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[发明专利]一种烧结钕铁硼磁体化学镀镍层退镀液-CN201210129514.8有效
发明人：周向志;徐泽鹏;胡巍巍;刘本超;陈通 -专利权人：杭州广荣科技有限公司
申请日： 2012-04-28 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： C23F1/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种烧结钕铁硼磁体化学镀镍层退镀液。该退镀液的有效成分包括氢氧化钠、乙二胺四甲叉磷酸钠（EDTMPS）、丁基萘磺酸钠、氯化钠、六水硝酸钕。与现有技术相比，本发明的退镀液不含有强硝酸（易产生黄烟）、氰化物（剧毒）、硝基有机化合物（剧毒、易爆），可减少环境污染和对操作人员身体的危害，也可以减少对厂房和设备的损害。通过对组分含量的合理设计，能够快速均匀地退除烧结钕铁硼磁体表面的化学镀镍层，同时对磁体本征无腐蚀。另外，本发明的退镀液配制容易、稳定性高而且使用寿命长。
一种烧结钕铁硼磁体化学镀镍层退镀液

[实用新型]一种退镀处理装置-CN202022905040.4有效
发明人：冯皓宇 -专利权人：苏州鑫达资源再生利用有限公司
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： C23G3/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种退镀处理装置，包括机架和位于机架下方的工作台，所述机架上滑动连接有夹取机构，工作台沿夹取机构的滑动方向依次设置有退镀槽、第一水洗槽、钝化槽和第二水洗槽；所述退镀处理装置还包括放置机构本实用新型的退镀处理装置，通过夹取机构夹取放置机构从而带动产品进入溶液槽进行退镀，在面对不同规格的产品时，只需更换不同型号的放置机构即可，而放置机构采用连接板和支撑板分离的结构，也可以有效避免退镀液和钝化液对夹取机构的腐蚀
一种处理装置

[实用新型]退镀装置-CN201621242016.4有效
发明人：张志强 -专利权人：重庆德高塑胶有限公司
申请日： 2016-11-21 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： C25F5/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种退镀装置，包括装置壳体，在装置壳体内有顶面开口的退镀腔，在退镀腔内装有退镀液，在装置壳体的顶端固定有绝缘支架，在绝缘支架的顶端固定有阳极导电杆，在退镀腔的侧壁上固定有阴极导电板，在阳极导电杆上均匀连接有工件夹持块本实用新型的结构设置合理，可以使嵌铜铝板在同一退镀装置中完成退镀操作，缩短退镀的工序操作时间，有利于提高退镀的效率，解决了传统技术中退镀工序多的技术不足。
装置

[发明专利]一种从镀金废料中提取金的方法-CN201910599162.4在审
发明人：冯皓宇 -专利权人：苏州鑫达资源再生利用有限公司
申请日： 2019-07-04 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： C25C1/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种从镀金废料中提取金的方法，包括以下步骤：1)：将镀金废料送入振动设备中进行振动，并且通过与振动设备连通的吸尘设备吸取所述振动设备中产生的灰尘；2）：镀金废料投入含有退镀液的容器内，并且进行电加热，从而使得黄金从镀件表面退下于退镀液中至饱和，从而获得含金退金液；3）：将含金退金液投入电解槽内进行电解并进行加热，与此同时，向电解槽内通入气体，使得含金退金液产生涌动，在阴极上黄金进行沉积，而后剥离片状黄金本发明采用退镀和电解的方式提取黄金，不仅工艺简单、节约原料和时间，且黄金回收率高、纯度高、不污染环境。
镀金废料片状黄金振动设备退金电解槽退镀液电解阴极黄金回收率吸尘设备电加热纯金镀件退镀铸锭沉积加热连通清洗送入饱和剥离节约

[发明专利]用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法-CN201711186414.8有效
发明人：初青伟;谭腾;何源;郭浩;熊平然;游志明 -专利权人：中国科学院近代物理研究所
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：一种用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法，所述化学退镀液包括：质量浓度为0.1‑0.5％的间硝基苯磺酸盐、质量浓度为1.0‑4.0％的氢氟酸和质量浓度为0.8‑2.0％的氟硼酸。本发明在不损伤铜基材表面的情况下，可以简单、迅速、稳定、完全去除铜基材表面的铌镀层，完好地回收利用已镀铌膜的铜制品。
化学退镀液镀层去除铜表面铜基材退镀间硝基苯磺酸盐回收利用氟硼酸氢氟酸铜制品损伤

[发明专利]一种稳定的退镀液-CN200510035826.2无效
发明人：陈其亮 -专利权人：佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
申请日： 2005-07-11 - 公布日： 2007-01-17 - 主分类号： C23F1/16 文献下载
摘要：一种稳定的退镀液，其包括硫酸和双氧水(H₂O₂)，其还包括阻止双氧水分解和加快退镀速度的稳定剂，所述稳定剂为n－C₄H_{9退镀液，由于稳定剂的存在，用该退镀液退镀时，能有效降低溶解的铜离子对双氧水的快速分解，显著提高退镀液的使用周期，降低生产成本，同时还可加快金属镍、铜的退镀速度以提高效率；进一步防染盐间硝基苯磺酸钠的包含}
一种稳定退镀液

[实用新型]一种钛基拖钢板电镀铜回收处理装置-CN202222836174.4有效
发明人：庞广磊 -专利权人：上海跃垒机电设备有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C25D19/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及电镀铜回收技术领域，具体为一种钛基拖钢板电镀铜回收处理装置，包括支撑架、供电箱、退镀构件与电镀构件，所述支撑架的内部位于退镀构件的下侧位置处设置有第一进液管，所述第一进液管的下端安装有第一液泵，所述第一液泵的输出端设置有第一出液管，所述支撑架的内部临近第一液泵的位置处安装有第二液泵，所述第一进液管的一侧设置有第二进液管，所述第二液泵的输出端设置有第二出液管，所述支撑架的内部位于电镀构件的下侧位置处设置有第三进液管，所述第三进液管的下端安装有第三液泵。本实用新型通过退镀构件的退镀，电镀构件再次电镀，完成铜的回收再利用，通过导电物料架直接放置物料，能同时对多个物料退镀、电镀操作。
一种钛基拖钢板镀铜回收处理装置

[发明专利]电解退镀液及同时退除挂具上铜层和锡层的方法-CN201910897926.8有效
发明人：汪前程;黄文涛;梁民 -专利权人：深圳市祺鑫天正环保科技有限公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： C25F3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种电解退镀液及同时退除挂具上铜层和锡层的方法，所述电解退镀液包括：硝酸盐、硫酸、促进剂、铜缓蚀剂、六次甲基四胺、尿素以及甘油，溶剂为水。通过该电解退镀液能在实现对挂具上铜镀层和/或锡镀层的高效退除的同时，还实现对挂具上铜镀层和/或锡镀层的高效回收。
电解退镀液同时挂具上铜层方法

[发明专利]一种烧结钕铁硼表面铝镀层的退镀液-CN201010221313.1有效
发明人：宋振纶;胡依群;王大亮;冒守栋 -专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2010-07-01 - 公布日： 2010-11-10 - 主分类号： C23F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种烧结钕铁硼表面铝镀层的退镀液。该退镀液以氢氧化钠作为腐蚀剂，碳酸钠作为辅助盐，还包括可以促进金属铝溶解的络合剂、减缓基体腐蚀的缓蚀剂以及使铝镀层均匀溶解的表面活性剂。与现有技术相比，本发明一种烧结钕铁硼表面铝镀层的退镀液因其合理的组分与含量的设计，能够快速均匀地退除烧结钕铁硼表面铝镀层，同时降低了对烧结钕铁硼基体的损伤，另外，本发明的退镀液具有生产成本低、稳定性高以及使用周期长的特点
一种烧结钕铁硼表面镀层退镀液

[发明专利]一种无毒铜铁基银退镀液及其退镀工艺-CN201810439816.2在审
发明人：蔡其旺;肖自军 -专利权人：泉州市蓝水环保科技有限公司
申请日： 2018-05-09 - 公布日： 2018-08-21 - 主分类号： C25F5/00 文献下载
摘要：本发明提出了一种无毒铜铁基银退镀液及其退镀工艺，包括以下质量百分含量组分：氧化剂8‑12%、络合剂25‑45%、复合表面活性剂3‑9%、水余量，其中，氧化剂为双氧水和氨水组合物，络合剂包括甘氨酸、柠檬酸盐、三乙醇胺，复合表面活性剂包括烷基糖胺型表面活性剂和阴离子型表面活性剂，本发明通过合理的配方改进，有效提高了退镀液的渗透作用，电解效率明显提高，退镀完成周期短，基体游离离子含量小于0.08%，综合退镀性能强，有效保证了退镀后产品质量，且本发明配方中不含毒性污染物，降解性好，适应现代工业发展的需求，值得推广。
退镀退镀液复合表面活性剂氧化剂络合剂铜铁无毒双氧水阴离子型表面活性剂氨水现代工业发展表面活性剂毒性污染物电解效率柠檬酸盐配方改进三乙醇胺渗透作用烷基糖胺游离离子甘氨酸降解性水余量配方保证

[实用新型]一种冷轧镀铝硅生产线用退镀槽-CN201921289689.9有效
发明人：叶文虎;解明祥;倪振航;刘刚;赵慧颖;郭亚东;鲁俊豪 -专利权人：安徽马钢表面技术股份有限公司
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种冷轧镀铝硅生产线用退镀槽，包括槽体、管道组与加热机构，所述管道组包括循环管道、移送管道与加酸管道，所述循环管道、所述移送管道与所述加酸管道均设置在所述槽体上，所述移送管道与所述加酸管道的输出端所述槽体的内部本实用新型能够对退镀液进行加热，加速退镀反应向正向进行，从而有效地提高退镀槽的退镀性能，进而满足生产需求；并且能够更均匀快速地加热退镀液，可以更快速的提高反应效率；还能够通过循环作用从而保证槽体内液体浓度及温度的均匀性
一种冷轧镀铝生产线用退镀槽

[实用新型]一种退镀装置-CN202222579770.9有效
发明人：李春虎;胡龙;赵建合;裴建光;薛永晨 -专利权人：云南银帆科技有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： B41F35/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种退镀装置，包括：装置本体，所述装置本体的上表面开设有两个退镀槽，每个所述退镀槽的内底壁均开设有沉淀槽，每个所述沉淀槽的内底壁均固定连通有控制阀。该退镀装置，通过利用滑槽和滑块的配合，对隔板进行固定，通过隔板可以对退镀槽的内部空间进行隔断，从而使工作人员对其内部的杂质其进行清理时，不需要将退镀液全部向外排出，方便了工作人员的操作使用，通过设置有电机，利用电机提供的动力，可以带动转杆和齿轮进行旋转，通过齿轮和齿条之间的啮合，进而带动隔板进行移动，使隔板可以在两个退镀槽之间循环使用，使得工作人员可以不间断的使用两个退镀槽对凹版印刷辊进行退镀工作，提高了工作效率
一种装置

[发明专利]一种退铬液及其制备方法与应用-CN201711452196.8有效
发明人：董恩莲;阳文 -专利权人：广东山之风环保科技有限公司
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明属于真空镀技术领域，具体公开了一种退铬液及其制备方法与应用；尤其是在真空镀铬层中的退铬应用。该退铬液包括氧化剂、促进剂、稳定剂、缓蚀剂以及水配制，应用时退铬液的温度为20～70℃，退铬速度1～2μm/min。本发明不但退铬时间比同类产品缩短50％以上，且退镀干净而不伤基材，尤其是低温条件下仍具有优良的的退铬效果，减小了对环境的污染。
退铬应用制备真空镀铬层氧化剂低温条件促进剂缓蚀剂时间比水配制稳定剂真空镀基材减小退镀污染

[发明专利]一种集成电路外引线电镀层的退镀液及其制备方法-CN202011374513.0有效
发明人：陆建辉;袁军华;王承国 -专利权人：南通麦特隆新材料科技有限公司
申请日： 2020-11-30 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C23F1/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种集成电路外引线电镀层的退镀液，原料包含以下浓度：有机酸150～200g/L，无机酸150～200g/L，表面活性剂20～30g/L，过氧化物200～250g/L，添加剂60～80g/L，制得退镀液具有优异的退镀效率、缓蚀性和退镀容量，适宜在电镀领域推广，具有广阔的发展前景。
一种集成电路外引镀层退镀液及其制备方法

[发明专利]一种减少铜基材损耗的退镍液及退镍方法-CN202010622315.5在审
发明人：邓继扬;全晖;李道吉;兰凌 -专利权人：东莞市百镀通五金电镀实业有限公司
申请日： 2020-06-30 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C23F1/28 文献下载
摘要：本发明提供一种减少铜基材损耗的退镍液及退镍方法，使用强酸、强氧化剂、铜缓蚀剂、以及有机络合剂、增溶剂配置退镍液；退镍过程中，将预处理的待退镍工件置入其中，退镍过程中，强氧化剂与有机络合剂有效促进镍层的退除，铜缓蚀剂有效减少铜基材在退镍过程中的损耗，在保证退镀效果的情况下又能最大限度地保护退镀过程中不伤害铜层或铜基材。
一种减少基材损耗退镍液方法

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