专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种青霉素钾盐双锥型真空干燥装置-CN201420767788.4有效
  • 修建东 - 修建东
  • 2014-12-09 - 2015-05-20 - F26B11/04
  • 本实用新型公开了一种青霉素钾盐双锥型真空干燥装置,包括真空管、左密封盒、左轴承、左转轴、上部旋钮、上部法兰、上部锥盖、上部螺栓、内壳体、外壳体、右转轴、右轴承、传动轮、右密封盒、回流管、右架台、皮带、电机、下部旋钮、下部法兰、下部锥盖、下部螺栓、进汽管、左架台、接头、网壳、垂直面、夹套、采用双锥体真空干燥装置内的网壳的右端面设置垂直面的方式,通过右端面设置垂直面的网壳对青霉素钾盐进行抽真空,利用右架台和左架台支撑及转轴、轴承、传动轮、电机等组成转动系统进行回转,达到青霉素钾盐均匀干燥,节能减排、提高干燥效率的效果。
  • 一种青霉素钾盐双锥型真空干燥装置
  • [发明专利]烯烃系聚合物拉伸膜-CN200580043724.3无效
  • 泽井透;清水胜;佐藤正史 - 东赛璐株式会社;三井-杜邦聚合化学株式会社
  • 2005-12-20 - 2008-01-09 - C08L23/00
  • 本发明目的在于提供一种抗静电性优异的烯烃系聚合物拉伸膜,该拉伸膜由包含烯烃系聚合物和乙烯-不饱和羧酸共聚物钾盐的烯烃系聚合物组合物而得到,其结构上的特征在于,该烯烃系聚合物拉伸膜由包含烯烃系聚合物(A)和乙烯-不饱和羧酸共聚物钾盐(B)的烯烃系聚合物组合物(C)而得到,并且以3倍以上的面倍率进行拉伸而形成。拉伸优选为双轴向拉伸,作为烯烃系聚合物组合物(C),优选为由99~60重量%的烯烃系聚合物(A)和1~40重量%的乙烯-不饱和羧酸共聚物钾盐(B)形成的物质。
  • 烯烃聚合物拉伸
  • [发明专利]卤化物的制造方法、钾盐的制造方法、及钾盐-CN201811451654.0有效
  • 谷田大辅;北尾久平 - 株式会社大赛璐
  • 2015-03-25 - 2022-12-16 - C07C41/16
  • 本发明的目的在于提供能够高效地制造特别是作为对于光学性材料而言可普遍适用的化合物的前体而有用的卤化物的方法。该卤化物的制造方法包括:使下述通式(1)所示的化合物与卤化剂反应而生成下述通式(2)所示的卤化物的工序,通式(1)中,R1表示直链或支链状的亚烷基,R2表示在与式中所示的氧原子的键合部位具有构成芳环的碳原子的含芳环基团,n表示1或2,在n为2的情况下,2个R1各自相同或不同;通式(2)中,R1、R2及n与通式(1)中的R1、R2及n相同,X表示卤原子,在n为2的情况下,2个X各自相同或不同。
  • 卤化物制造方法钾盐
  • [发明专利]卤化物的制造方法、钾盐的制造方法、及钾盐-CN201580020214.8有效
  • 谷田大辅;北尾久平 - 株式会社大赛璐
  • 2015-03-25 - 2018-12-07 - C07C41/22
  • 本发明的目的在于提供能够高效地制造特别是作为对于光学性材料而言可普遍适用的化合物的前体而有用的卤化物的方法。该卤化物的制造方法包括:使下述通式(1)所示的化合物与卤化剂反应而生成下述通式(2)所示的卤化物的工序,通式(1)中,R1表示直链或支链状的亚烷基,R2表示在与式中所示的氧原子的键合部位具有构成芳环的碳原子的含芳环基团,n表示1或2,在n为2的情况下,2个R1各自相同或不同;通式(2)中,R1、R2及n与通式(1)中的R1、R2及n相同,X表示卤原子,在n为2的情况下,2个X各自相同或不同。
  • 卤化物制造方法钾盐

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