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- [实用新型]连续式外观多层镀膜设备-CN200820138068.6无效
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郑兆希;黄昌文
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向熙科技股份有限公司
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2008-09-24
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2009-08-05
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C23C14/56
- 本实用新型公开了一种连续式外观多层镀膜设备，应用于工件外观多层镀膜环境中，该连续式外观多层镀膜设备包含：对工件的镀膜全采用物理性制程的多个腔体；用以隔离所述多个腔体并保证各腔体的真空度及/或洁净度的多个活动式闸门，设置于所述多个腔体的该些不同腔体之间；以及用于传送工件的载具，在保证腔体的真空度及/或洁净度的前提下，可活动地穿设于该些不同腔体之间。对工件外观进行多层镀膜时，该连续式外观多层镀膜设备排列呈直线及/或呈U型及/或为环状排列，对于工件外观所需的所有膜层，全采用物理性制程，而完全不需要化学性制程。
- 连续外观多层镀膜设备
- [实用新型]多功能磁控溅射镀膜设备-CN201621333426.X有效
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刘建超;夏建业
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常州夏博士节能新材料有限公司
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2016-12-06
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2017-07-28
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C23C14/35
- 本实用新型涉及一种多功能磁控溅射镀膜设备，具有工作腔室、磁控溅射装置和工件放置组件；所述磁控溅射装置具有靶材和磁控单元；所述工作腔室的腔壁上至少设有一个磁控溅射装置；所述工件放置组件包括旋转平台、旋转电机和工件安装支撑件；所述旋转平台位于工作腔室的中心；所述旋转电机设置在工作腔室外部，且旋转电机的输出轴与旋转平台传动配合驱动旋转平台转动；所述工件安装支撑件固定设置在旋转平台上且位于工作腔室内。本实用新型中磁控溅射装置与工件的距离更近，能有效提高溅射镀膜的效率和质量。并且本实用新型适用于板类镀膜，吸热管镀膜以及其他种类的工件镀膜，适用范围广，镀膜效果好。
- 多功能磁控溅射镀膜设备
- [实用新型]磁控溅射镀膜源及其装置-CN201621442621.6有效
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王开安
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王开安
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2016-12-27
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2017-10-13
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C23C14/35
- 本实用新型涉及材料沉积技术领域，具体涉及磁控溅射镀膜源及其装置。磁控溅射镀膜源包括相对设置的位于工件同侧的柱形第一镀膜组件，第二镀膜组件和分别设置于其内部的磁力产生件，所述第一镀膜组件中心轴线与第二镀膜组件中心轴线平行且相对于工件等高，在第一镀膜组件内的磁力产生件朝向其中心轴线的为第一磁极，在第二镀膜组件内的磁力产生件朝向其中心轴线的为第二磁极，所述第一磁极与第二磁极相反。磁控溅射镀膜装置采用磁控镀膜溅射源，能将过热的电子或其他携带能量的负离子被磁场束缚在两个镀膜组件之间，从而大大减少轰击工件的机会，并能有效地抑制工艺温度上升，实现低温镀膜。
- 磁控溅射镀膜及其装置
- [实用新型]一种真空镀膜复合涂层装置-CN202122093471.X有效
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杨林生
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合肥聚盛真空科技有限公司
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2021-09-01
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2022-04-01
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C23C14/22
- 本实用新型公开了一种真空镀膜复合涂层装置，涉及真空镀膜设备技术领域，包括镀膜箱体、蒸镀源发生器，还包括夹持组件以及镀膜组件，所述蒸镀源发生器固定安装在镀膜箱体顶部；所述夹持组件包括相对布置在镀膜箱体内两侧的L形夹持板，所述L形夹持板分别与推动其在镀膜箱体内水平移动的推动部件连接，所述镀膜箱体外侧设置驱动电机，所述镀膜箱体内底壁设置转轴，通过推动部件推动两侧L形夹持板同时向内侧移动对工件进行夹持固定，启动驱动电机，所述驱动电机带动转轴转动，所述转轴在转动的过程中通过皮带以及皮带轮带动两侧推动部件以及夹持后的工件进行转动，所述镀膜组件对夹持后的工件进行镀膜处理，镀膜更加均匀。
- 一种真空镀膜复合涂层装置
- [实用新型]一种镀膜构件-CN202223549598.9有效
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冯博飞;靳嘉萌;曹译文;毕寅松
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冯博飞
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2022-12-23
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2023-05-16
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C23C14/50
- 本实用新型属于镀膜构件技术领域，尤其为一种镀膜构件，包括主体架、镀膜料管和镀膜装置本体，所述镀膜料管与镀膜装置本体相连接，所述主体架的顶部安装有固定台面，所述固定台面上对称开设有多个导向槽，多个所述导向槽呈对角式设置，多个所述导向槽内均活动安装有L型滑块，多个所述L型滑块均具有沿导向槽长度方向上的移动自由度；本实用新型的镀膜构件中，设置有固定台面、L型滑块、导向槽、拉动杆、移动板、双向螺纹杆和固定电机，通过上述部件配合使用，即可通过多个L型滑块实现对镀膜工件的固定功能，并可根据镀膜构件的大小进行调节固定，具有较高的适用性，提高了工件在镀膜时的稳定性，利于镀膜工件的均匀镀膜，便于使用。
- 一种镀膜构件
- [实用新型]一种镀膜夹具-CN201921124640.8有效
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唐志强;姜钧
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承德奥斯力特电子科技有限公司
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2019-07-18
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2020-11-10
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C23C14/35
- 本实用新型公开了一种镀膜夹具，包括底板、压板和磁铁，底板的一侧面设有凹槽，磁铁放置在凹槽内，压板固定在凹槽开口处，用于封闭凹槽。所述底板的两个相对侧边设有固定凸沿。底板和压板均采用不锈钢材质制成。本实用新型镀膜夹具通过在夹具中设置磁铁，利用磁铁对镀膜工件材料的磁吸原理，实现镀膜工件在夹具上的固定，不需要现有镀膜夹具中的压片固定，摆放拿取极其方便，更重要的是能够实现待镀膜工件的一个整面以及多个整面的无遮挡镀膜，并且适用于所有具有磁吸功能的待镀膜产品。该镀膜夹具结构简单、制作方便，通用性广。
- 一种镀膜夹具
- [实用新型]一种真空镀膜机的工件架-CN202022097878.5有效
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卢林松
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苏州双石真空镀膜有限公司
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2020-09-23
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2021-07-23
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C23C14/50
- 本实用新型提供一种真空镀膜机的工件架，包括：底座、托盘、承托板、电机、转动盘结构、转动轴以及工件支撑架，所述底座上表面安装有转动盘结构，所述转动盘结构上表面安装有保护外壳,所述转动盘结构下表面安装有电机，电机位于底座内部，所述电机上端设有主动轮盘，与现有技术相比，本实用新型具有如下的有益效果：通过设置电机和工件支撑架，使得真空镀膜时工件的旋转方式增加，避免工件因旋转方式单一导致的表面镀膜层厚度不一的问题，承托板和托盘的设计，使得工件之间的间隙增加，避免因真空环境中气氛流动性小，当工件量较大，排列间隙较小时，工件下层镀膜完整性较差的问题，提高了镀膜的质量。
- 一种真空镀膜工件
- [实用新型]PECVD沉积系统-CN202220713681.6有效
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范继良
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黄剑鸣
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2022-03-29
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2022-07-22
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C23C16/505
- 本实用新型公开一种PECVD沉积系统，用于对工件进行PECVD镀膜，其包括电离结构及沉积结构，电离结构包括电极板、布气盒及电源，布气盒用于释放电离的气体于工件上，布气盒与电极板分别与电源电性连接且二者之间形成电离辉光区，布气盒开设有若干供电离的气体通过的沉积口；沉积结构包括沉积箱，沉积箱内设置有传输机构和工件治具；从沉积口释放出的电离气体沉积在承载于工件治具上的工件上，从而完成工件的PECVD镀膜。本实用新型工件不在电离辉光区内沉积，工件于沉积箱内进行沉积镀膜，有效避免等离子体攻击沉积的薄膜表面。同时，通过传输机构对工件的不间断输送，实现了对工件的不间断性沉积镀膜，大大的提高了沉积镀膜的效率。
- pecvd沉积系统
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