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[发明专利]掩膜版-CN202010131250.4有效
发明人：古春笑;赵坤;张帅 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2020-02-28 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版。掩膜版包括至少一条掩膜条；掩膜条包括蒸镀区和遮挡区；蒸镀区具有多个开口；沿第一方向，遮挡区设置于各开口的两侧；其中，第一方向为掩膜条的长度方向；遮挡区包括至少一个热缩区；热缩区包括热缩材料。在掩膜条焊接至掩膜版框架上时，热缩区的热缩材料受热晶格缩小，从而产生热缩现象。热缩区的热缩现象对掩膜条的遮挡区施加热缩拉力，带动遮挡区张紧，进而使掩膜条进一步张紧，从而可以减小掩膜条因重力出现的下垂现象，同时可以减小掩膜条上的褶皱，提高了在蒸镀时，掩膜版与待蒸镀基板的贴合效果，提高了掩膜版的蒸镀精度，降低了待蒸镀基板蒸镀后的像素错位及混色等风险。
掩膜版

[发明专利]大尺寸掩膜基板的制作方法-CN201610353542.6在审
发明人：唐军 -专利权人：唐军
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2016-07-20 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明涉及一种大尺寸掩膜基板的制作方法，包括：提供多条横向膜片和多条纵向膜片；将多条所述横向膜片与多条所述纵向膜片纵横交错布置，以形成矩阵分布多个方形的蒸镀孔，所述蒸镀孔具有加工余量；通过张紧机将纵横交错布置的所述横向膜片和所述纵向膜片张紧；采用焊接工艺将张紧后的所述横向膜片和所述纵向膜片相对焊接固定，以形成所述掩膜基板；对所述蒸镀孔进行精加工，使得所述蒸镀孔达到预定值。根据本发明提供的大尺寸掩膜基板的制作方法，可以形成大尺寸的掩膜基板，其取材方便，成本低，工艺简单，能够满足大尺寸显示器件的要求。此外，形成的掩膜基板上表面的平面度更高，达到更好的蒸镀效果，提高产品良率。
尺寸掩膜基板制作方法

[发明专利]新型蒸镀掩膜板张紧方法-CN201410161454.7有效
发明人：赵芳;魏锋;任海 -专利权人：四川虹视显示技术有限公司
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型蒸镀掩膜板张紧方法，第一步、设置掩膜板框架；第二步、在掩膜板框架的纵向上设置纵向骨架，并且张紧，然后焊接；第三步、在掩膜板框架的横向上设置横向骨架，并且张紧，然后焊接；第四步、将子掩膜板安装在铺设好横纵向骨架的掩膜板框架上，并且张紧，然后焊接；第五步、重复第四步，一直到形成一张完成的郑镀掩膜板。本发明具有以下优点：若其中一张子掩膜板上的像素出现问题，可以只将这张子掩膜板撕下来报废后，重新焊接一张新的子掩膜板，这样可以大大降低掩膜板的报废率；在掩膜板焊接之前，掩膜板框架上需要焊接细小的纵横交替的金属骨架，来支撑掩膜板，这样就避免出现因掩膜板下垂而造成的像素变形问题。
新型蒸镀掩膜板张紧方法

[发明专利]大尺寸掩膜基板的制作方法-CN201610352702.5在审
发明人：唐军 -专利权人：唐军
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： H01L51/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种大尺寸掩膜基板的制作方法，包括：提供多条横向膜片和多条纵向膜片；将多条所述横向膜片与多条所述纵向膜片纵横交错布置，以形成矩阵分布多个方形的蒸镀孔；通过张紧机将纵横交错布置的所述横向膜片和所述纵向膜片张紧，使得所述蒸镀孔的尺寸达到预定值；采用焊接工艺将张紧后的所述横向膜片和所述纵向膜片相对焊接固定，以形成所述掩膜基板。根据本发明提供的大尺寸掩膜基板的制作方法，可以形成大尺寸的掩膜基板，其取材方便，成本低，工艺简单，能够满足大尺寸显示器件的要求。此外，形成的掩膜基板上表面的平面度更高，达到更好的蒸镀效果，提高产品良率。
尺寸掩膜基板制作方法

[实用新型]掩膜板变形的检查系统-CN201520324794.7有效
发明人：党鹏乐;张小宝;张秀玉;姜海滨;王志祥;丁立薇 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2015-05-19 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种掩膜板变形的检查系统，包括固定于蒸镀设备中的光源体；固定于蒸镀设备中且与光源体、掩膜板相对应设置的图像传感器，用于在每次蒸镀前，于光源体的照射下，对掩膜板进行拍照以获取掩膜板的图像；图像处理器，用于计算CCD图像传感器所获取的第一张掩膜板的图像与之后图像传感器获取的每一张该掩膜板的图像之间的图像相似度。本实用新型所述检查系统可在蒸镀前对掩膜板是否发生变形进行检查，以确定掩膜板是否发生变形，从而在蒸镀前提前预警掩膜板的变形、堵塞、下垂，减少由于掩膜板变形导致的蒸镀不良等技术问题，并相应的降低成本。
掩膜板变形检查系统

[发明专利]掩膜板、套装掩膜板和蒸镀系统-CN201710414315.4有效
发明人：丁渭渭;吴建鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-06-05 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明属于显示技术领域，具体涉及一种掩膜板、套装掩膜板和蒸镀系统。该掩膜板包括掩膜图形板，所述掩膜图形板包括蒸镀区以及位于所述蒸镀区周边的测试区，其中，所述测试区设置有至少两组测试单元组，每一所述测试单元组包括至少一个测试孔。该掩膜板及其相应的套装掩膜板，可以兼容同色OLED显示器件中不同层的有机材料蒸镀，节省掩膜板开模和加工费用，在使用时也仅需一张蒸镀基板即可完成整个OLED器件各层结构的制备和测试，大大节省了工艺成本，有效解决了解决因像素位置对位造成的掩膜板资源浪费问题
掩膜板测试单元掩膜图形蒸镀系统测试区蒸镀有机材料蒸镀工艺成本像素位置有效解决蒸镀基板测试孔层结构对位开模两组同色制备兼容测试加工

[发明专利]掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法-CN201810457657.9有效
发明人：刘明星;王徐亮;高峰;张玄;甘帅燕 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法，该掩膜板用于张紧焊接于支撑框架上，掩膜板为电铸掩膜板，掩膜板包括蒸镀区、非蒸镀区和用于与支撑框架焊接的焊接区，至少在焊接区内掺杂有辅助离子，以提高焊接区的焊接性能，辅助离子的焊接性能优于制作掩膜板用电铸液中的抗腐蚀离子的焊接性能。上述掩膜板中，至少在焊接区内掺杂辅助离子，以提高焊接区的焊接性能，辅助离子的焊接性能优于制作掩膜板用电铸液中抗腐蚀离子的焊接性能。由于辅助离子的焊接性能较好，将辅助离子掺杂到焊接区内后，提高和焊接内焊接性能较好的离子的含量，进而提高了焊接区的焊接性能，保证掩膜板与支撑框架的焊接效果。
掩膜板焊接性能辅助离子焊接焊接区支撑框架离子掺杂掩膜组件抗腐蚀制作蒸镀铸液电铸张紧保证

[实用新型]掩膜板-CN202320375551.0有效
发明人：张丁成;李有鹏;韩冰;章紫闻;王盼盼 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜板。其中，掩膜板包括：掩膜板主体、至少一个蒸镀部、至少两个第一张网部和至少两个第二张网部。本申请通过在蒸镀部的四周设置至少两个第一张网部和至少两个第二张网部，并限制两个第一张网部和其间的蒸镀部的中心沿第一方向位于同一直线；两个第一张网部沿第二方向的长度均大于或者等于2/3倍的蒸镀部沿第二方向的长度，且小于或者等于蒸镀部沿第二方向的长度。限制两个第二张网部和其间的蒸镀部的中心沿第二方向位于同一直线；两个第二张网部沿第一方向的长度均大于或者等于2/3倍的蒸镀部沿第一方向的长度，且小于或者等于蒸镀部沿第一方向的长度，进而保证张网过程中掩膜板直线度与下垂量的平衡
掩膜板

[发明专利]蒸镀方法、蒸镀装置和发光器件-CN201310449908.6在审
发明人：陈俊生;李成 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2013-09-25 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀方法、蒸镀装置和发光器件。该蒸镀方法包括：依次将掩膜板设置于衬底基板的上方并通过蒸镀工艺在所述衬底基板上形成蒸镀子图形，以在所述衬底基板上形成蒸镀图形，所述蒸镀图形包括设定数量个所述蒸镀子图形，所述掩膜板上形成有特定数量个开口区域，所述开口区域用于形成所述设定数量个所述蒸镀子图形中的特定数量个蒸镀子图形，因此与现有技术相比，一张掩膜板上仅需形成数量较少的开口区域，使得开口区域之间的遮挡区域的宽度较大，避免了采用厚度较厚的掩膜板且该掩膜板上开口区域数量较多时导致的产品
方法装置发光器件

[发明专利]掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板-CN201810454366.4有效
发明人：韩冰;王徐亮;张玄;甘帅燕;高峰 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种主掩膜板、配合掩膜板及掩膜组件，该掩膜组件包括具有蒸镀区的主掩膜板，具有配合区的配合掩膜板，主掩膜板的有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，配合掩膜板的第一配合区内布设有第一配合开口，第一配合开口在配合掩膜板上的正投影完全覆盖有效蒸镀开口在配合掩膜板上的正投影，且配合掩膜板的第二配合区遮挡主掩膜板无效蒸镀区内的无效蒸镀开口。上述掩膜组件中，主掩膜板上在异形的有效蒸镀区外开设无效蒸镀开口，可以平均有效蒸镀区边缘的应力，防止有效蒸镀区边缘因为受力不均而产生褶皱，提高蒸镀良率。同时，可以通过配合掩膜板上的第二配合区遮挡无效蒸镀区内的无效蒸镀开口，制得具有开槽区的异形显示面板。
掩膜板蒸镀配合开口掩膜组件配合区正投影遮挡褶皱受力不均显示面板异形显示开槽区显示区良率掩膜异形

[实用新型]一种蒸镀用掩膜板和蒸镀掩膜结构-CN202021785843.4有效
发明人：王勇波;秦晓强 -专利权人：苏州清越光电科技股份有限公司
申请日： 2020-08-24 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种蒸镀用掩膜板和蒸镀掩膜结构，其中，所述蒸镀用掩膜板包括蒸镀区和包围所述蒸镀区的外围区，所述蒸镀用掩膜板的外围区中具有贯穿蒸镀用掩膜板部分厚度的引线遮盖槽。所述蒸镀用掩膜板能够避免在蒸镀的过程中对基板引线区造成短路。
一种蒸镀用掩膜板蒸镀掩膜结构

[发明专利]掩膜板及其制造方法-CN201810450851.4在审
发明人：单为健;王亚玲;罗志忠;黄俊杰 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2018-05-11 - 公布日： 2018-09-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜板及其制造方法，掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；第一掩膜条和第二掩膜条相互交错；第一掩膜条、第二掩膜条以及掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，蒸镀调整结构设置在第一掩膜条上和/或第二掩膜条上。上述掩膜板，第一掩膜条、第二掩膜条、掩膜框架以及蒸镀调整结构可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程。
蒸镀掩膜条调整结构掩膜板掩膜间隔排布设置蒸镀材料屏体围合单元形状遮挡区域沉积遮挡交错切割制造便利覆盖

[发明专利]一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板-CN201610159061.1有效
发明人：嵇凤丽;梁逸南;白珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-03-18 - 公布日： 2018-01-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板，属于显示技术领域，其可解决现有的掩膜板框架模组中的蒸镀掩膜板的边缘不固定导致的在蒸镀时蒸镀掩膜板的边缘容易卷曲翘起，影响蒸镀效果的问题。本发明的掩膜板框架模组，包括框架、覆盖掩膜板和至少两个蒸镀掩膜板，蒸镀掩膜板依次设置在框架上，两个相邻的蒸镀掩膜板之间具有缝隙，在框架上与缝隙对应的位置设置有第一沟槽；第一沟槽包括第一沟槽焊接部和第一沟槽非焊接部；蒸镀掩膜板包括与第一沟槽焊接部对应的第一子蒸镀掩膜板和与第一沟槽非焊接部对应的第二子蒸镀掩膜板；第一子蒸镀掩膜板的边缘与第一沟槽焊接部的边缘重合。
一种掩膜板框架模组方法阵列

[发明专利]掩膜板及掩膜组件-CN201910153400.9在审
发明人：李加伟 -专利权人：云谷(固安)科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供了一种掩膜板及掩膜组件。所述掩膜板包括第一蒸镀区域和第二蒸镀区域，所述第一蒸镀区域及所述第二蒸镀区域内分别设有多个蒸镀开口，所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度，所述第一蒸镀区域的厚度大于所述第二蒸镀区域的厚度所述掩膜组件包括掩膜板框架、支撑条及至少一个所述掩膜板，所述支撑条固定设置在所述掩膜板框架上，至少一个所述掩膜板设置在所述支撑条上，且与所述掩膜板框架固定连接。
蒸镀掩膜板支撑条开口掩膜组件固定设置申请

[发明专利]一种掩膜板、蒸镀方法以及蒸镀设备-CN202310816957.2在审
发明人：杨一新;卞曙光 -专利权人：季华实验室
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开涉及一种掩膜板、蒸镀方法以及蒸镀设备，掩膜板包括掩膜框架以及设置在掩膜框架上依次排列的多列掩膜片；通过掩膜板多列掩膜片的蒸镀图案，在基板上第一次蒸镀形成多列第一蒸镀图形；掩膜板与基板相对旋转180°后，通过掩膜板多列掩膜片的蒸镀图案，在各相邻列第一蒸镀图形之间，以及最后一列第一蒸镀图形远离其他列第一蒸镀图形一侧第二次蒸镀形成第二蒸镀图形；其中，相邻列掩膜片的蒸镀图案之间具有第一距离；第一距离大于等于蒸镀图案沿掩膜片排列方向的长度；第一距离小于掩膜片沿掩膜片排列方向的长度。本公开使基板上相邻蒸镀图案之间的距离减小，基板上蒸镀图案数量增加，进而提高了基板的利用率，还降低了掩膜板的制作成本。
一种掩膜板方法以及设备

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