“内务处理”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果3856977个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]处理方法和处理装置-CN201911361392.3在审
发明人：李成林 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2019-12-24 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： G06F16/958 文献下载
摘要：本公开提供了一种处理方法，包括：将获得的第一请求信息传递给电子设备的第一功能组件，其中，第一功能组件至少通过硬件方式获取资源信息，以通过第一功能组件获取第一请求信息请求的资源信息；在获得第一请求信息请求的资源信息的情况下，将资源信息处理成视频流动态加载至电子设备的至少部分显示界面。另外，本公开还提供了一种处理装置。
处理方法装置

[发明专利]处理方法及处理装置-CN202110335746.8在审
发明人：宋祎斐;王惠 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2021-03-29 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G06F1/3206 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种处理方法及处理装置，所示处理方法包括：响应于外部视频输入信号的接入，控制电子设备由第一处理系统切换至第二处理系统，以处理该外部视频输入信号；根据显示控制单元的工作状态，调整第二处理系统对该外部视频输入信号的处理；其中：第一处理系统和第二处理系统为不同的操作系统。通过本申请实施例提出的处理方法及处理装置，可以实现在外部输入信号接入时，控制电子设备由第一处理系统切换至第二处理系统，从而停用第一处理系统，避免额外的能量消耗，同时根据显示控制单元的工作状态，通过第二处理系统处理外部视频输入信号
处理方法装置

[发明专利]处理装置及处理方法-CN202080005934.8在审
发明人：内田健哉;福井博之;植松育生;岩本武明;权垠相 -专利权人：株式会社东芝;铠侠股份有限公司;国立大学法人东北大学
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：根据实施方式，本申请提供一种处理装置，其对在包含硅及卤族元素的原料物质的反应或者包含硅的原料物质与包含卤族元素的原料物质的反应中产生的副产物进行处理。处理装置具备处理液罐、处理槽、供给机构和排气机构。在处理液罐中贮液包含碱性的水溶液处理液。向处理槽中投入包含副产物被处理构件。供给机构从处理液罐向处理槽供给处理液，通过所供给的处理液，在处理槽中对副产物进行处理。排气机构将通过处理液与副产物的反应而产生的气体从处理槽排气。
处理装置方法

[发明专利]处理设备和处理方法-CN202011038615.5在审
发明人：迪特马尔·威兰;S·韦勒;E·J·南宁加;F·赫尔;D·阿克曼;U·路德维希 -专利权人：杜尔系统股份公司
申请日： 2020-09-28 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： B05B16/40 文献下载
摘要：本发明提供一种处理设备，其简单构造并且能够高效地进行工件处理，本发明提出，处理设备包括用于容纳待处理的工件的处理区域和用于对待处理的工件执行一个或多个动作的一个或多个动作装置。其中所述处理设备可选地包括至少一个访问区域，至少在所述一个或多个动作装置的访问状态中，从所述访问区域和/或在所述访问区域处能接近所述一个或多个动作装置。
处理设备方法

[发明专利]处理设备和处理方法-CN202011038635.2在审
发明人：迪特马尔·威兰;S·韦勒;E·J·南宁加;F·赫尔;D·阿克曼;U·路德维希 -专利权人：杜尔系统股份公司
申请日： 2020-09-28 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： B05B16/00 文献下载
摘要：本发明提供一种处理设备，其简单构造并且能够高效地进行工件处理，本发明提出，处理设备包括用于容纳待处理的工件的处理区域和用于对待处理的工件执行一个或多个动作的一个或多个动作装置。
处理设备方法

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202011026222.2在审
发明人：定蛇市朗;大石和人;小宫山雄木;松井聪志;山田美穗 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： G06Q10/08 文献下载
摘要：本发明涉及处理装置和处理方法。根据本发明的处理装置包括屏幕输出单元，该屏幕输出单元生成并输出库存状态屏幕，在该库存状态屏幕上显示供应链中多个库存检查点的每一个库存检查点处的库存状态。
处理装置方法

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202080028311.2在审
发明人：田之上隼斗;山下阳平;森弘明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-04-07 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： B23K26/53 文献下载
摘要：一种对处理对象体进行处理的处理装置，该处理装置包括：改性部，其通过向所述处理对象体的内部照射激光束来沿着面方向形成多个改性层；以及控制部，其至少对所述改性部的动作进行控制，所述控制部控制所述改性部，以形成
处理装置方法

[发明专利]处理方法和处理装置-CN202111106934.X在审
发明人：刘威;许枫;朱麟;杨达坤 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种处理方法，包括：获得待检测设备的处理图像，其中，所述处理图像为通过对所述待检测设备的初始图像进行第一处理得到的，所述第一处理至少包括根据与所述初始图像对应的缺陷参数对所述初始图像进行缩放处理；对所述处理图像进行第二处理，生成目标图像，以通过目标缺陷检测方式对所述目标图像进行分析，实现对所述待检测设备的缺陷检测。本申请实施例的处理方法，操作方便，能够根据缺陷参数方便的对初始图像进行缩放，获得合适的处理图像，从而提高算法的识别速度，同时还能避免降低算法的精度，再进一步对处理图像进行第二处理，生成目标图像，以对处理图像进行校准
处理方法装置

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202111049655.4在审
发明人：入宇田启树;千叶洋一郎;远藤笃史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-08 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明涉及处理装置和处理方法。提供一种能够扩大膜厚的面内分布的调整范围的技术。本公开的一技术方案的处理装置包括：处理容器，其具有大致圆筒形状，在侧壁形成有排气狭缝；以及多个气体喷嘴，其沿着所述处理容器的所述侧壁的内侧在铅垂方向上延伸设置，该多个气体喷嘴相对于将所述处理容器的中心和所述排气狭缝的中心连结的直线对称配置，该多个气体喷嘴分别向所述处理容器内喷出相同的处理气体。
处理装置方法

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202111055269.6在审
发明人：入宇田启树;坂下训康 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明涉及处理装置和处理方法。提供一种能够控制基板上的反应活性种的浓度分布的技术。本公开的一技术方案的处理装置包括：大致圆筒形状的处理容器；处理气体喷嘴，其沿着所述处理容器的侧壁的内侧在该处理容器的长度方向上延伸设置；排气构造体，其与所述处理气体喷嘴相对地形成于所述处理容器的相反侧的侧壁；以及浓度调整用气体喷嘴，其朝向所述处理容器的中心喷出浓度调整用气体，在自所述长度方向俯视时，所述浓度调整用气体喷嘴在以所述处理容器的中心为基准的中心角中设于所述排气构造体所形成的角度范围内。
处理装置方法

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202080050499.0在审
发明人：森弘明;山下阳平;田之上隼斗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： B23K26/50 文献下载
摘要：一种处理装置，对处理对象体进行处理，所述处理装置具备：保持部，其保持所述处理对象体；改性部，其向所述处理对象体的内部照射激光，来沿面方向形成多个内部面改性层；以及控制部，其控制对所述处理对象体形成所述内部面改性层的形成动作，其中，所述控制部控制所述内部面改性的形成动作，以从所述处理对象体的径向外侧向内侧螺旋状地形成所述内部面改性层，并且使在向所述处理对象体的径向内侧形成所述内部面改性层时的所述保持部与被保持于该保持部的处理对象体之间的偏心量比在向所述处理对象体的径向外侧形成所述内部面改性层时的所述偏心量小
处理装置方法

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202080050517.5在审
发明人：田之上隼斗;山下阳平;山胁阳平;森弘明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： B23K26/50 文献下载
摘要：一种处理装置，对处理对象体进行处理，所述处理装置具备：保持部，其保持所述处理对象体；保持部移动机构，其使所述保持部沿水平方向移动；改性部，其向所述处理对象体的内部照射激光，来螺旋状地形成多个内部面改性层其控制所述内部面改性层的形成动作，其中，所述控制部控制所述保持部和所述改性部的动作，以使所述保持部和所述改性部分担地进行与所述内部面改性层的形成有关的螺旋加工移动以及校正所述保持部与被保持于该保持部的处理对象体之间的偏心量的偏心追踪移动
处理装置方法

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202080050532.X在审
发明人：田之上隼斗;山下阳平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： B23K26/53 文献下载
摘要：一种处理装置，对处理对象体进行处理，所述处理装置具备：改性部，其向所述处理对象体的内部照射激光，来沿面方向形成多个改性层；以及控制部，其至少控制所述改性部的动作，其中，所述控制部控制所述改性部，以形成周缘改性层、第一内部面改性层以及第二内部面改性层，所述周缘改性层成为将所述处理对象体的作为去除对象的周缘部剥离的基点，所述第一内部面改性层在所述周缘改性层的径向内侧形成为与所述周缘改性层呈同心圆的环状，所述第二内部面改性层在所述第一内部面改性层的径向内侧形成为螺旋状
处理装置方法

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202080050598.9在审
发明人：田之上隼斗;山下阳平;森弘明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： B23K26/402 文献下载
摘要：一种处理装置，具备：保持部，其保持处理对象体；改性部，其向处理对象体的内部照射激光，来沿面方向形成多个聚光点；移动机构，其使保持部和改性部在水平方向上相对地移动；旋转机构，其使保持部和改性部相对地旋转；以及控制部，其控制在处理对象体形成聚光点的形成动作，其中，在一边通过所述旋转机构使被保持于所述保持部的所述处理对象体相对于所述改性部相对地旋转一边从所述改性部向所述处理对象体的内部周期性地照射激光并且通过所述移动机构使所述改性部相对于所述保持部在径向上相对地移动来形成所述聚光点时，所述控制部基于所述处理对象体的相对转速和所述激光的照射间距来控制在所述处理对象体的面方向上的不同位置同时形成的所述聚光点的数量和配置。
处理装置方法

[发明专利]处理装置和处理方法-CN202111289390.5在审
发明人：泽地淳;小笠原幸辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置和处理方法，用于削减在搬送室的周围设置有多个气体处理室的基板的处理装置中的向所述气体处理室供给处理气体的气体箱的设置数量。对基板进行处理的处理装置具有：多个处理室，在所述多个处理室中在期望的处理气体的气氛下对所述基板进行处理；多个罐单元，所述多个罐单元与多个所述处理室分别对应地设置，所述罐单元具备用于临时储存所述处理气体的多个罐；以及气体箱，其经由所述罐单元向所述处理室供给处理气体。
处理装置方法

首页
«上一页
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top