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[发明专利]光刻返工刻蚀工艺-CN201310264681.8有效
发明人：雷通 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-06-27 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及集成电路技术领域，尤其涉及一种光刻返工刻蚀工艺。本发明公开了一种光刻返工刻蚀工艺，通过在一个刻蚀工艺制程中，依次去除需要返工的光刻胶和非氮底部抗反射层后，再次沉积新的非氮底部抗反射层，并继续涂覆光刻胶进行后续的光刻工艺，以完成光刻返工工艺，这样就在进行光刻工艺时就不用为了防止后续光刻返工时影响非氮底部抗反射层的光学参数或其表面性质，而在非氮底部抗反射层上制备保护层，进而简化了整个光刻工艺的流程；同时，采用本方法使得经过光刻返工的制品在后的光刻过程中精度保持不变，进而提高了产品的性能和良率。
光刻返工刻蚀工艺

[发明专利]低品位红土型风化钛砂矿联合选矿工艺-CN201210401944.0有效
发明人：张汉平;刘玫华;陈献梅;乔吉波;汤优优;宋涛;朱从杰;简胜;周士春;李星海;袁浩;刘飞 -专利权人：昆明冶金研究院
申请日： 2012-10-22 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： B03B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种低品位红土型风化钛砂矿联合选矿工艺，特别是对二氧化钛含量在5%以下的原料先进行“弱磁－强磁”预处理工艺，再进行“重选-再磨-重选”、“重选-再磨-浮选”、“再磨-浮选” 联合选矿工艺，属选矿技术领域本发明通过“弱磁-强磁”预处理工艺可抛掉大量的富含高岭土矿物的矿泥，简化工艺流程，得到的钛粗精矿含泥量少，易于进行后续的处理，如进行浮选、摇床重选等工艺时避免了矿泥的干扰，得到的钛精矿品位和回收率都较高，且强磁磁选对细粒级钛颗粒的回收较为有利，再通过后续 “重选-再磨-重选”、“重选-再磨-浮选”、“再磨-浮选”工艺，使得钛回收率较高，同时让矿样中的铁含量提高，增加产品的附加值。
品位红土风化砂矿联合选矿工艺

[发明专利]利用定位臂实现构架组焊工艺基准统一的工艺方法-CN201610957123.3有效
发明人：李靓怡;王子栋;张宇 -专利权人：中车长春轨道客车股份有限公司
申请日： 2016-11-02 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： B23K37/00 文献下载
摘要：利用定位臂实现构架组焊工艺基准统一的工艺方法属于轨道车辆转向架焊接基准的确定方法领域，该方法首先制作四个结构相同的定位工装，然后用此四个定位工装定位四个定位臂的位置，再用四个定位臂定位两个侧梁的位置，最终以四个定位工装所确定的几何中心作为新的工艺基准点本发明的方法能够在无需进行多次测量和工艺基准转换的前提下，通过四个定位工装一次性确定出转向架构架的整体工艺基准点O2，从而使后续所有以O2作为工艺基准点的后续构架附属结构的组对工序均具有了统一而准确的工艺基准
利用定位实现构架焊工基准统一工艺方法

[发明专利]改善钨金属研磨后缺陷的方法-CN202210889930.1在审
发明人：陈科成;姜兰 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2022-07-27 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善钨金属研磨后缺陷的方法，包括以下步骤：步骤S1,提供一待沉积金属钨的半导体集成工艺衬底；步骤S2,在S1所述半导体集成工艺衬底上进行钨金属气相沉积；步骤S3,对所沉积钨的半导体集成工艺衬底进行化学机械研磨平坦化处理；步骤S4,对步骤S3所获得衬底进行低温气氛热退火工艺处理；步骤S5：进行后续工艺。本发明通过在半导体集成工艺制造过程中，对所沉积的金属钨进行化学机械研磨平坦化之后进行低温气氛热退火工艺处理；用以解决金属钨暴露在空气中容易与水汽、氧气反应生成聚合物的缺陷，延长工艺等待时间，有利于后续工艺的顺利实施
改善金属研磨缺陷方法

[实用新型]被动元件封装结构-CN201320492008.5有效
发明人：陈石矶 -专利权人：标准科技股份有限公司
申请日： 2013-08-13 - 公布日： 2014-02-05 - 主分类号： H01L23/055 文献下载
摘要：本实用新型揭露一种被动元件封装结构，具有一个模块化的基座，在制作工艺时，能直接于基座上直接加工，因此能在工艺上提供更快速制作流程，节省工艺的成本，对后续产品的进度产生正向效益。
被动元件封装结构

[发明专利]一种重氮盐连续生产快速转化的方法-CN202010156469.X在审
发明人：刘文波;史昭奇 -专利权人：威海韩孚生化药业有限公司
申请日： 2020-03-09 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： C07C245/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种可以避免重氮盐危险的新工艺技术，通过将苯胺类化合物盐溶液和亚硝酸钠溶液双滴加到化合物中，依次进行重氮化和后续化学反应，双滴加保证了重氮盐边生成边进行后续化学反应，可以彻底解决重氮盐制作、储存、使用的安全问题，对于重氮化和后续化学反应的收率可以提高，自动化程度高，可以达到消除危险的目的，是重氮化工艺的彻底革命。
一种重氮盐连续生产快速转化方法

[发明专利]干式蚀刻工艺后的清洗工艺-CN200510119318.2无效
发明人：蔡健华;吴宜静 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2005-11-03 - 公布日： 2007-05-09 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种清洗工艺，适于对一芯片进行干式蚀刻工艺后进行。此干式蚀刻工艺是于一反应室中进行。此清洗工艺用以移除上述干式蚀刻工艺的副产物。此清洗工艺包括将不活泼气体导入反应室中，以清洗反应室。此清洗工艺可以避免后续的金属内连线工艺产生缺陷。
蚀刻工艺清洗

[发明专利]一种合金车轮的制造工艺以及合金车轮-CN201810353667.8在审
发明人：谭超杰;潘小雨;董琦;余海洋;朱小华 -专利权人：东风汽车车轮有限公司;东风汽车车轮随州有限公司
申请日： 2018-04-19 - 公布日： 2018-10-30 - 主分类号： B23P15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种合金车轮的制造工艺以及合金车轮，所述工艺包括：对物料进行熔炼和铸造，形成车轮的铸造毛坯；利用所述铸造毛坯的剩余温度，对所述铸造毛坯进行热旋压，获得车轮的粗制品；对所述粗制品进行后续加工，通过使用该工艺，将熔炼和铸造工序之后所形成的铸造毛坯的剩余温度，作为后续的热旋压工序所需的旋压温度，无需对制件进行额外的加热处理，降低工艺复杂度；并且使得车轮制造过程中所产生的热量能够被合理利用，有效减少车轮制造过程中的热量损失
合金车轮铸造毛坯车轮粗制品制造工艺制造过程熔炼热旋压铸造工艺复杂度成品车轮后续加工加热处理热量损失有效减少旋压制件

[发明专利]沟槽填充方法及半导体器件-CN202110699512.1在审
发明人：邹文;付文;胡杏;许乐 -专利权人：格科半导体（上海）有限公司
申请日： 2021-06-23 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：一种沟槽填充方法及半导体器件，所述方法包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底具有第一沟槽和第二沟槽，所述第一沟槽的深度大于所述第二沟槽的深度；采用化学气相沉积工艺形成第一钨层，所述第一钨层填满所述第一沟槽；采用物理气相沉积工艺形成第二钨层，所述第二钨层覆盖所述第一钨层，且填充所述第二沟槽的一部分。本发明可以有效避免影响后续工艺中金属铝沉积后表面的平整度，降低铝垫的缺陷风险以及外观缺陷，降低后续工艺中的副产物残留风险，提高半导体器件的品质。
沟槽填充方法半导体器件

[发明专利]一种利用磷酸体系从锂云母中选择性浸出锂的方法-CN201611232340.2有效
发明人：郭永兴;王迎春;祝宏帅;曾小毛;欧阳红勇;刘金练;樊磊;刘志成 -专利权人：宜春科丰新材料有限公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： C22B3/06 文献下载
摘要：为了克服现有锂云母矿石提取锂工艺中除杂成本高且不彻底，后续锂产品的纯度不高的技术不足，本发明提供一种利用磷酸体系从锂云母中选择性浸出锂的方法，该制备工艺中使用磷酸溶液或者包括磷酸的混合酸溶液对锂云母进行酸浸取，其可以有效将提锂过程中的杂质离子转化为沉淀进入浸出渣当中，使得后续提锂工艺的成本大幅度降低，且产品纯度明显升高。该工艺处理步骤简单，处理效率高，有很好的工业应用前景。
锂云母磷酸体系浸出提锂工艺处理步骤混合酸溶液锂云母矿石产品纯度处理效率工业应用磷酸溶液杂质离子制备工艺资源提取浸出渣磷酸除杂酸浸沉淀升高转化

[发明专利]一种冷轧废水处理工艺-CN201410313424.3无效
发明人：张卫东;魏国栋;张敏 -专利权人：江苏中金环保科技有限公司
申请日： 2014-07-02 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： C02F9/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种冷轧废水处理工艺，利用多介质过滤器、臭氧接触反应塔、中间水池和生物活性炭滤池对冷轧废水进行深度处理；通过气-水交替反洗方式对多介质过滤器、臭氧接触反应池及生物活性炭滤池进行清洗；气源由风机提供本工艺设备简单，运行可靠，处理效果理想。经过该工艺处理后，出水的CODcr小于30mg/L，SS小于10mg/L，达到排放要求。同时可以出水回用，出水水质可以保证后续回用工艺的稳定工作，降低后续设备的负荷。
一种冷轧废水处理工艺

[实用新型]一种乳酸纳滤膜处理系统-CN202122583792.8有效
发明人：张蔚蔚;俞经福;俞浩洋;程智超;俞能平 -专利权人：安徽普朗膜技术有限公司
申请日： 2021-10-26 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： B01D61/08 文献下载
摘要：本实用新型公开一种乳酸纳滤膜处理系统，包括一级纳滤装置和二级纳滤装置，一级纳滤膜的输入端用于输入乳酸溶液，所述一级纳滤膜装置的浓液输出端连接所述二级纳滤膜装置的输入端，所述二级纳滤膜装置的浓液输出端连接后续工艺，一级纳滤膜装置和二级纳滤膜装置的清液输出端混合后连接后续工艺。本实用新型通过两级纳滤膜的处理，工艺时间短，乳酸溶液迅速通过各个环节，保证了生产工艺系统的稳定运行，乳酸品质得到有效可靠的提升。
一种乳酸滤膜处理系统

[实用新型]一种高精度的注塑模具-CN202321032379.5有效
发明人：梁任湘;余成旺;陈长海;庄永伟 -专利权人：麦格纳汽车镜像（上海）有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B29C45/26 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种高精度的注塑模具，前模仁和后模仁合体且紧固联接后，在组合体上加工工艺基准孔，工艺基准孔为贯穿前模仁和后模仁的通孔，前模仁和后模仁上的工艺基准孔分别作为前模仁和后模仁进行后续精加工的加工基准本实用新型在合模组合体上开的工艺基准孔作为前模仁和后模仁零件后续加工的基准，两个零件具有统一的基准，所生产的前模仁和后模仁精度高，所注塑的注塑件分型线均匀，精度高且美观。
一种高精度注塑模具

[发明专利]基于原位传感器的半导体处理工序控制-CN02812287.9无效
发明人： A·P·桑穆加孙达拉姆;A·T·施瓦姆 -专利权人：应用材料有限公司
申请日： 2002-06-17 - 公布日： 2005-03-30 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：首先，在按照晶片制法参数执行的工艺中，通过原位传感器收集与晶片性能有关的数据。随后，通过修改该制法参数来调整工艺，该制法参数按照由与该晶片性能有关的该原位传感器收集的该数据和由用于预测晶片产出的工艺模型所预测的该结果之间的比较结果来修改。接下来，利用由该原位传感器收集的该数据执行后续工艺。在本发明的至少一些实施例中，该数据可用于在由该设备处理的后续晶片上的流程到流程的控制。
基于原位传感器半导体处理工序控制

[发明专利]酱香型白酒蒸酿工艺-CN201710358981.0在审
发明人：郑国祥;刘清巧;郑勇;郑芹;郑乾;郑健东 -专利权人：贵州省仁怀市茅台镇郑氏酒业有限公司
申请日： 2017-05-19 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： C12G3/12 文献下载
摘要：本发明涉及白酒生产工艺，尤其涉及一种酱香型白酒蒸酿工艺。本工艺中利用切分筛料机快速将酒糟中的结块切碎，并将细料酒糟筛分出来，同时去除酒糟中的部分水分，减少了后续的摊晾时间。
香型白酒工艺