方向平行通过设置辅助开口，使绷网后的掩模板的掩模区域受力均衡，避免了因绷网后掩模区域边缘处开口间狭长金属丝因受力过小，产生下垂，而导致开口精度不高的缺陷，提高开口精度，从而提高蒸镀质量。
一种具有辅助开口模板

[发明专利]蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、有机半导体元件的制造方法及有机EL显示器的制造方法-CN202210442665.2在审
发明人：川崎博司;武田利彦 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明的蒸镀掩模将具有与蒸镀制作的弯曲对应的多个树脂掩模开口部的树脂掩模和具有金属掩模开口部的金属掩模以树脂掩模开口部与金属掩模开口部重合的方式层叠而成，金属掩模在树脂掩模的不与树脂掩模开口部重合的位置具有部分降低金属掩模的刚性的
蒸镀掩模框架有机半导体元件制造方法有机 el 显示器

[发明专利]蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、有机半导体元件的制造方法、及有机EL显示器的制造方法-CN201780030895.5在审
发明人：川崎博司;武田利彦 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明的蒸镀掩模将具有与蒸镀制作的弯曲对应的多个树脂掩模开口部的树脂掩模和具有金属掩模开口部的金属掩模以树脂掩模开口部与金属掩模开口部重合的方式层叠而成，金属掩模在树脂掩模的不与树脂掩模开口部重合的位置具有部分降低金属掩模的刚性的
金属掩模树脂掩模开口部蒸镀掩模重合有机半导体元件有机EL显示器刚性调整蒸镀制造制作

[发明专利]掩模开口尺寸测量方法、掩模版拉伸装置以及张网机-CN201910967774.4有效
发明人：肖蓉;邓帅飞;李运锋;周许超 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-10-12 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种掩模开口尺寸测量方法、掩模版拉伸装置以及张网机。该掩模开口尺寸测量方法包括：对当前进行拉伸的掩模版进行图像采集，形成当前图像采集结果，所述掩模版包括掩模开口；基于所述当前图像采集结果，确定所述掩模版上当前所述掩模开口的几何中心；基于当前所述掩模开口的几何中心，计算当前所述掩模开口的尺寸，以有效判断当前掩模版上的掩模开口的尺寸是否达到预设值。
开口尺寸测量方法模版拉伸装置以及张网机

[发明专利]蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法、及有机EL显示器的制造方法-CN201780061439.7在审
发明人：川崎博司;小幡胜也 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2017-10-04 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：在具有与蒸镀制作的图案对应的树脂掩模开口部(25)的树脂掩模(20)的一面上层叠具有金属掩模开口部(15)的金属掩模(10)而成的蒸镀掩模的制造方法中，形成多个树脂掩模开口部(25)时，多个树脂掩模开口部(25)中的任1个树脂掩模开口部(25a)在树脂掩模的厚度方向截面，以使形成该1个树脂掩模开口部的一内壁面与树脂掩模的另一面所成的锐角(θ1)、和形成该1个树脂掩模开口部的另一内壁面与树脂掩模的另一面所成的锐角(θ2)不同的方式形成树脂掩模开口部(25)。
树脂掩模开口部金属掩模蒸镀掩模内壁面制造锐角有机半导体元件厚度方向截面有机EL显示器蒸镀图案制作

[发明专利]一种掩模组件-CN201310703688.5有效
发明人：魏志凌;高小平;魏志浩;莫松亭;刘学明 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2013-12-20 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模组件，包括掩模框和掩模板，掩模板固定于掩模框上，掩模板上设有由蒸镀孔阵列而成的掩模图案区域，其特征在于：蒸镀孔由多边形开口及设置在多边形开口边角处的补偿开口构成，补偿开口构成多边形开口的外延结构，掩模板为一体成型结构或由分立的掩模单元组成。本发明所提供的掩模组件，蒸镀孔由多边形开口及补偿开口组成，补偿开口的设置提高了蒸镀孔的开口率，从而提高掩模组件的质量。
一种模组

[实用新型]一种掩模组件-CN201320842785.8有效
发明人：魏志凌;高小平;魏志浩;莫松亭;刘学明 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2013-12-20 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩模组件，包括掩模框和掩模板，掩模板固定于掩模框上，掩模板上设有由蒸镀孔阵列而成的掩模图案区域，其特征在于：蒸镀孔由多边形开口及设置在多边形开口边角处的补偿开口构成，补偿开口构成多边形开口的外延结构，掩模板为一体成型结构或由分立的掩模单元组成。本实用新型所提供的掩模组件，蒸镀孔由多边形开口及补偿开口组成，补偿开口的设置提高了蒸镀孔的开口率，从而提高掩模组件的质量。
一种模组

[发明专利]半导体结构和形成半导体结构的方法-CN202011309334.9在审
发明人：陈健源;林芮萍;李振铭;杨复凯;王美匀 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：一种示例性方法包括：形成从半导体衬底延伸的鳍；在鳍上沉积层间介电(ILD)层；在ILD层上形成掩模层；在掩模层上形成切割掩模，切割掩模包括第一介电材料，切割掩模具有暴露掩模层的第一开口，第一开口中的每个的所有侧由第一介电材料围绕；在切割掩模上和第一开口中形成线掩模，线掩模具有槽开口，槽开口暴露切割掩模的部分和掩模层的部分，槽开口是垂直于鳍延伸的带；通过蚀刻掩模层的由第一开口和槽开口暴露的部分图案化掩模层；以及使用图案化的掩模层作为蚀刻掩模在ILD层中蚀刻接触开口。
半导体结构形成方法

[发明专利]一种掩模组件及蒸镀装置-CN201910995278.X在审
发明人：肖志慧;宋平;王亚玲;单为健;杨志业 -专利权人：云谷(固安)科技有限公司
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种掩模组件及蒸镀装置，掩模组件包括：至少一条第一掩模条，第一掩模条上设置有至少一个开口区域，开口区域包括至少两个用于形成子像素的第一开口；掩模框架，掩模框架包括框架开口以及框架本体，第一掩模条沿第一方向延伸；开口区域在掩模框架所在平面上的垂直投影位于框架开口内；至少一条第二掩模条，第二掩模条与至少一个开口区域存在第一交叠区域，第二掩模条用于支撑第一掩模条的开口区域；第二掩模条上设置有第二开口，位于第一交叠区域的第一开口在第二掩模条所在平面上的垂直投影位于第二开口内部本发明实施例能够避免第一掩模条开口区域的网面过大，网面自重引起网面下垂问题，提高了蒸镀质量。
掩模条开口区域掩模框架开口网面垂直投影交叠区域框架开口所在平面掩模组件方向延伸框架本体蒸镀装置子像素下垂蒸镀支撑

[发明专利]蒸镀掩模、蒸镀装置、蒸镀掩模的制造方法、电致发光显示装置的制造方法-CN201680090812.7在审
发明人：小林勇毅;川户伸一;井上智 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：蒸镀掩模(1)为由金属掩模(10)和树脂掩模(20)层叠而形成的蒸镀掩模，金属掩模(10)具有至少1个金属掩模开口(11)，树脂掩模(20)具有多个树脂掩模开口(21)，其中，从金属掩模开口(11)露出的、在X轴方向的各位置沿着Y轴方向配置的至少1个树脂掩模开口(21)的Y轴方向的总开口长度，随着从X轴方向的中央部向Y轴方向的两端部去而变长。
金属掩模树脂掩模蒸镀掩模开口电致发光显示装置方向配置蒸镀装置两端部中央部制造

[发明专利]沉积掩模、及制造和使用沉积掩模的方法-CN202080017200.1在审
发明人：凯文·莫雷斯;亚历山大·N·勒纳 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-02-20 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：大体而言，本文描述的示例关于沉积掩模以及制造和使用这种沉积掩模的方法。示例包括用于形成沉积掩模的方法。掩模层沉积在基板上。穿过掩模层图案化掩模开口。基板的中央部分被移除以限定穿过基板的周边部分的基板开口。具有穿过掩模层的掩模开口的掩模层延伸跨越基板开口。
沉积制造使用方法

[发明专利]掩模装置及其制造方法、蒸镀方法-CN201810284668.1有效
发明人：白珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩模装置及其制造方法、蒸镀方法，该掩模装置包括掩模边框、第一掩模板、第二掩模板。第一掩模板固定在掩模边框上且包括至少一个第一掩模开口；第二掩模板层叠在第一掩模板上且直接固定在掩模边框上；第二掩模板包括至少一个第二掩模开口，第二掩模开口与第一掩模开口至少部分重叠。该掩模装置可用于蒸镀有机薄膜，可提高掩模装置的平坦度，并且可有效改善清洗药液残留在第一掩模板和第二掩模板之间的不良现象。
装置及其制造方法

[发明专利]掩模组件、其制造方法及用于平板显示器的沉积装置-CN201010248758.9有效
发明人：高政佑;小林郁典;李相信 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2010-08-06 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模组件、其制造方法及用于平板显示器的沉积装置。掩模组件包括具有多个第一开口的开口掩模和结合到开口掩模的图案掩模，图案掩模具有设置在由第一开口限定的区域内的多个第二开口，其中，开口掩模由具有比图案掩模的热膨胀系数低的热膨胀系数的材料形成。
模组制造方法用于平板显示器沉积装置

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