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- [发明专利]一种晶圆双面涂覆干燥一体生产线-CN202211112621.X在审
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赵刚;宋成成;李虹
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苏州瑞红集昕科技有限公司
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2022-09-13
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2023-01-10
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H01L21/67
- 本发明公开了一种晶圆双面涂覆干燥一体生产线,涉及晶片涂覆技术领域,包括上料单元,所述上料单元的一侧外表面设置有A面涂覆单元,所述A面涂覆单元的一侧外表面设置有A面干燥单元,所述A面干燥单元的一端外表面设置有反转单元,所述反转单元的一侧外表面设置有B面涂覆单元,所述B面涂覆单元的一侧外表面设置有B面干燥单元,所述B面干燥单元的一侧外表面设置有下料单元。本发明所述的一种晶圆双面涂覆干燥一体生产线,设有上料单元、A面涂覆单元、A面干燥单元、反转单元、B面涂覆单元、B面干燥单元与下料单元,具有涂覆效率高、涂覆均匀、厚度可调、不沉淀、不堵塞、不浪费原料、碎片率低的优点
- 一种双面干燥一体生产线
- [发明专利]底涂辊涂机主机-CN201410578459.X有效
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刘春;徐征
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无锡市众程通用机电有限公司
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2014-10-24
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2015-02-04
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B05C1/08
- 本发明涉及一种底涂辊涂机主机,包括面涂机构和背面涂敷机构;其特征是:所述背面涂敷机构包括背涂调节机构和背涂辊支架,背涂调节机构和背涂辊支架之间横向设置第二直线导轨,第二直线导轨上设置第二滑块,第二滑块固定在背涂带料辊支架上;所述面涂机构包括面涂支架,面涂支架底部设置第三滑块,第三滑块与辊涂机机架上水平设置的第三直线导轨相配合,面涂支架上表面安装第四直线导轨,第四直线导轨上设置第四滑块,第四滑块固定在面涂辊支架的底部;在所述面涂辊支架上表面安装第五直线导轨,第五直线导轨上设置第五滑块,第五滑块固定在面涂带料辊支架的底部。
- 底涂辊涂机主
- [实用新型]底涂辊涂机主机-CN201420623331.6有效
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刘春;徐征
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无锡市众程通用机电有限公司
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2014-10-24
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2015-03-18
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B05C1/08
- 本实用新型涉及一种底涂辊涂机主机,包括面涂机构和背面涂敷机构;其特征是:所述背面涂敷机构包括背涂调节机构和背涂辊支架,背涂调节机构和背涂辊支架之间横向设置第二直线导轨,第二直线导轨上设置第二滑块,第二滑块固定在背涂带料辊支架上;所述面涂机构包括面涂支架,面涂支架底部设置第三滑块,第三滑块与辊涂机机架上水平设置的第三直线导轨相配合,面涂支架上表面安装第四直线导轨,第四直线导轨上设置第四滑块,第四滑块固定在面涂辊支架的底部;在所述面涂辊支架上表面安装第五直线导轨,第五直线导轨上设置第五滑块,第五滑块固定在面涂带料辊支架的底部。
- 底涂辊涂机主
- [发明专利]一种硅碳负极极片的制作方法-CN201710966125.3在审
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陈萍;马留可;李慧
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合肥国轩高科动力能源有限公司
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2017-10-17
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2018-03-20
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H01M4/04
- 本发明公开了一种硅碳负极极片的制作方法,包括如下步骤将硅碳负极浆料均匀涂覆在铜箔集流体的两面得到硅碳负极极片,其中,铜箔集流体上带有均匀分布的微孔,铜箔集流体的一面为A面,另一面为B面;涂覆工艺为先在A面涂覆重量不超过1/4面密度的硅碳负极浆料,红外烘干,再在A面涂覆剩余的硅碳负极浆料,烘干,然后涂覆B面,烘干得到硅碳负极极片;或先在A面涂覆重量不超过1/4面密度的硅碳负极浆料,红外烘干,然后涂覆B面,烘干,再在A面涂覆剩余的硅碳负极浆料,烘干得到硅碳负极极片。本发明操作简单,制备得到的硅碳负极极片具有较高的涂覆量和压实密度。
- 一种负极制作方法
- [发明专利]组合式涂布设备及涂布方法-CN202310019945.7在审
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方志远;郭晓彬;郭晓春
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广东聚德机械有限公司
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2023-01-06
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2023-04-18
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B05C9/14
- 本发明揭示了的一种组合式涂布设备及涂布方法包括传输组件、涂料组件、以及烘干组件,传输组件对物料进行传输;涂料组件包括正涂单元及逆涂单元,正涂单元和逆涂单元依次设置于传输组件的传输路径上,且正涂单元对物料的一面进行正涂,逆涂单元对物料正涂的一面进行逆涂;烘干组件设置于传输组件的传输路径上,且位于逆涂单元远离正涂单元的一侧,并对物料涂料面进行烘干。本申请通过设置由正涂单元和逆涂单元组合而成的涂布组件,从而在对物料一面进行涂布时,能先对物料一面进行正涂,然后再对物料的同一面进行逆涂,使得能通过逆涂补偿正涂所存在的表面效果差以及碗点多的缺陷,从而在保障涂布效率的基础上
- 组合式布设方法
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