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[发明专利]一种曲面屏磁控溅射组件-CN201911258181.7在审
发明人：孙桂红;祝海生;黄乐;陈立;唐洪波;唐莲;凌云;徐璐 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2019-12-10 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种曲面屏磁控溅射组件，包括公自转伞具转架和多组阴极组件，多组阴极组件与公自转伞具转架不接触，多组阴极组件沿公自转伞具转架的周向分布，每组阴极组件包括两个阴极装置，每个阴极装置包括磁棒，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节，公自转伞具转架包括自转架和多组用于装载基片的公自转架，自转架绕其中心轴可自转的设置，公自转架可自转的安装在自转架上，自转架自转时带动多组公自转架绕所述中心轴公转。本发明基片架带动基片自转同时公转，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节的设置，溅射沉积更均匀。
自转公自转伞具转架多组阴极阴极组件磁棒磁场方向阴极装置可调节中心轴磁控溅射溅射沉积周向分布不接触基片架装载

[实用新型]一种曲面屏磁控溅射组件-CN201922198954.9有效
发明人：孙桂红;祝海生;黄乐;陈立;唐洪波;唐莲;凌云;徐璐 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2019-12-10 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种曲面屏磁控溅射组件，包括公自转伞具转架和多组阴极组件，多组阴极组件与公自转伞具转架不接触，多组阴极组件沿公自转伞具转架的周向分布，每组阴极组件包括两个阴极装置，每个阴极装置包括磁棒，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节，公自转伞具转架包括自转架和多组用于装载基片的公自转架，自转架绕其中心轴可自转的设置，公自转架可自转的安装在自转架上，自转架自转时带动多组公自转架绕所述中心轴公转。本实用新型基片架带动基片自转同时公转，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节的设置，溅射沉积更均匀。
一种曲面磁控溅射组件

[实用新型]一种自旋转取纸装置-CN202021226979.1有效
发明人：顾昱 -专利权人：上海紫丹食品包装印刷有限公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B65H3/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种自旋转取纸装置，包括支架、公转组件、公自转组件取纸组件、动力组件及公自转传动组件，其中：公转组件具有可相对于支架转动的动力轴以及随动力轴摆动的支撑臂；公自转组件具有可转动地连接于支撑臂上的自转轴；取纸组件固定于自转轴上，并随自转轴同步运动，用于纸片的取放；动力组件用于驱动动力轴转动；公自转传动组件用于将公转组件的转动运动传动至自转轴，并驱动自转轴转动。
一种旋转装置

[发明专利]一种多弧离子镀设备上能够实现公自转和自转的工装-CN200910130878.6有效
发明人：吴小梅;郭万生;商晓宇;王晋平 -专利权人：中国航空工业第一集团公司北京航空材料研究院
申请日： 2009-04-17 - 公布日： 2009-10-21 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种多弧离子镀设备上能够实现公自转和自转的工装。本发明通过工装结构上下表面与主轴的配合，实现工装公自转和仅自转两种旋转模式。当工装结构的大齿轮与主轴固定时，主轴带动大齿轮旋转，大齿轮又带动小齿轮旋转，小齿轮又带动相应的双用工位轴旋转，从而实现工装的自转旋转模式。当工装结构的大盘与主轴固定时，大齿轮被定位销固定住，轴带动大盘旋转，大盘又带动小齿轮旋转，小齿轮又带动相应的双用工位轴旋转，从而实现工装的公自转旋转模式。满足进行大批工件沉积及单靶新型涂层的沉积。本发明方法简单易行，安装方便，专业组技术人员已经完全掌握了该工装的制备，能很好满足离子镀设备对工装公自转及仅自转旋转模式的要求。
一种离子镀设备能够实现自转工装

[实用新型]公自转转架装置及真空镀膜机-CN202320546002.5有效
发明人：裴蓓;渡边优;余龙;吕启蒙;曹永军 -专利权人：光驰科技（上海）有限公司
申请日： 2023-03-20 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种公自转转架装置及真空镀膜机，涉及真空处理技术领域。该公自转转架装置包括自转轴、公转轴、公转盘和自转子轴，自转轴穿设于公转轴内且能相对公转轴转动，公转轴通过公转驱动件驱动，公转盘设于公转轴的端部；自转子轴设置有多个，多个自转子轴间隔布设于公转盘的周向；自转轴远离公转盘的一端与自转驱动件连接，另一端伸入公转盘内部，并通过传动机构与多个自转子轴连接，自转子轴与公转盘外部的工件架连接，公转盘包括第一护板和安装架，公转轴设于第一护板的中心，公转盘内设有容纳腔，传动机构位于容纳腔内。该公自转转架装置产生的颗粒少，密封性好，避免颗粒影响外部环境。
转转装置真空镀膜

[发明专利]一种含有纳米竹炭因子的涂料生产系统-CN202310029629.8在审
发明人：邢建华;邢帅;刘凯 -专利权人：河南驼峰防水科技有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B01F33/81 文献下载
摘要：本发明涉及涂料加工技术领域，本发明公开了一种含有纳米竹炭因子的涂料生产系统，包括垂直方向由下至上依次分布的收纳底座、有序综合混合仓、初始混合仓，所述二级混合料仓的下方均安装有公自转均匀下料器，所述公自转均匀下料器随着所述二级混合料仓公转定量为甩料器输送物料，所述甩料器转动连接在所述公自转均匀下料器的下方；利用正反转作用，公自转均匀下料器结合动力传输仓将驱动杆的主动力进行传递，利用扇叶转动后液体的漩涡形态，通过公自转均匀下料器在公转的同时，将物料通过甩料器向四周分撒甩开
一种含有纳米因子涂料生产系统

[发明专利]一种用于电流变抛光的公自转组合式运动抛光工具-CN201010105731.4无效
发明人：程灏波;文永富;冯云鹏 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2010-02-04 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于电流变抛光的公自转组合式运动抛光工具，包括阳极和阴极抛光盘、自转轴、公转轴、自转和公转电机、齿轮组、轴承、螺栓、支架、电刷、绝缘片等。阳极和阴极抛光盘之间用绝缘片隔开，正对放置组成抛光轮，并通过过盈配合固定在自转轴上；自转轴通过轴承安装在支架上；公转轴底部与支架固定。自转和公转电机分别通过控制自转轴和公转轴的转动来控制抛光轮作公自转组合式运动。通电时，电流变液聚集在抛光轮表面，形成柔性抛光头，当它与工件接触并发生相对运动，即可实现抛光。本发明提及的抛光工具的抛光轮能实现公自转运动，可有效克服抛光轨迹效应以及提高抛光区域中心的去除率，适用于复杂光学表面的加工。
一种用于流变抛光自转组合式运动工具

[实用新型]同轴公自转减速电机-CN201920576118.7有效
发明人：胡军;蔡东;金新华;邹毅婷;马晓锋;金超 -专利权人：江苏国茂减速机股份有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： H02K7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种同轴公自转减速电机，包括一台自转减速电机和一台公转减速电机，自转减速电机和公转减速电机均为斜齿轮‑弧齿锥齿轮减速电机，自转减速电机的输出法兰与公转减速电机的透盖固定，自转减速电机的输出轴为空心轴，自转实心轴通过平键联接传递自转减速电机的输出转速跟扭矩，自转实心轴穿过公转减速电机的空心的公转轴实现两台电机的并联连接，该电机结构紧凑，高度低，便于整机安装且成本降低；同时，在电机内还增加了密封设计在使用过程中保证润滑油不会进入搅拌釜内
减速电机自转公自转实心轴同轴电机本实用新型弧齿锥齿轮并联连接电机结构密封设计输出法兰输出转速整机安装公转轴搅拌釜空心轴润滑油输出轴斜齿轮平键透盖紧凑联接保证穿过传递

[实用新型]公自转圆磨头-CN202022389938.0有效
发明人：王明成 -专利权人：青岛快木数控设备有限公司
申请日： 2020-10-25 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： B24B47/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了公自转圆磨头，包括机架，所述机架上固定安装有公转电机以及减速器一，所述公转电机与减速器一之间通过联轴器相互连接，所述减速器一的输出端固定连接有输出带轮一，所述机架上通过安装杆转动安装有多个公转带轮优点在于：本实用新型可在圆磨头沿公转盘进行公转的过程中，通过自转电机、联动机构与多个同步机构的配合，使得圆磨头同时进行自转操作，从而可提高对物件的砂光加工效果，避免出现加工死角的问题。
自转圆磨头

[实用新型]公自转混合机-CN201020298552.2无效
发明人：高庆飞;吴科达;孙前库 -专利权人：无锡市东炬工业设备有限公司
申请日： 2010-08-20 - 公布日： 2011-01-19 - 主分类号： B01F7/14 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种公自转混合机，包括传动机构、固定支架、转动支架、料斗支架、料斗，所述转动支架横向支撑在所述固定支架上，所述料斗支架纵向支撑在所述转动支架上，其特征在于：所述固定支架上安装有与转动支架转动轴同心的固定齿轮所述横向转动轴的另一端安装扇形齿轮，所述料斗支架的支撑轴上安装与所述扇形齿轮啮合的扇形齿轮，转动支架转动时通过传动齿轮带动横向转动轴转动，横向转动轴通过扇形齿轮带动料斗支架的支撑轴转动，实现了料斗支架的自转
自转混合

[实用新型]公自转多功能装置-CN94238992.1无效
发明人：林朝同 -专利权人：林朝同
申请日： 1994-07-04 - 公布日： 1995-07-12 - 主分类号： F16H3/44 文献下载
摘要：一种公自转多功能装置，动力装置A，带动主轴上的轴筒件旋转，轴筒件上设有模座承件及模座，通过齿轮啮合，模座承件可同时绕水平轴与垂直轴旋转；动力装置B通过心轴带动轴筒件内部的齿轮组、上、下垂直轴带动模座旋转
自转多功能装置

[发明专利]一种公自转轮式研抛磨头-CN201710338920.8有效
发明人：万勇建;陈祥;刘海涛;黄智;赵文川 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2017-05-15 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种公自转轮式研抛磨头，包括公自转机构和电动控制机构。所述公自转机构中公转轴线与自转轴线相互垂直，正交于研抛轮中心；所述研抛轮自转轴上安装有齿轮；所述齿轮在围绕公转轴线公转的同时还为研抛轮提供自转动力。在研抛的时候通过自转、公转的配合以及压力的动态调控，实现高效、高精度的去除效果。
一种自转轮式研抛磨头

[发明专利]一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置-CN201110124410.3有效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;左巍;赵广木 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-05-13 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。本发明所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
一种用于自转流变抛光中的循环装置

[实用新型]一种公自转式集群磁流变抛光装置-CN202320445089.7有效
发明人：卢明明;刘宇阳;林洁琼;杨亚坤;刘长青;杜永盛 -专利权人：刘宇阳
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明属于超精密抛光以及复杂曲面光学元件加工技术领域，特别是涉及一种基于磁场发生装置公自转的集群磁流变抛光装置，通过在抛光盘的下方加入行星齿轮组的方式，使磁场发生装置可以围绕主轴做公自转运动。磁场发生装置在做公自转运动的同时，会影响上方磁流变液形成微磨头；工件固定在夹具组件上并与下方微磨头形成相对运动。本发明提供的公自转式磁流变抛光装置及方法，通过使抛光轨迹复杂化，提升了抛光效果；通过磁场发生装置与抛光盘内磁流变液的差速旋转实现了集群磁流变抛光时磨料的实时更新，提升了抛光效率。
一种自转集群流变抛光装置

[实用新型]一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置-CN201120153455.9无效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;左巍;赵广木 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-05-13 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。本实用新型所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
一种用于自转流变抛光中的循环装置

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