专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种液晶q波片及其制备方法-CN201510574903.5有效
  • 胡伟;季玮;陈鹏;陆延青;徐飞 - 南京大学
  • 2015-09-10 - 2018-04-17 - G02F1/1337
  • 波片包括相对设置的第一基板和第二基板,以及位于第一基板和第二基板之间的液晶层;其中,第一基板与第二基板之间设置有间隔粒子,以支撑液晶层;第一基板和第二基板近邻液晶层的一侧设置有光控取向膜,光控取向膜具有分子指向矢环绕中心奇点呈周期性渐变分布的控制图形,在以中心奇点为原点的极坐标系中,环绕奇点,控制图形在极轴上的初始分子指向矢角度和/或q值按照预设的规律变化,控制图形控制液晶分子指向矢环绕中心奇点呈周期性渐变分布。
  • 一种液晶及其制备方法
  • [发明专利]补偿光学系统的调整方法和补偿光学系统-CN201380029623.5有效
  • 黄洪欣 - 浜松光子学株式会社
  • 2013-04-01 - 2017-12-19 - G02F1/01
  • 本发明通过包括第一步骤~第四步骤的方法,以短时间且高精度地修正波阵面传感器的相位分布与波阵面调制元件的补偿用的相位图案的位置偏移,其中,第一步骤,使奇点生成图案显示在波阵面调制元件(12)中;第二步骤,在传感器(11)中测量调整用波阵面形状,该调整用波阵面形状为由奇点生成图案调制的光像入射到波阵面传感器(11)时的调整用波阵面形状;第三步骤,由传感器(11)中的测量结果,检测调整用波阵面形状中的奇点的位置;第四步骤,基于奇点的位置的位置偏移,调整在波阵面传感器(11)中测量的波阵面形状与在波阵面调制元件(12)中表示的补偿用的图案的位置偏移。
  • 补偿光学系统调整方法
  • [发明专利]半导体器件-CN202180091235.4在审
  • 穆纳福·拉希莫 - MQ半导体股份公司
  • 2021-12-10 - 2023-09-15 - H01L29/739
  • 当在栅极沟槽上施加大于阈值的控制电压时,电子从所述源极区内的奇点流入径向MOS沟道,所述径向MOS沟道形成于被所述第一基极层包围但不与较高掺杂的第二基极层邻接的那些沟槽区的侧壁上。所述MOS沟道宽度由以所述奇点为中心并且半径等于所述奇点与所述第一基极层中的最大表面掺杂浓度点之间的分隔区的四分之一圆确定。
  • 半导体器件
  • [发明专利]燃料喷射控制装置-CN201680028061.6有效
  • 福田隆夫 - 日立汽车系统株式会社
  • 2016-06-01 - 2020-12-25 - F02D41/34
  • 本发明提供一种燃料喷射控制装置,其能够将与燃料喷射阀的特性有关的奇点的检测精度提高到原来的A/D转换的时间分辨率以上,并能够高精度地检测所述奇点。221)在变更前的转换时刻以及可变控制部(24)改变的变更后的转换时刻对于所述物理量数据进行A/D转换,并获得多个时间序列数据,检测部(223)基于所述多个时间序列数据检测与燃料喷射阀(10)的特性有关的奇点
  • 燃料喷射控制装置
  • [发明专利]紫外发光器件及其制造方法-CN201610792168.X在审
  • 斋藤义树 - 丰田合成株式会社
  • 2016-08-31 - 2017-03-15 - H01L33/14
  • 本发明提供了一种紫外发光器件及其制造方法,其呈现出改进的晶体质量、平坦性以及填充表面奇点的可实现性。该紫外发光器件包括具有表面奇点的衬底;通过溅射在衬底上形成的AlN缓冲层;未掺杂AlGaN层;n型AlGaN层;发光层;由p型AlGaN制成的电子阻挡层;以及由p型AlGaN制成的p型接触层,所述层中的各个层顺次沉积因此,改进了晶体质量或平坦性以及填充衬底上的表面奇点的可实现性。
  • 紫外发光器件及其制造方法

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