专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]纱线均匀涂敷装置-CN01209542.7无效
  • 卢峰 - 卢峰
  • 2001-03-22 - 2002-05-08 - D02J3/18
  • 纱线均匀涂敷装置,它包括料斗(5),置于料斗内的上料滚轮(7),与上料滚轮轴相接的传动电机(6)和与绕线机主轴(11)相接的绕线电机(12),以及置于退卷纱线上的张力调节器(2),还设有由单片机、转数检测器和变速电机(6)组成的纱线均匀涂敷控制器。控制器能控制上料滚轮的转速跟随绕线筒纱线的增厚而同步加快,均匀了纱线的上油率,使纱筒纱线内外层的上油率相差小于1%左右,从而提高成品纱线的质量。
  • 纱线均匀装置
  • [实用新型]粉末隔离剂涂敷装置-CN202221615636.3有效
  • 陈静 - 青岛三祥科技股份有限公司
  • 2022-06-24 - 2023-02-03 - B05C19/04
  • 本实用新型提出一种粉末隔离剂涂敷装置,属于涂敷装置领域,包括涂敷室,第一接料室,及振动组件,其中,涂敷室顶部与投料口相连,内盛放粉末隔离剂,管坯自涂敷室一侧穿入涂敷室进行涂敷,并于涂敷室的另一侧穿出;接料室套设于涂敷室外,用于收集自管坯上掉落下来的粉末隔离剂;振动组件设于涂敷室顶部,并间断式拍打涂敷室顶部。本实用新型解决了现有涂敷装置在进行涂敷时存在涂敷均匀,粉料架桥,余粉带出污染环境的问题,具有涂敷均匀,可以最大限度降低粉料架桥,可以将余粉回收,减少环境污染的特点。
  • 粉末隔离剂涂敷装置
  • [发明专利]涂敷装置及涂敷方法-CN200680012759.5无效
  • 重山昭宏;山崎贵弘;丰岛范夫 - 芝浦机械电子装置股份有限公司
  • 2006-04-18 - 2008-04-09 - B05C5/00
  • 本发明提供从排列成列状的多个喷嘴朝向基板喷射溶液时,使涂敷图案内的涂敷膜的厚度接近均匀状态并能够形成良好的涂敷膜的喷墨方式的涂敷装置及涂敷方法。当在Y方向上具有多个喷嘴(53a)的喷头(5)在基板(W)上喷射溶液而形成涂敷图案时,排列在Y方向上的喷嘴(53a)之间在溶液的喷射量上有差异。于是,使喷头(5)在Y方向上仅移动距离ΔL并形成同一涂敷图案地多次进行涂敷,从而补偿涂敷厚度的偏差(凹凸),实现涂敷膜厚度的均匀化。
  • 装置方法
  • [发明专利]涂敷装置及涂敷方法-CN200510084066.4有效
  • 樱井直明;佐藤强;五十川昌邦 - 株式会社东芝
  • 2005-07-12 - 2006-01-18 - B05C11/00
  • 本发明是有关于一种可使基片上所涂敷涂敷液的干燥在基片的被涂敷的区域内均匀进行,并可防止涂敷物的不均,且使干燥后的涂敷物的形状有效地均匀形成的涂敷装置及涂敷方法。该涂敷方法在将含有溶质和溶剂的涂敷液在基片上的设定区域上进行涂敷并使溶剂挥发,而在前述基片上形成溶质的固化物的过程中,于结束向前述基片上的设定区域的涂敷之前,使前述基片上进行了涂敷的区域附近的环境,保持为一种对前述溶剂的挥发进行抑制的环境
  • 装置方法
  • [发明专利]一种涂敷装置-CN201310078422.6有效
  • 赵世斌 - 重庆国际复合材料有限公司
  • 2013-03-12 - 2013-05-22 - D06B1/14
  • 本发明公开了一种涂敷装置,包括外壳、涂敷辊、储液盒、刮板和用于驱动所述涂敷辊转动的驱动装置,其中,所述涂敷辊可转动的设置在所述外壳上,所述储液盒设置在所述涂敷辊的下方,所述储液盒用于储存抗静电液,所述涂敷辊用于粘附抗静电液,所述刮板固定在所述外壳上且设置在所述涂敷辊的辊面的一侧。使用时,驱动装置驱动涂敷辊旋转,涂敷辊的旋转方向与玻璃纤维纱股前进方向一致,玻璃纤维纱股与涂敷辊的上方的辊面紧贴,储液盒中放置一定量的抗静电液,涂敷辊的下方的辊面能够浸入到抗静电液中,在涂敷辊旋转时,其辊面能够均匀的粘附上一层抗静电液,该抗静电液会均匀涂敷到玻璃纤维纱股上,实现了玻璃纤维纱股上抗静电液的均匀涂敷
  • 一种装置
  • [发明专利]涂敷用具-CN201480017549.X在审
  • 安永雅博;栗原德正;中谷泰范;有马裕;西村英则 - 株式会社樱花彩色笔
  • 2014-03-19 - 2015-11-18 - A45D34/04
  • 本发明提供能够克服下述问题的涂敷液收纳筒和涂敷用具:由于涂敷液收纳筒间的涂敷液的流出量有大的差别或者随着涂敷用具的使用而不能均匀地推压固化型油,导致涂敷液的流出量产生不规则的增减或不均匀涂敷液收纳筒在前端具有涂敷部,并且在内部填充有被供给到该涂敷部的涂敷液,在填充于该涂敷液收纳筒内部的涂敷液的后端设置有固化型油,在该固化型油的后方设置有用于经由推压机构推压该固化型油的推压机构,该推压机构的固化型油侧的面形成为凸面
  • 敷用
  • [发明专利]涂敷处理方法及涂敷处理装置-CN200910252191.X有效
  • 井关智弘;吉原健太郎;野田朋宏;吉原孝介 - 东京毅力科创株式会社
  • 2009-12-15 - 2010-06-23 - G03F7/16
  • 本发明提供一种实现抑制涂敷涂敷液时产生的气泡来提高涂敷液膜的均匀化及成品率的涂敷处理方法及涂敷处理装置。还提供实现涂敷液的有效利用及涂敷液膜的均匀化的涂敷处理方法及涂敷处理装置。本发明的涂敷处理方法如下所述:使半导体晶圆(W)以低速的第1转速旋转,向晶圆中心部供给纯水(DIW)而形成纯水的积水部,然后在使晶圆以上述第1转速旋转的状态下,向晶圆中心部供给水溶性的涂敷液(TARC),使该涂敷液和上述积水部的纯水混合。然后使晶圆以比上述第1转速高的第2转速旋转而形成涂敷液膜。
  • 处理方法装置
  • [发明专利]药液涂敷装置及药液涂敷方法-CN200610091758.6有效
  • 立石文则 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2006-06-12 - 2006-12-13 - B05C5/00
  • 本发明旨在提供一种通过可以均匀且没有偏差地涂敷药液的旋转涂敷法来进行涂敷的药液涂敷装置及药液涂敷方法。本发明的技术方案的要点是:配置有多个用于将药液涂敷在固定在基台上的涂敷对象物上的喷嘴。因此,可以控制喷出点,并且可以进行对应更广的粘度范围的药液的涂敷。通过实施本发明,可以获得在整个衬底上膜厚差异小且厚度均匀涂敷膜,并且可以获得使用消除了被喷出的药液的浪费并提高了使用效率的药液喷出方法的药液涂敷装置。
  • 药液装置方法
  • [实用新型]用于生产BOPS片材的涂敷装置-CN201220616304.7有效
  • 姜伟;俞国芳;陈彪;顾平波 - 宁波东升包装材料有限公司
  • 2012-11-19 - 2013-04-10 - B05C9/06
  • 本实用新型提供一种用于生产BOPS片材的涂敷装置,它包括硅油涂敷机构和防雾剂涂敷机构,所述防雾剂涂敷机构包括上辊和下辊,所述下辊的表面上开有均匀布置的多个凹坑。本实用新型在防雾剂涂敷机构的下辊的表面上开有均匀设置的多个凹坑,防雾剂可以进入到凹坑中,在涂敷时,防雾剂即可从凹坑中涂敷到片材表面,采用这种结构,可以通过设计凹坑的大小和密度来确定涂敷防雾剂的密度,这样即使上辊下辊的转动速度加快,仍然可以保证涂敷防雾剂的密度,从而保证了片材的生产质量,同时可以加快转动速度,提高生产效率。
  • 用于生产bops装置
  • [发明专利]减压干燥装置及减压干燥方法-CN202210758848.5在审
  • 高村幸宏 - 株式会社斯库林集团
  • 2022-06-29 - 2022-12-30 - B05D3/04
  • 本发明提供一种减压干燥装置及减压干燥方法,能够厚度均匀地对形成于基板上表面的涂敷层进行干燥。该减压干燥装置在驱动减压机构而使腔室内的压力降低至预定的目标压力值来对涂敷层进行干燥的减压干燥处理的过程中,暂时使减压机构停止并驱动供气机构来向所述腔室内供给气体。由此,能够使涂敷层内涂敷液的粘度均匀化,或者能够在因进行干燥而流动性降低的涂敷液中引起回流。其结果,能够抑制涂敷层的厚度的偏差,并能够更加均匀地进行干燥。
  • 减压干燥装置方法

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