专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种抗紫外线纤维无缝针织背心-CN202121292656.7有效
  • 黄昌卢 - 浙江芬雪琳针织服饰有限公司
  • 2021-06-09 - 2022-02-11 - A41D1/04
  • 本实用新型公开了一种抗紫外线纤维无缝针织背心,包括背心主体,所述背心主体的内部设置有抗紫外线纤维层。该抗紫外线纤维无缝针织背心通过设置有纳米级、钛粉和聚酯母粒,在抗紫外线纤维层的内部设置有纳米级和钛粉,纳米级和钛粉是通过共混纺技术对混合在抗紫外线纤维层内部的,纳米级和钛粉可以对抗紫外线纤维层进行改性使抗紫外线纤维层具有抗紫外线等功效,抗紫外线纤维层比一般的后整理工艺具有更好的耐久性和对皮肤的亲和力,在抗紫外线纤维层的内部还设置有聚酯母粒,聚酯母粒同样具有抗紫外线功效,解决的是防紫外线性能较差,容易影响使用者的身体健康的问题
  • 一种锌智源抗紫外线纤维无缝针织背心
  • [发明专利]一种无氰浸液及其制备方法与应用-CN201911361183.9有效
  • 万传云;叶俊勇;赫红超;幸豪 - 上海应用技术大学
  • 2019-12-25 - 2021-09-28 - C25D3/22
  • 本发明涉及一种无氰浸液及其制备方法与应用,其中无氰浸液包括离子、氢氧化钠、镍离子、铁离子、酒石酸钾钠、硝酸钠以及稀土离子,其余为水;制备方法包括首先称取、氢氧化钠、镍、铁、酒石酸钾钠、硝酸钠及稀土盐,再配制氢氧化钠溶液并加入,制得溶液,并配制酒石酸钾钠水溶液,之后依次加入铁、稀土盐、镍,得到稀土溶液;最后将溶液加入至稀土溶液中,并加入硝酸钠混合均匀,经过滤后即得到无氰浸液;制备的无氰浸液可用于铝及铝合金的电镀及化学镀领域与现有技术相比,本发明的浸液具有无毒无害、浸工艺简单、制得的浸层均匀细致、能有效提高后续镀层与铝基材的结合力等优点。
  • 一种无氰浸锌液及其制备方法应用
  • [发明专利]用于N-Zr共掺氧化薄膜的制备方法-CN201210531516.X有效
  • 卢维尔;夏洋;李超波;解婧;张阳 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-11 - 2014-06-18 - C23C16/40
  • 本发明公开一种用于N-Zr共掺氧化薄膜的制备方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次沉积后,分别引入一次含掺杂元素Zr的掺杂的掺杂沉积、第二次沉积、两次氮掺杂沉积及两次氧沉积,形成N-Zr-N的共掺;所述氮掺杂沉积和所述氧的沉积顺序是先氮掺杂沉积,后氧沉积;所述含掺杂元素Zr的掺杂沉积与所述第二次沉积顺序是先含掺杂元素Zr的掺杂沉积,后第二次沉积。该方法可以对氧化薄膜进行原位的施主-受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化薄膜的p型转变。
  • 用于zr氧化锌薄膜制备方法
  • [发明专利]原子层沉积的共掺氧化薄膜的制备方法-CN201210530523.8有效
  • 卢维尔;夏洋;李超波;解婧 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-11 - 2014-06-18 - C23C16/44
  • 本发明公开一种原子层沉积的共掺氧化薄膜的制备方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后依次进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次沉积后,分别引入一次含掺杂元素Zr的掺杂的掺杂沉积、第二次沉积、两次氮掺杂沉积及两次氧沉积,形成N-Zr-N的共掺;所述氮掺杂沉积和所述氧的沉积顺序是先氧沉积,后氮掺杂沉积;所述含掺杂元素Zr的掺杂沉积与所述第二次沉积顺序是先第二次沉积,后含掺杂元素Zr的掺杂沉积。该方法可以对氧化薄膜进行原位的施主-受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化薄膜的p型转变。
  • 原子沉积氧化锌薄膜制备方法
  • [发明专利]用于提高氧化薄膜P型稳定性的方法-CN201210532370.0有效
  • 卢维尔;夏洋;李超波;李楠;解婧 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-11 - 2014-06-18 - C23C16/40
  • 本发明公开一种用于提高氧化薄膜P型稳定性的方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次沉积后,分别引入一次含掺杂元素Zr的掺杂的掺杂沉积、第二次沉积、两次氮掺杂沉积及两次氧沉积,形成N-Zr-N的共掺;所述氮掺杂沉积和所述氧的沉积顺序是先氮掺杂沉积,后氧沉积;所述含掺杂元素Zr的掺杂沉积与所述第二次沉积顺序是先第二次沉积,后含掺杂元素Zr的掺杂沉积。该方法可以对氧化薄膜进行原位的施主-受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化薄膜的p型转变。
  • 用于提高氧化锌薄膜稳定性方法
  • [发明专利]一种氧化薄膜的制备方法-CN201210545161.X在审
  • 解婧;李超波;夏洋 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-14 - 2014-06-18 - C23C16/44
  • 本发明公开了一种氧化薄膜的制备方法,包括如下步骤:(1)向放置衬底的原子层沉积设备反应腔中通入含锌前驱体,含锌前驱体中的原子吸附于衬底表面;(2)通入含氮前驱体,然后通过等离子体将含氮前驱体电离,或将经过等离子体电离的含氮前驱体通入反应腔中,电离后含氮前驱体中的氮原子部分沉积,与衬底表面的原子形成氮共价键;(3)重复步骤(1)和步骤(2)即可逐层生长氮化薄膜;(4)将氮化薄膜进行热氧化,或者向反应腔中通入含氧前驱体,获得氧化薄膜。本发明通过等离子体将氮源引入原子层沉积系统,先获得带隙可调控的优质氮化薄膜,再以氮化薄膜为原料制备优质P型氧化薄膜。
  • 一种氧化锌薄膜制备方法
  • [发明专利]原子层沉积制备N-Zr共掺的氧化薄膜的方法-CN201210533437.2有效
  • 卢维尔;夏洋;李超波;董亚斌 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-11 - 2014-06-18 - C23C16/40
  • 本发明公开一种原子层沉积制备N-Zr共掺的氧化薄膜的方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次沉积后,分别引入一次含掺杂元素Zr的掺杂的掺杂沉积、第二次沉积、两次氮掺杂沉积及两次氧沉积,形成N-Zr-N的共掺;所述氮掺杂沉积和所述氧的沉积顺序是先氧沉积,后氮掺杂沉积;所述含掺杂元素Zr的掺杂沉积与所述第二次沉积顺序是先含掺杂元素Zr的掺杂沉积,后第二次沉积。该方法可以对氧化薄膜进行原位的施主-受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化薄膜的p型转变。
  • 原子沉积制备zr氧化锌薄膜方法
  • [发明专利]用于施主-受主共掺氧化薄膜的制备方法-CN201210532001.1有效
  • 卢维尔;夏洋;李超波;董亚斌 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-11 - 2014-06-18 - C23C16/40
  • 本发明公开一种施主-受主共掺氧化薄膜的制备方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次沉积后,分别引入一次包含III主族元素X的施主掺杂的掺杂沉积、第二次沉积、至少两次氮掺杂沉积及至少两次氧沉积,形成N-X-N的共掺;所述氮掺杂沉积和所述氧的沉积顺序是先氮掺杂沉积,后氧沉积;所述包含III主族元素施主掺杂沉积与所述第二次沉积顺序是先第二次沉积,后包含III主族元素施主掺杂沉积。该方法可以对氧化薄膜进行原位的施主-受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化薄膜的p型转变。
  • 用于施主受主共掺氧化锌薄膜制备方法
  • [发明专利]一种原子层沉积制备施主-受主共掺氧化薄膜的方法-CN201210533506.X有效
  • 卢维尔;夏洋;李超波;解婧 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-11 - 2014-06-18 - C23C16/44
  • 本发明公开一种原子层沉积制备施主-受主共掺氧化薄膜的方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后依次进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次沉积后,分别引入一次包含III主族元素X的施主掺杂的掺杂沉积、第二次沉积、至少两次氮掺杂沉积及至少两次氧沉积,形成N-X-N的共掺;所述氮掺杂沉积和所述氧的沉积顺序是先氮掺杂沉积,后氧沉积;所述包含III主族元素施主掺杂沉积与所述第二次沉积顺序是先包含III主族元素施主掺杂沉积,后第二次沉积。该方法可以对氧化薄膜进行原位的施主-受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化薄膜的p型转变。
  • 一种原子沉积制备施主受主共掺氧化锌薄膜方法

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