专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]多功能复合机-CN201420146416.X有效
  • 乔相鸣;崔晓明;马艳超;赵国伟 - 郑州华美彩印纸品有限公司
  • 2014-03-28 - 2014-08-13 - B32B37/10
  • 本实用新型涉及复合机,特别涉及一种多功能复合机,包括用于供应基材基材放卷装置和用于给所述基材涂胶的基材胶装置,还包括用于供给薄膜的薄膜放卷装置和用于给薄膜放卷装置供给的薄膜涂胶的薄膜胶装置,所述薄膜胶装置设置在所述基材胶装置的前段,所述基材胶装置与薄膜胶装置之间设有用于将基材和薄膜压合复合的压合导辊。使用时,使薄膜先经过薄膜胶机构涂胶,再依靠压合导辊与基材压合复合,即可实现卡纸复合,需要进行普通复合时,压合导辊能够作为仅具有导向功能的导辊使用,经基材胶装置涂胶后到后段工序进行复合,无论是薄膜涂胶还是纸张涂胶够能够依靠一台机器实现
  • 多功能复合机
  • [实用新型]一种易撕无痛电极片-CN201520021147.9有效
  • 曾义成 - 成都新澳冠医疗器械有限公司
  • 2015-01-13 - 2015-07-29 - A61N1/04
  • 本实用新型公开了一种易撕无痛电极片,涉及一种医疗用外用品,解决了电极片从人皮肤揭下时产生撕裂疼痛的技术问题,本实用新型包括胶布基材,所述胶布基材表面设置有若干通孔,通孔所占面积至少为胶布基材面积的四分之一,在胶布基材设置有电极胶布基材,在胶布基材下表面涂有导电凝胶,导电凝胶外覆盖有形状和大小与胶布基材相配合离型纸,电极胶布基材通过胶布基材的通孔经过导电凝胶与离型纸连接,与现有电极片相比本实用新型有简单合理
  • 一种无痛电极
  • [实用新型]一种易撕无痛医用敷贴-CN201520021309.9有效
  • 曾义成 - 成都新澳冠医疗器械有限公司
  • 2015-01-13 - 2015-07-29 - A61F13/02
  • 本实用新型公开了一种易撕无痛医用敷贴,涉及一种医疗用外用品,解决了电极片从人皮肤揭下时产生撕裂疼痛的技术问题,本实用新型包括下层胶布基材,所述下层胶布基材表面设置有若干通孔,通孔所占面积至少为胶布基材面积的五分之一,在下层胶布基材设置有上层胶布基材,在下层胶布基材下表面涂有胶或者药膏,胶或者药膏外覆盖有形状和大小与胶布基材相配合离型纸,上层胶布基材通过胶布基材的通孔与离型纸连接,与现有医用敷贴相比本实用新型有简单合理
  • 一种无痛医用敷贴
  • [发明专利]压力按键-CN201310551786.1有效
  • 周嘉宏;侯智升 - 环球水泥股份有限公司
  • 2013-11-08 - 2014-05-21 - H01H13/78
  • 本发明公开了一种压力按键,包含电路基材,该电路基材包含上层基材、下层基材电极、下电极、隙缝和压力感测环,电极设置于上层基材的下表面;下电极对位于电极,设置于下层基材的上表面;隙缝设置于电极与下电极之间;压力感测环设置于上层基材与下层基材之间,与电极呈同心圆设置。
  • 压力按键
  • [实用新型]涂布均匀的印刷涂布机-CN201320201830.1有效
  • 郑明成 - 郑明成
  • 2013-04-08 - 2013-08-28 - B41F23/00
  • 本实用新型涉及到涂布均匀的印刷涂布机,包括输送带、设置在输送带上的基材、设置在基材的用于涂布基材的涂布筒、设置在基材下方的料盒、设置在基材前进方向的干燥器以及收卷基材的收卷器,所述涂布筒固定在转轴,所述涂布筒还设置有高度调节装置,本实用新型涂布的涂料均匀,涂布后的质量较好。
  • 均匀印刷涂布机
  • [发明专利]曝光装置-CN202111576057.2在审
  • 刘萧松;李克强;吴志阳;卢毅 - 宁德时代新能源科技股份有限公司
  • 2021-12-21 - 2023-06-30 - G03F7/20
  • 曝光装置包括输送机构和曝光机构;输送机构用于输送基材基材的表面涂有光刻胶;曝光机构包括曝光源和曝光件,曝光源用于向基材提供光线;曝光件包括与基材相对的曝光段,曝光段位于曝光源与基材之间并贴近基材设置,曝光段具有允许光线入射至基材的透光部和阻止光线入射至基材的遮光部,曝光段被配置为使透光部和遮光部与基材保持同步运动。曝光件设有遮光部和透光部的部分相对基材同步运动,实现在输送基材的过程中被曝光机构曝光处理,提高曝光效率。在基材输送过程中,遮光部和透光部相对基材静止,能够保证曝光件的图形高速且完全曝光至基材,且图形一致性好。
  • 曝光装置

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