专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]蚀刻方法、损伤层的去除方法和存储介质-CN202010966419.8在审
  • 清水昭贵 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-09-15 - 2021-04-09 - H01L21/3065
  • 本发明涉及蚀刻方法、损伤层的去除方法和存储介质。一种技术,其可以充分去除使用包含CF系气体的气体的等离子体蚀刻后的图案中生成的损伤层。一种蚀刻方法,其具备:准备具有在含硅部分上形成的蚀刻对象部的基板的工序;利用包含CF系气体的处理气体的等离子体,将基板的蚀刻对象部等离子体蚀刻成规定图案的工序;和,将损伤层去除的工序,所述损伤层是通过等离子体蚀刻而C和F注入到在图案底部露出的含硅部分中来生成的,将损伤层去除的工序具备如下工序:供给包含氧的自由和包含氟的自由,将损伤层用包含氟的自由进行蚀刻并利用包含氧的自由进行氧化,以形成损伤层的氧化物的工序;和,利用基于气体的化学处理或自由处理,将氧化物去除的工序。
  • 蚀刻方法损伤去除存储介质
  • [发明专利]一种清洗装置和清洗方法-CN201310710172.3有效
  • 井杨坤 - 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2013-12-19 - 2014-04-02 - B08B11/04
  • 本发明涉及清洁工具技术领域,特别涉及一种清洗装置及清洗方法,用于在不损伤物体表面的情况下,利用该清洗装置和清洗方法可以有效地去除物体表面异物。本发明公开的清洗装置包括:使清洗液产生自由自由产生器;与自由产生器连通、接收从自由产生器输出的含有自由的清洗液的暂存箱,暂存箱具有将含有自由的清洗液喷射到待清洗物体表面的至少一个喷头;相对设置且形成覆盖待清洗物体表面的电场的阳极和阴极,含有自由的清洗液喷射到待清洗物体表面后,清洗液中的自由在阳极和阴极形成的电场作用下运动并与待清洗物体表面的异物发生化学反应,使待清洗物体表面的异物脱离待清洗物体表面。
  • 一种清洗装置方法

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