专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种钨单晶及其制备方法-CN202210955377.7在审
  • 刘国卿;王国伟;田相鑫;颜强;吴正新;刘永 - 深圳大学
  • 2022-08-10 - 2022-11-11 - C30B9/12
  • 本发明公开了一种钨单晶及其制备方法,所述制备方法为助熔剂法,包括步骤:将氧化钨粉末和氧化铋粉末混合后,进行高温固相反应生成钨多晶;向所述钨多晶中加入助熔剂,加热熔融并恒温一段时间,然后进行程序降温至预设温度,再自然冷却至室温,得到所述钨单晶。本发明采用助熔剂法,将助熔剂与制备得到的钨多晶混合,加热熔融一定时间并通过降温控制钨单晶的生长,所述钨单晶可作为闪烁晶体应用于核辐射探测领域,解决了钨多晶粉体因本身构型缺陷不能作为闪烁晶体应用于核辐射探测领域的问题所述制备方法工艺简单、原料易得、成本较低、容易实现,可为制备大尺寸的钨单晶提供有益参考。
  • 一种钨酸铋单晶及其制备方法
  • [发明专利]钠纳米花及其制备方法-CN200810025109.5无效
  • 李杰;汪国忠;蔡伟平;王洪强 - 中国科学院合肥物质科学研究院
  • 2008-04-23 - 2009-10-28 - C01G29/00
  • 本发明公开了一种钠纳米花及其制备方法。纳米花由交叉站立着的纳米片组成,纳米片的长度为250~350nm、高度为50~150nm、厚度为5~15nm,其是由三角结构的单晶钠构成;方法为先向浓度为0.8~1.2M的柠檬水溶液中加入氨水调节pH为4.5~6后,再向其中加入四丁酯,并将其于50~70℃下搅拌5h以上,获得清液,之后,先将五水合硝酸水溶液与清液相混合,并将其于80~100℃下搅拌30min以上,获得混液,再将氢氧化钠加入混液中,并继续搅拌15min以上,获得合成液,然后,先将合成液置于温度为80~180℃下保温0~10h后,再将其洗涤至呈中性,获得产物,最后对产物干燥处理,制得钠纳米花。
  • 钛酸铋钠纳米及其制备方法
  • [发明专利]一种锶基氧化物超晶格薄膜忆阻器及其制备方法-CN202211359763.6在审
  • 岳建岭;杨泽欧;胡海龙;黄小忠 - 中南大学
  • 2022-11-02 - 2022-12-23 - H01L45/00
  • 本发明提供一种锶基氧化物超晶格薄膜忆阻器及其制备方法,其制备方法包括如下步骤:以掺铌单晶衬底作为底电极;在掺铌单晶衬底表面交替沉积锶层和另一类氧化物膜层,制备得到锶基氧化物超晶格薄膜作为存储介质层,其中,另一类氧化物膜层选用掺钇氧化锆、钴镧、或铁中的一种;在步骤S2得到的镀有存储介质层的基片表面再沉积金属薄膜作为顶电极,得到含有底电极∥STO基氧化物超晶格薄膜存储介质层∥顶电极的忆阻器。由该制备方法制备得到的锶基氧化物超晶格薄膜忆阻器可形成单晶或晶体完整性较高的超晶格薄膜,忆阻器具备低的操作电压和高的组态稳定性。
  • 一种钛酸锶基氧化物晶格薄膜忆阻器及其制备方法
  • [发明专利]一种含空位的纳米片/UiO-66-NH2-CN202211225056.8在审
  • 路建美;李娜君 - 苏州大学
  • 2022-10-09 - 2023-03-31 - B01J31/38
  • 本发明公开了一种含空位的纳米片/UiO‑66‑NH2异质结及其制备方法与应用。将二氧化、氧化铋、无机盐混合后煅烧,得到纳米片,然后将纳米片浸入离子共晶溶剂中,得到含空位的纳米片;将含空位的纳米片、二氨基对苯二甲酸、氯化锆和乙酸的混合物水热反应,得到含空位的纳米片采用简单的离子共晶溶剂浸出的方法,在纳米片上构建空位,能够有效增强纳米片晶体结构的不对称性,以含空位的纳米片为基底,水热生长UiO‑66‑NH2
  • 一种空位钛酸铋纳米uio66nhbasesub
  • [发明专利]一种锗单晶体的生长方法-CN201310688548.5有效
  • 胡智向;朱刘;文崇斌;罗涛 - 清远先导材料有限公司
  • 2013-12-17 - 2014-04-02 - C30B11/00
  • 本发明公开了一种锗单晶体的生长方法,该方法以Bi2O3与GeO2为原料,在超声振动、恒温的环境下进行化合反应,得到组分均一、熔融状态的锗多晶料,然后采用布里奇曼晶体生长法制备锗单晶体。本发明通过在生长坩埚部分使用超声波传感技术一步法来实现生长锗单晶体,该方法省去了传统下降法生长锗单晶体过程中利用铂坩埚熔融合成多晶料的环节,简化了锗单晶体的生长工艺,缩短了生产周期,且大大减少了贵金属铂的用量,从而降低了生产成本,同时,本发明生长方法还避免了生产过程中外界杂质元素的介入,进一步提高了锗晶体的质量。
  • 一种锗酸铋单晶体生长方法

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