专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果4137302个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种色混合再生料硅胶PU发泡热转印-CN202120048543.6有效
  • 朴大雨;张思荣;熊伟 - 东莞市艾士伦新材料科技有限公司
  • 2021-01-09 - 2021-11-02 - B32B27/36
  • 本实用新型公开了一种色混合再生料硅胶PU发泡热转印,包括热转印本体,所述热转印本体包括PET、硅胶色混合、第一热熔胶、PU发泡、第二热熔胶和保护,所述PET的底部与硅胶色混合的顶部相粘合,所述硅胶色混合的底部与第一热熔胶的顶部相粘合,本实用新型涉及热转印膜技术领域。该色混合再生料硅胶PU发泡热转印,通过热转印本体包括PET、硅胶色混合、第一热熔胶、PU发泡、第二热熔胶和保护,在热转印生产时,内部热压有PU发泡,增加热转印厚度的同时,提升热转印的立体感,使得热转印看起来更加美观,展示效果更佳,使得热转印的装饰效果更好。
  • 一种多色混合再生硅胶pu发泡热转印膜
  • [实用新型]块衬的手机保护-CN202020356792.7有效
  • 王培兆;王佳 - 河南佳兆光电科技有限公司
  • 2020-03-20 - 2020-11-13 - B32B3/18
  • 本实用新型涉及手机附属品技术领域,名称是块衬的手机保护,它包括透明的保护本体,所述的保护本体下面具有一粘接,所述的手机保护本体粘接下面还有一;所述的衬块衬单体组成的,块衬单体侧边贴在一起连接;所述的块衬单体包括纵向的块衬单体和横向的块衬单体;所述的块衬单体是指纵向的三排块衬单体和横向的三排块衬单体共9块块衬单体;这样的手机保护具有保证粘接时不错位、粘接容易的优点
  • 多块衬膜手机保护膜
  • [发明专利]色耐磨金属装饰的制作方法-CN201010295902.4有效
  • 周晓宏 - 周晓宏
  • 2010-09-27 - 2011-04-27 - B32B37/02
  • 本发明公开了一种色耐磨金属装饰的制作方法,包括以下步骤:一、第一次表面局部遗留选定或制作;二、隔膜制作及局部破坏处理;三、第二次表面局部遗留制作;四、局部剥离,并获得双色;五、三色以上的制作:先判断需制作多色的颜色数量n;其次,以步骤四中所获得的双色为第一次表面局部遗留,重复步骤二至步骤四n-2次后,则相应获得颜色数量为n的。本发明设计合理、加工制作方便、加工制程环保且所制作的具有高耐磨性、颜色多元化与耐高温的环保性等优良特性,能有效解决现有加工制程所存在的颜色单一、加工过程复杂、适用面窄、不环保等多种实际问题
  • 多色耐磨金属装饰制作方法
  • [发明专利]阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法-CN201710590258.5有效
  • 李海旭;曹占锋;姚琪 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2017-07-19 - 2020-05-22 - H01L27/12
  • 本发明提供一种阵列基板的制作方法和显示装置的制作方法,其包括:在平坦化上依次形成电极的整和金属功能的整;利用灰阶掩使金属功能的整形成电极所需图案;对灰阶掩进行灰化处理;利用具有电极所需图案的金属功能使电极的整形成电极所需图案;利用经灰化处理后的灰阶掩使具有电极所需图案的金属功能形成金属功能所需图案;还包括:在对灰阶掩进行灰化处理之前,在电极的整的未被具有电极所需图案的金属功能覆盖的部分之上形成绝缘保护。本发明提供的阵列基板的制作方法,可以保证的性质与产品特性,以及保证工艺顺利并安全的进行。
  • 阵列制作方法显示装置
  • [发明专利]一种通道集成滤光片的光隔离结构及其制造方法-CN201711426682.2在审
  • 周东平 - 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
  • 2017-12-26 - 2018-04-13 - G02B6/12
  • 本发明揭示了一种通道集成滤光片的光隔离结构,包括设置在基片表面上的黑铬金属,以阻止光线通过,黑铬金属分布于通道集成滤光片通道间的空白区域;还包括消光,消光由第一氧化铬、第一二氧化硅、第二氧化铬、第二二氧化硅组成。本发明还揭示了一种通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法。本发明通过真空镀膜工艺在基片表面上设置黑铬金属和由四氧化物光学薄膜组成的消光,利用黑铬金属满足光学透过性能低的要求,同时,利用消光消除黑铬金属表面的反射光,可有效实现通道集成滤光片各通道之间的隔离,保障通道集成滤光片的工作性能。
  • 一种通道集成滤光隔离结构及其制造方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top