专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种表面改性的金属硼化物/三氧化二铝复相陶瓷粉体及其制备方法-CN201310078730.9无效
  • 于志强 - 复旦大学
  • 2013-03-13 - 2013-06-19 - C09C1/40
  • 本发明提供一种高性能的与有机树脂具有良好界面相容性的表面经有机功能团化学合改性的金属硼化物/三氧化二铝(Al2O3)复相陶瓷粉体及其制备方法。本发明将金属硼化物/Al2O3复相陶瓷粉体进行表面有机功能团化学合改性处理,制备出表面具有通过化学合连接的有机功能团的金属硼化物/Al2O3复合粉体。本发明所使用的表面改性剂是偶联剂,通过偶联剂结构中的亲无机物基团与金属硼化物/Al2O3复相陶瓷粉体表面发生羟基反应,使得偶联剂结构中的亲有机物基团通过化学反应连接到复相粉体表面,实现金属硼化物/Al2O3本发明提供的高性能的表面经有机功能团化学合改性的金属硼化物/三氧化二铝(Al2O3)复相陶瓷粉体具有与有机树脂良好界面相容性并提高其耐热性、耐磨性等的结构特点。
  • 一种表面改性金属硼化物氧化二铝复相陶瓷及其制备方法
  • [发明专利]用于氧化硅原子层沉积的嵌入式催化剂-CN201180044692.4无效
  • A·B·马利克 - 应用材料公司
  • 2011-09-02 - 2013-05-15 - H01L21/316
  • 使末端羟基化基板暴露于所述沉积前驱物下以于两个表面结氧之间形成硅桥。所述表面结氧系两个表面结羟基的一部分,且所述沉积前驱物的吸附作用游离出氢。所述硅原子亦与一个或两个附加氧原子化学结,其中所述一个或两个附加氧原子系早已与同一个沉积前驱物分子内的硅化学结。附加氧原子的至少一个进一步直接或通过烃链与所述催化性配位基化学结。所述催化剂的化学嵌入性质提高每个循环的沉积作用,从而减少前驱物的暴露次数以生长相同厚度的膜。
  • 用于氧化原子沉积嵌入式催化剂

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