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- [实用新型]渐变带隙纳米硅薄膜-CN201320180577.6有效
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于化丛
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于化丛
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2013-04-11
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2014-04-16
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H01L31/076
- 本实用新型公开了渐变带隙纳米硅薄膜,为纳米硅薄膜材料;晶体硅的带隙为1.12eV,非晶硅为1.75eV;所述器件质量级的纳米硅薄膜晶化率范围为40%-70%;所述渐变带隙纳米硅薄膜的带隙为1.3eV~1.5eV本实用新型的渐变带隙纳米硅薄膜用于纳米硅电池的I层(也即光吸收层),充分吸收不同波段的太阳光能,还改善了光生空穴的传输,从而可以有效提高电池的光电转换效率;同时渐变光吸收层结构解决了纳米硅太阳电池开路电压较低的问题,而且渐变结构使其与P层及N层的带隙差别较小,较大程度的解决了P/I、I/N界面的带隙失配问题,避免了异质结的界面效应,降低光致衰退效应,降低成本。
- 渐变纳米薄膜
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