“图案介质”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2244467个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于HDD位元图案化介质图案转印的图案强化-CN201710960274.9在审
发明人：罗曼·古科;史蒂文·韦尔韦贝克;亚历山大·康托斯;阿道夫·米勒·艾伦;凯文·莫雷斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-11-05 - 公布日： 2018-02-27 - 主分类号： H01L43/12 文献下载
摘要：描述了一种用于在基板上形成具有磁特性图案的磁性层的方法和装置。所述方法包括使用金属氮化物硬模层来通过等离子体暴露图案化所述磁性层。所述金属氮化物层是使用纳米压印图案化工艺用氧化硅图案负性材料来图案化的。使用含卤素和氧的远程等离子体来使图案在金属氮化物中，并且在等离子体暴露之后使用腐蚀性的湿式剥离工艺去除所述图案。
用于 hdd 位元图案介质强化

[发明专利]用于HDD位元图案化介质图案转印的图案强化-CN201380058513.1在审
发明人：罗曼·古科;史蒂文·韦尔韦贝克;亚历山大·康托斯;阿道夫·米勒·艾伦;凯文·莫雷斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-11-05 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： G11C11/15 文献下载
摘要：描述了一种用于在基板上形成具有磁特性图案的磁性层的方法和装置。所述方法包括使用金属氮化物硬模层来通过等离子体暴露图案化所述磁性层。所述金属氮化物层是使用纳米压印图案化工艺用氧化硅图案负性材料来图案化的。使用含卤素和氧的远程等离子体来使图案在金属氮化物中，并且在等离子体暴露之后使用腐蚀性的湿式剥离工艺去除所述图案。
用于 hdd 位元图案介质强化

[发明专利]图案解锁方法、图案解锁装置及存储介质-CN202110215361.8在审
发明人：孙云飞 -专利权人：北京小米松果电子有限公司
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G06F21/36 文献下载
摘要：本公开是关于一种图案解锁方法、图案解锁装置及存储介质。其中，图案解锁方法应用于终端，包括：获取用户在图案解锁界面上输入的第一解锁操作和第二解锁操作，第一解锁操作用于在图案解锁界面上触发一个或多个图案产生第一视觉变化效果，第二解锁操作用于在图案解锁界面上绘制解锁图案；响应于第一解锁操作触发图案执行的第一视觉变化效果与预设解锁视觉效果相匹配，且第二解锁操作绘制的解锁图案与预设解锁图案相匹配，控制终端解锁。通过本公开所述的图案解锁方法，可以增加终端图案解锁的安全性，确保在进行终端解锁的过程中，不会由于用户绘制解锁图案的滑动手势极易被别人记住而导致图案解锁被破解。
图案解锁方法装置存储介质

[发明专利]图案测定系统、图案测定方法和记录介质-CN202111531299.X在审
发明人：龟田寿昌;酒井计;角田纯一 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种图案测定系统、图案测定方法和记录介质，无测定图案的制约而能够高精度地检测随机噪声成分，并且能够更高精度地测量边缘粗糙度。根据本公开，在取得的线图案图像中，对线图案的左边缘和右边缘分别进行图案匹配和边缘位置校正，生成没有粗糙度的图像。
图案测定系统方法记录介质

[发明专利]图案化磁记录介质-CN200710162730.1有效
发明人：林志庆;孙镇昇;李丙圭 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2007-10-08 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： G11B5/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种包括以预定的规则间隔布置在基底上的多个磁记录层的图案化磁记录介质，其中，磁记录层为多层的并包括抑制磁记录层之间的磁相互作用的装置。
图案记录介质

[发明专利]图案生成装置、图案生成方法以及记录介质-CN202310026837.2在审
发明人：川崎健;五十岚一 -专利权人：住友电气工业株式会社;国立大学法人北海道大学
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G01R29/08 文献下载
摘要：本发明的图案生成装置、图案生成方法以及记录介质高效地生成图案。图案生成装置具备处理器，该处理器执行基于生成条件来生成与设于电介质层的表面的金属层的图案对应的图案数据的处理；判定所生成的所述图案数据是否满足规定条件；在判定为不满足所述规定条件时，返回至生成所述图案数据的处理；在判定为满足所述规定条件时，基于所述图案数据来进行电磁场分析，由此计算向所述图案的第一部位输入高频信号、从所述图案的第二部位输出高频信号时的所述图案或具有所述图案的元件或者电路的特性；判定计算出的所述特性是否在目标范围内；在判定为所述计算出的特性不在目标范围内时，变更所述生成条件；在变更所述生成条件后，返回至生成所述图案数据的处理。
图案生成装置方法以及记录介质

[发明专利]具有改善的伺服图案的图案化介质盘-CN200710167105.6无效
发明人：托马斯·R·阿尔布雷克特;马里奥·布劳姆;克塞尼加·拉科维克;布鲁斯·A·威尔逊;山本智 -专利权人：日立环球储存科技荷兰有限公司
申请日： 2007-10-18 - 公布日： 2008-04-23 - 主分类号： G11B5/74 文献下载
摘要：本发明公开一种用于图案化介质的伺服图案。该伺服图案包括具有和不具有格雷码的柱形/道ID。伺服图案间隔通过岛的最佳使用而被最小化。这是通过利用了非磁岛优势的岛分配规则实现的。
具有改善伺服图案介质

[发明专利]图案转印介质制造设备及方法、盘状图案转印介质-CN201210465943.2无效
发明人：大石裕之 -专利权人：索尼公司;索尼信息技术股份有限公司
申请日： 2012-11-16 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： B29C45/14 文献下载
摘要：提供一种图案转印介质制造设备，包括：盘注射压缩成型单元，其使用盘成型模具和盘状冲压机通过注射压缩成型形成盘状图案转印介质；以及切削单元，其将通过所述注射压缩成型的转印而形成的盘状图案转印介质上的凸凹图案部的周边作为目标物进行切削
图案介质制造设备方法

[发明专利]三维半导体存储器件-CN202010939717.8在审
发明人：李承桓;李洙衡;林周永;张大铉;丁相勋 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2020-09-09 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： H01L27/11563 文献下载
摘要：公开了一种三维半导体存储器件，其包括：交替地堆叠在基板上的栅极间电介质层和电极层；穿透栅极间电介质层和电极层并且延伸到基板中的垂直半导体图案；在垂直半导体图案与电极层之间的阻挡电介质图案；隧道电介质层，在阻挡电介质图案与垂直半导体图案之间并且与栅极间电介质层接触；以及在阻挡电介质图案与隧道电介质层之间的第一电荷存储图案。第一电荷存储图案中的一个与阻挡电介质图案中的一个的顶表面和底表面接触。
三维半导体存储器件

[发明专利]半导体器件及其制造方法-CN201610187524.5有效
发明人：南宫铉;金东谦;金廷奂;池正根;杨大光;柳志晚 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2016-03-29 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： H01L27/11582 文献下载
摘要：本发明提供了一种半导体器件，其包括：衬底；衬底上的隧道绝缘图案；隧道绝缘图案上的电荷存储图案；电荷存储图案上的电介质图案，电介质图案的宽度小于电荷存储图案的宽度；电介质图案上的控制栅极，控制栅极的宽度大于电介质图案的宽度
半导体器件及其制造方法

[发明专利]阵列基板及其制作方法-CN202010652586.5在审
发明人：翟玉浩 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2020-07-08 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本申请提供一种阵列基板，所述阵列基板包括：柔性基板；依次设置于所述柔性基板上的有源层图案、栅极绝缘层图案、栅极图案以及层间介质层图案；其中，所述层间介质层图案包括第一层间介质层图案和设置在所述第一层间介质层图案上的第二层间介质层图案，所述第一层间介质层图案的材料为无机材料，所述第二层间介质层图案的材料为有机材料。
阵列及其制作方法

[发明专利]形成介质薄膜图案和形成分层图案的方法-CN99122837.5无效
发明人：越户义弘;藤林桂;丰田祐二;大川忠行;高桥亮一郎 -专利权人：株式会社村田制作所
申请日： 1999-11-26 - 公布日： 2000-06-07 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种形成介质薄膜图案的方法,包含步骤通过汽相淀积方法,在其上具有抗蚀图案的基片上淀积介质薄膜,其中将CeO2,Sm2O3,Dy2O3,Y2O3,TiO2,Al2O3和MgO中的至少一种用作介质薄膜的材料;以及去掉抗蚀图案,由此使介质薄膜形成图案。
形成介质薄膜图案分层方法

[发明专利]图案化介质母图案和磁介质盘及其形成方法和装置-CN200910266213.8无效
发明人：托马斯·R·阿尔布雷克特;布鲁诺·马乔恩;里卡多·鲁伊斯 -专利权人：日立环球储存科技荷兰有限公司
申请日： 2009-12-30 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明公开一种形成图案化介质母图案和磁介质盘的方法。该方法包括：使用电子束光刻形成盘上的同心环的化学对比度图案，其中所述同心环的间距等于目标道节距的整数倍，所述环包括在伺服扇区头部内的区域，该处所述环径向偏移一部分道节距；进行自组装以在化学对比度图案上以目标道节距形成新的环图案，包括在所述伺服扇区头部中的径向偏移；以及将所述新的环图案转移到磁介质盘以形成所述磁介质盘上的数据道，所述数据道通过非磁槽分隔开，所述非磁槽和所述数据道包括径向偏移区。
图案介质及其形成方法装置

[发明专利]具有回流金属间电介质层的功率半导体器件-CN202080044509.X在审
发明人： E·R·范布朗特;D·J·里施顿瓦尔纳;S·萨布里 -专利权人：克里公司
申请日： 2020-05-01 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： H01L29/78 文献下载
摘要：功率半导体器件包括包含至少一个回流电介质材料图案和至少一个不可回流电介质材料图案的多层金属间电介质图案。在其他实施例中，功率半导体器件包括回流金属间电介质图案，其使用诸如坝料之类的牺牲结构形成以在回流处理期间限制金属间电介质图案的可回流电介质材料的横向扩展。该金属间电介质图案可以具有改进的形状和性能。
具有回流金属电介质功率半导体器件

[发明专利]一种磁性切压垫及拥有该磁性切压垫的图案切压机-CN201810739899.7在审
发明人：李富平 -专利权人：宁波市恺丰文具礼品有限公司
申请日： 2018-07-06 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： B26F1/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁性切压垫，磁性切压垫包括磁性层，磁性切压垫面向图案介质，磁场穿过图案介质吸附切刀，使得图案介质被稳定夹持在切刀与磁性切压垫之间,切刀和图案介质的相互位置稳定不偏移；本发明还公开了一种图案切压机，包括上切压板和下切压板，图案介质和切刀夹持在上切压板和下切压板之间；所述的图案切压机还包括上述的磁性切压垫，磁性切压垫与上切压板或下切压板相连接，图案介质铺放于磁性切压垫表面，磁性切压垫所产生的磁场穿过图案介质吸附切刀，图案切压机的压辊压迫上切压板和下切压板，从而压迫切刀将图案从图案介质上切下；通过将磁性切压垫设置于图案切压机，使得图案切压机的操作精度和使用的便利性得到提高。
压垫图案介质压板切压机切刀图案夹持吸附磁场压迫穿过位置稳定便利性不偏移磁性层铺放切下压辊

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条