专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]后续图像采集规划和/或后处理-CN201280033271.6有效
  • J·冯贝格;J·塞内加;L·法胡姆;S·戈特曼;T·维克 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2012-06-28 - 2016-10-19 - A61B6/03
  • 一种方法包括:基于第一二维平片投影图像和第二二维平片投影图像规划患者的感兴趣组织的后续三维图像采集,其中,所述第一二维平片投影图像用于规划所述患者的所述感兴趣组织的先前执行的基线三维图像采集,其中,所述第一二维平片投影图像包括对应于在针对所述先前执行的基线三维图像采集的所述第一二维平片投影图像中识别出的至少一个感兴趣区域的信息,其中,所述第一二维平片投影图像包括对应于在针对先前执行的基线三维基线图像采集的所述第一二维平片投影图像中识别出的z轴扫描范围的信息,并且其中,所述第二二维平片投影图像被采集以规划所述后续三维图像采集。
  • 后续图像采集规划处理
  • [发明专利]曝光批次的控制方法和系统-CN202210442530.6在审
  • 郭超;费志平;李玉华;姜冒泉;吴友根;魏育航 - 华虹半导体(无锡)有限公司
  • 2022-04-25 - 2022-07-12 - G03F7/20
  • 本申请公开了一种曝光批次的控制方法和系统,该方法包括:获取曝光设备中当前运行的产品批次的曝光能量;获取后续产品批次的曝光能量和对准精度;当当前运行的产品批次的曝光能量大于参考能量,且后续产品批次的曝光能量小于参考能量时,将后续产品批次中,对准精度的特征值大于等于参考值的排进第一队列,对准精度的特征值小于参考值的排进第二队列,对准精度的特征值越高对对准精度的要求越低;将后续产品批次的作业顺序按照先运行第一队列,后运行第二队列的顺序进行作业本申请通过在确定当前运行的产品批次的曝光能量较高时,将后续产品批次中对对准精度要求不高的优先运行,避免了像差问题,提高了产线的良率。
  • 曝光批次控制方法系统
  • [发明专利]一种水刀切割后续处理装置-CN201611014306.8在审
  • 叶浩勇 - 叶浩勇
  • 2016-11-18 - 2017-02-15 - B24C9/00
  • 本发明公开了一种水刀切割后续处理装置,包括水刀机床、滚轮传送带、挡水箱、干燥箱、出料口、滚筒、电动机、电动机控制器、水槽、储水池、推杆、滑板、下水刷、上水刷、红外对管和微处理器,所述水刀机床中部安装有滚轮传送带,所述水刀机床上半部分设有挡水箱,所述水刀机床右侧连接有干燥箱,所述干燥箱右侧设有出料口,所述出料口右下放连接有滚筒,所述干燥箱右下侧连接有滚轮传送带,该水刀切割后续处理装置通过使用挡水箱来避免水沙溅出,既节约了水沙又方便工人近距离操作与观察,产品进入干燥箱内可以刷下大部分水沙,节约了大量水沙,节省了使用成本,而且产品减少了生锈现象,一定程度地解决了使用水刀切割的弊端。
  • 一种切割后续处理装置

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