专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]对准标记及圆分片方法-CN202111066009.9有效
  • 周宏玉;龙春艳 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2021-09-13 - 2022-02-15 - H01L23/544
  • 本发明提供一种对准标记及圆分片方法,其中,所述对准标记包括对位标记和切割标记,所述对位标记和所述切割标记均位于一圆的切割道区域内,且所述切割标记沿所述切割道区域内每条切割道的延伸方向贯穿所述切割道;所述对准标记在所述圆的金属层的图形化工艺中形成;所述圆分片方法沿所述切割标记切割所述圆,得到若干个芯片。本发明在金属层的图形化工艺中形成的对准标记包括沿切割道的延伸方向贯穿的切割标记,以作为圆分片过程中的切割切口,减少甚至避免了圆分片过程中金属层被切割时,卷边或部分脱离产生的金属碎屑影响芯片性能,同时
  • 对准标记分片方法
  • [发明专利]一种圆便捷升降夹紧的化学气相沉积设备-CN202110985086.8有效
  • 封拥军;赵美英;崔世甲;宋维聪 - 上海陛通半导体能源科技股份有限公司
  • 2021-08-26 - 2021-11-09 - C23C16/458
  • 本发明提供一种圆便捷升降夹紧的化学气相沉积设备,包括腔体、基座、夹紧结构、升降带动结构及升降驱动装置。本发明采用边缘挤压夹紧方式实现圆固定,夹紧力度可通过调节升降带动结构的重量进行精确控制,可避免出现夹持过松或过紧导致的滑片或变形问题。升降带动结构具有小巧、微动和可脱离的特点,可方便快捷实现圆与基座面板保持同步旋转,并且在旋转过程中不干涉升降驱动装置和其他周围零部件,从而提高了圆出入腔体的位置精度,为后道工艺提供良好的位置条件。此外,夹紧结构可与圆升降装置采用一体化结构设计,在完成升降圆的同时配合完成圆的不同夹持状态,不仅节约时间,还使得设备的结构简单化,有利于降低设备整体功耗。
  • 一种便捷升降夹紧化学沉积设备
  • [发明专利]一种共贴装设备-CN202111492395.8有效
  • 邓燕;张延忠;赵永先 - 泰姆瑞(北京)精密技术有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-03-08 - H05K3/34
  • 本发明涉及一种共贴装设备,包括机架平台、供料平台,包括第一贴装头,所述第一贴装头可相对所述机架平台做X向和Z向运动,所述第一贴装头用于拾取元件,并贴装元件;第二贴装头,所述第二贴装头可相对所述机架平台做X向和Z向运动,所述第二贴装头用于从所述供料平台拾取元件,并将元件进行运送;调整平台,所述调整平台可相对所述机架平台做X向和Y向运动,并可做旋转运动,所述第一贴装头由所述调整平台上拾取元件进行贴装;共平台,所述共平台可相对所述机架平台做Y向运动,并可做旋转运动,所述共平台用于元件贴装和共焊接。本发明能够实现贴装和共,有效保证共质量,提高作业效率。
  • 一种共晶贴装设
  • [发明专利]一种圆等离子切割保护液及其制备方法与用途-CN202110704136.0有效
  • 侯军;贺剑锋 - 浙江奥首材料科技有限公司
  • 2021-06-24 - 2022-03-25 - C09D133/00
  • 本发明提供一种圆等离子切割保护液及其制备方法与用途。本发明圆等离子切割保护液包括重量配比如下的各组分:水溶性树脂5‑40份;润湿剂0.1‑2份;消泡剂0.1‑2份;自由基捕捉剂0.1‑2份;有机溶剂5‑20份;水34‑89.7份。本发明圆等离子切割保护液能够在圆表面快速成膜,具有良好的耐热性和可移除性。在圆加工时采用本发明保护液,能够有效避免冷凝后的硅蒸气或其他在加工过程中产生的碎屑沉积在芯片表面;同时本发明圆等离子切割保护液具有较高的热稳定性,能够避免由于激光切割的热效应或在较高工作温度下进行等离子切割时,保护膜分解导致圆表面直接暴露在外部环境下,有效提高产品的可靠性和良率。
  • 一种等离子切割保护及其制备方法用途
  • [发明专利]大尺寸圆兆声清洗系统-CN202210024372.2有效
  • 咸威;咸寿荣 - 北京东方金荣超声电器有限公司
  • 2022-01-11 - 2022-04-01 - B08B3/12
  • 本发明涉及半导体清洗技术领域,提供一种大尺寸圆兆声清洗系统,包括:座体;转动座,可转动地设置于座体;振荡器,与转动座连接;第一驱动机构,用于驱动转动座转动;换能装置,用于进行声电转换,并与振荡器连接;第二驱动机构,用于与圆的第一端面连接并驱动圆转动,第二驱动机构与振荡器相对设置,以使圆的第二端面朝向振荡器并与换能装置的运行轨迹相对;液体输送机构,设有排液口,排液口朝向振荡器;控制组件,与换能装置连接并用于控制换能装置发射的声能大小,以使圆受到均匀的声波能量。通过旋转移动的方式扫描圆,换能装置的尺寸不再需要跟圆的尺寸相匹配,可降低压电陶瓷片的制造难度。
  • 尺寸晶圆兆声清洗系统
  • [发明专利]圆切割晶片数计算方法及计算设备-CN201910836284.0有效
  • 萧礼明 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2019-09-05 - 2022-04-08 - G06T7/11
  • 本申请涉及一种圆切割晶片数计算方法及其计算设备,该计算方法包括:建立二维坐标系,确定晶片分布阵列;任定定点晶片,按较大的第一步进值在定点晶片内移动圆中心并确定圆的各第一覆盖区域,计算各第一覆盖区域的有效晶片数并取有效晶片数最大的圆中心作为可行位置;通过连接线连接位于相邻圆中心处的可行位置,形成可行区域;按较小的第二步进值在可行区域内移动圆中心并确定圆的各第二覆盖区域,计算各第二覆盖区域的有效晶片数,以最大有效晶片数作为最佳切割晶片数。
  • 切割晶片计算方法计算设备
  • [发明专利]一种圆水平电镀装置及阴极电镀液的喷流方法-CN202110021822.8有效
  • 何志刚;余丞宏 - 上海戴丰科技有限公司
  • 2021-01-08 - 2022-04-08 - C25D17/00
  • 本发明提供一种圆水平电镀装置及阴极电镀液的喷流方法,圆水平电镀装置包括圆载具、电镀液池和至少1组阴极电镀液喷头组合,电镀液池包括阳极电镀液池体和阴极电镀液池体,在阴极电镀液池体和阳极电镀液池体之间设置离子膜通过阴极电镀液喷头产生平行于圆表面的流体,从而将积存在圆待电镀结构层内的气泡顺着流体而排出,防止电镀空穴产生;电镀时,两个相对设置的阴极电镀液喷头分别对应于圆外圆周下方的两侧,所有的阴极电镀液喷头轮流喷液,进而产生不同方向的液流,防止单一液流方向造成的镀层厚度不均匀,确保圆镀层均一稳定。
  • 一种水平电镀装置阴极喷流方法
  • [发明专利]一种振频偏确定方法、装置及通信系统-CN202110245853.1有效
  • 李立华;周文慧 - 北京邮电大学
  • 2021-03-05 - 2022-05-06 - H04W56/00
  • 本发明实施例提供了一种振频偏确定方法、装置及通信系统,卫星向终端发送携带有第一同步序列的同步信号块。卫星基于载波频偏和卫星的接收频率,计算终端的振频偏;向信关站发送振频偏。信关站向卫星发送携带有振频偏的随机接入响应信号。卫星向终端转发随机接入响应信号。终端获取随机接入响应信号携带的振频偏。基于上述处理,不需要温度传感器,也可以确定出振频偏,进而,终端可以基于振频偏进行频偏预补偿,可以提高终端频偏预补偿的准确性。
  • 一种晶振频偏确定方法装置通信系统

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