专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]金属封装大电流、高电压、快恢复二极管-CN201520264919.1有效
  • 孙承呈;许健;柴宽;陈晶 - 锦州辽晶电子科技有限公司
  • 2015-04-28 - 2015-07-22 - H01L29/861
  • 一种具有大电流输出能力,散热性能好,可靠性高的能降低正向压降的金属封装大电流、高电压、快恢复二极管,包括金属外壳,其特殊之处是:所述金属外壳是由钨铜底板和镍合金边框封装构成,在钨铜底板上烧结有氧化铍陶瓷基片,在镍合金边框上设有由直径为1.1毫米~1.3毫米的无氧铜构成的大电流输出引线,所述大电流输出引线为无氧铜线,在氧化铍陶瓷基片上设有钨铜过渡片、铜可伐银片,在钨铜过渡片上烧结有快恢复二极管芯片,在钨铜过渡片和大电流输出引线之间连接有连接铜带,快恢复二极管芯片与铜可伐银片之间采用金属丝键合互连。
  • 金属封装电流电压恢复二极管
  • [发明专利]一种ZnO基稀磁薄膜及其制备方法-CN201110166520.6有效
  • 潘峰;王钰言;曾飞;陈光 - 清华大学
  • 2011-06-20 - 2012-02-22 - H01F10/32
  • 该ZnO基稀磁薄膜,包括基片、位于基片上的稀磁薄膜和反磁薄膜;其中,构成稀磁薄膜的材料为Zn1-xTMxO,所述Zn1-xTMxO中,x为0.2%-10.0%,优选3%-5%,TM为过渡金属元素;构成反磁薄膜的材料选自过渡金属氧化物中的至少一种本发明通过在ZnO基稀磁薄膜上沉积一薄层反磁薄膜或在反磁薄膜上沉积一层稀磁薄膜来提高ZnO基稀磁薄膜的室温铁磁性,利用室温铁磁性TM:ZnO薄膜和反磁薄膜的界面近邻效应,使双层膜结构的室温饱和平均原子磁矩
  • 一种zno基稀磁薄膜及其制备方法
  • [其他]生产α-烯烃的齐聚方法-CN87105841无效
  • 雷克斯·尤金·默里 - 联合碳化公司
  • 1987-07-21 - 1988-03-09 - C07C2/32
  • 一种齐聚或共齐聚的方法包括在液态下使乙烯或乙烯和丙烯混合物与催化剂接触,所说的催化剂含有(i)、(ii)和(iii)的反应产物,其中(i)过渡金属化合物,其中过渡金属选自镍、铬、钴、和铜及其混合物;(ii)催化剂活化剂,含有能把它本身的氢化物或烷基、链烯基、炔基或芳基转移到由过渡金属化合物和配位体反应形成的过渡金属/配位体(以下定义)络合物上,并键合到过渡金属上,所说的活化剂要有足够的量以活化催化剂
  • 生产烯烃齐聚方法
  • [发明专利]生产α-烯烃的齐聚或共聚方法-CN87105841.3无效
  • 雷克斯·尤金·默里 - 联合碳化公司
  • 1987-07-21 - 1991-02-20 - C07C2/32
  • 一种齐聚或共齐聚的方法包括在液态下使乙烯或乙烯和丙烯混合物与催化剂接触,所说的催化剂含有(i)、(ii)和(iii)的反应产物,其中(i)过渡金属化合物,其中过渡金属选自镍、铬、钴、和铜及其混合物;(ii)催化剂活化剂,含有能把它本身的氢化物或烷基、链烯基、炔基或芳基转移到由过渡金属化合物和配位体反应形成的过渡金属/配位体(以下定义)络合物上,并键合到过渡金属上,所说的活化剂要有足够的量以活化催化剂
  • 生产烯烃齐聚共聚方法

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