专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种梯度硫化锑太阳电池及其制备方法-CN202211343643.7在审
  • 李志强;冯阳;梁晓杨;王新华 - 河北大学
  • 2022-10-31 - 2023-01-31 - H01L31/032
  • 本发明提供了一种梯度硫化锑太阳电池及其制备方法。所述梯度硫化锑太阳电池采用了双梯度硫化锑作为吸收层,双梯度硫化锑吸收层是通过射流载气输运气相沉积技术、以硫化锑颗粒作为源、以化氢作为源制备而成,制备过程中通过调节化氢流量由小变大、再由大变小,从而得到双梯度硫化锑吸收层。本发明所述方法为应用射流载气输运气相沉积技术沉积硫化锑薄膜,通过调控化氢的流量,从而实现双梯度硫化锑吸收层的制备。本发明提供了一种新的梯度硫化锑太阳电池的制备方法,能够有效优化硫化锑吸收层结构,有助于器件性能的提升。
  • 一种梯度带隙硒硫化锑太阳电池及其制备方法
  • [发明专利]一种铜铟镓薄膜制备方法及铜铟镓薄膜-CN201610841978.X有效
  • 王文庆 - 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司
  • 2016-09-22 - 2018-03-16 - H01L31/032
  • 本发明涉及光伏薄膜材料技术领域,特别涉及一种铜铟镓薄膜的制备方法及铜铟镓薄膜。本发明的制备方法包括以下步骤在沉积背电极的衬底上磁控溅射形成包含化物系列化合物的第一层掺钠铜铟镓预制层;化热处理掺钠铜铟镓预制层,得到第一层铜铟镓薄膜层;周期循环重复步骤(1)、(2),每个周期中Ga/(In+Ga)不同,从第一层铜铟镓薄膜层到最后一层铜铟镓薄膜层中,Ga/(In+Ga)先减小后增多。一种铜铟镓薄膜,由n层不同的掺钠铜铟镓薄膜层组成,各层掺钠铜铟镓薄膜层延薄膜沉积生长方向先减小后增多,n大于等于3。本发明可有效提高光电转换效率,同时增加了太阳能电池的开路电压。
  • 一种铜铟镓硒薄膜制备方法
  • [发明专利]锡掺杂化铅纳米粒子的制备方法-CN201210270340.7无效
  • 魏浩;苏言杰;任兴龙;张亚非 - 上海交通大学
  • 2012-07-31 - 2012-11-07 - C01B19/04
  • 本发明涉及一种光电材料技术领域的锡掺杂化铅纳米粒子的制备方法,包括如下步骤:步骤一,取氧化铅,氧化锡,混合,加入油酸和十八烯,得溶液A;步骤二,取粉,加入三正辛基膦,加热,得溶液B;步骤三,将溶液B注入到溶液A中,加热,纯化,得到锡掺杂化铅纳米粒子。本发明的方法无污染,反应条件温和简单,对设备的要求简单,适合工业化大规模生产;制备的锡掺杂化铅纳米粒子的能可随掺锡比例变化而变化;当锡含量从0上升至42%时,能从1.61eV下降至0.79eV
  • 掺杂硒化铅纳米粒子制备方法
  • [发明专利]一种铜铟镓薄膜表面修饰的方法-CN201210162587.7无效
  • 赖延清;陈志伟;张坤;刘芳洋;赵联波;蒋良兴;李劼;刘业翔 - 中南大学
  • 2012-05-23 - 2012-09-26 - H01L31/18
  • 本发明公开一种铜铟镓(Cu(In,Ga)Se2)薄膜表面修饰的方法,涉及光电功能材料和新能源技术领域。本发明的特点在于:在铜铟镓薄膜上沉积一定厚度的金属薄膜或合金薄膜,再将其置于反应性气氛下高温退火,沉积的金属或合金与铜铟镓薄膜表面的铜二次相(CuxSe)反应形成宽带的铜多元金属化合物,达到除去该表面修饰方法避免了传统修饰方法采用KCN刻蚀CuxSe有剧毒不环保的缺点,具有成本低、重现性好和适合薄膜大面积生长等优点,可实现薄膜表面带宽度的提高和梯度的形成,且明显降低pn结界面复合,有效提高器件的开路电压
  • 一种铜铟镓硒薄膜表面修饰方法

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