专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种显示基板、显示基板的制作方法以及显示面板-CN201710120773.7在审
  • 庞佳威;徐苗;王磊;邹建华;陶洪 - 广州新视界光电科技有限公司
  • 2017-03-02 - 2017-06-09 - H01L51/56
  • 所述显示基板的制作方法包括在衬底上依次形成开关器件层和第一电极层;形成图形像素定义层以及位于所述图形像素定义层上的图形疏水材料层,所述图形像素定义定义出多个子像素区域;依次在所述多个子像素区域内形成有机发光层和第二电极层本发明实施例提供的技术方案,通过在衬底上依次形成开关器件层和第一电极层,形成图形像素定义层以及位于图形像素定义层上的图形疏水材料层,图形像素定义定义出多个子像素区域,依次在多个子像素区域内形成有机发光层和第二电极层,达到了降低像素定义层表面疏水的显示基板的制备难度以及成本的有益效果。
  • 一种显示制作方法以及面板
  • [发明专利]形成孔的方法-CN201210122591.0有效
  • 王新鹏 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2012-04-24 - 2013-10-30 - H01L21/768
  • 一种形成孔的方法,包括:提供基底,在所述基底上形成有介质层;在所述介质层上形成第一图形的掩膜层和第二图形的掩膜层,所述第一图形的掩膜层和第二图形的掩膜层共同形成的图形定义出孔的位置,其中,所述第一图形的掩膜层沿列方向定义孔的位置,所述第二图形的掩膜层沿行方向定义孔的位置;以所述第一图形的掩膜层和第二图形的掩膜层为掩膜,干法刻蚀所述介质层形成孔。
  • 形成方法
  • [发明专利]机器人图形编程交互系统及机器人-CN201811335672.2有效
  • 贾寒;李法设;刘雪梅;杨跞 - 中科新松有限公司
  • 2018-11-09 - 2021-06-01 - B25J9/16
  • 本发明提供了一种机器人图形编程交互系统及机器人,其中,图形库模块用于存储固定节点和自定义节点;图形编程模块用于根据用户对固定节点和/或自定义节点的选择,拖拽,参数设置的操作进行图形编辑,得到图形程序;辅助功能模块用于根据用户的触发对图形编程的过程进行辅助性操作,以完成图形编程;可视交互式仿真模块中包含机械臂仿真模型,能够根据图形程序进行运行。本发明中的节点可在图形编程模块中任意位置摆放,系统中增加了机械臂仿真模型,能够对图形编程模块形成的图形程序中的每个节点进行运行,从而指导用户进行图形编程,提高了编程的方便性,用户可快速上手,直观
  • 机器人图形编程交互系统
  • [外观设计]用于图形定义SQL生成的图形用户界面的显示屏幕面板-CN202230766510.5有效
  • 陈文静;朱煜;林明;欧阳小兵;纪宇轩;贾瑞芝;陈宏亮 - 中银金融科技有限公司
  • 2022-11-17 - 2023-08-11 - 14-04
  • 1.本外观设计产品的名称:用于图形定义SQL生成的图形用户界面的显示屏幕面板。2.本外观设计产品的用途:用于显示及交互;该显示屏幕面板用于手机、平板电脑、电脑。3.本外观设计产品的设计要点:在于显示屏幕面板中图形用户界面的界面内容。4.最能表明设计要点的图片或照片:设计1主视图。5.设计1‑5的其他视图为惯常,省略设计1‑5的其他视图。7.图形用户界面的用途:产品界面为图形定义SQL生成展示的交互界面,用于用户查询及编辑信息;设计1主视图界面为图形定义SQL生成初始的交互界面;设计2主视图界面为图形定义SQL生成数据表展示的交互界面;设计3主视图界面为图形定义SQL生成数据列展示的交互界面;设计4主视图界面为图形定义SQL生成常用保留字展示的交互界面;设计5主视图界面为图形定义SQL生成关键字、运算符、函数展示的交互界面
  • 用于图形自定义sql生成用户界面显示屏幕面板
  • [发明专利]金属互连线的形成方法-CN201410006930.8在审
  • 孔秋东 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2014-01-07 - 2014-04-16 - H01L21/768
  • 一种金属互连线的形成方法,包括:提供基底,在基底上形成有介质层,在介质层上形成有金属层;在金属层上形成抗反射层,在抗反射层上形成图形的光刻胶层,图形的光刻胶层定义金属互连线的位置;以图形的光刻胶层为掩模,湿法刻蚀抗反射层;以图形的光刻胶层为掩模,刻蚀金属层形成金属互连线和相邻两金属互连线之间的沟槽。湿法刻蚀抗反射层,基本不会刻蚀图形的光刻胶层。这样,刻蚀金属层过程和图形的光刻胶层的反应生成物之间保持相当的平衡,金属互连线的侧面得到良好保护,线宽与预定义线宽相符。金属互连线线宽符合预定义线宽,产品良率较高,金属互连线中的电子迁移率稳定,其中的信号传递稳定,确保器件性能可靠。
  • 金属互连形成方法
  • [发明专利]形成双镶嵌结构的方法-CN201210133587.4有效
  • 张海洋;王冬江 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2012-04-28 - 2013-10-30 - H01L21/768
  • 一种形成双镶嵌结构的方法,包括:提供基底,在所述基底上形成含碳介质层;在所述的介质层上形成第一图形的掩膜层,定义互连沟槽的位置;在所述介质层及第一图形的掩膜层上形成第二图形的掩膜层,定义通孔的位置;以所述第二图形的掩膜层为掩膜刻蚀介质层,形成通孔,在刻蚀时,介质层中的碳被损耗;去除第二图形的掩膜层,在所述通孔中通入CH4等离子体以补充介质层中被损耗的碳;以所述第一图形的掩膜层为掩膜刻蚀介质层,形成互连沟槽;去除第一图形的掩膜层;填充导电材料形成双镶嵌结构。CH4等离子体的处理步骤,补充在刻蚀和去除第二图形的掩膜层工艺中的介质层的碳损耗,进而达到修复受损伤介质层的目的。
  • 形成镶嵌结构方法
  • [发明专利]图形编程的实现方法-CN202210701104.X在审
  • 方海波 - 海南电信规划设计院有限公司
  • 2022-06-23 - 2022-09-23 - G06F8/34
  • 本发明提供一种图形编程的实现方法,包括步骤:当用户创建新的图形编程项目时,显示图形素材库中的可选素材;将用户选中的可选素材显示在图形编程项目的画布中;获取用户对于函数图形所对应的函数内容的定义,根据定义调整函数图形入口节点和出口节点的显示;获取用户对于函数图形出口节点与其他函数图形入口节点之间的连接指令,根据连接指令在两个函数图形之间生成连接线,并生成函数调用的程序逻辑;根据图形编程项目的程序逻辑生成相应的程序代码文件,本发明通过图形来表达高级编程语言中的函数定义
  • 图形编程实现方法

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