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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]氮化钛膜的形成方法和氮化钛膜的形成装置-CN201210048533.8无效
发明人：两角友一朗;菱屋晋吾;原田豪繁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2012-09-05 - 主分类号： H01L21/285 文献下载
摘要：本发明提供氮化钛膜的形成方法和氮化钛膜的形成装置。在氮化钛膜的形成方法中，首先，利用升温用加热器将收容有半导体晶圆的反应管内加热到200℃～350℃。接着，向反应管内供给含有钛原料的成膜用气体而在半导体晶圆上形成氮化钛膜。该钛原料采用不含有氯原子而含有钛的甲基环戊二烯基三(二甲基氨基)钛。
氮化形成方法装置

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用复合片及装置的制造方法-CN202110047614.5在审
发明人：野岛一马 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： H01L21/78 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在形成有保护膜的芯片等工件的加工品进一步被树脂密封的情况下，也能够提高密封树脂与保护膜之间的粘合可靠性的保护膜形成膜及保护膜形成用复合片、以及使用该保护膜形成用复合片制造装置的方法。所述保护膜形成膜是用于形成保护膜的保护膜形成膜，且以260℃加热5分钟后的保护膜的表面粗糙度Ra1为200nm以下。
保护膜形成复合装置制造方法

[发明专利]沉积膜形成方法、沉积膜形成装置、沉积膜及使用其的感光体-CN200680021460.6在审
发明人：池田昭彦;大久保大五郎;川上哲哉;中村隆;笹原正光;长浜大辅 -专利权人：京瓷株式会社
申请日： 2006-06-01 - 公布日： 2008-06-11 - 主分类号： C23C16/515 文献下载
摘要：本发明供一种沉积膜形成方法及能够实现该方法的装置，该沉积膜形成方法包括将沉积膜形成对象物(10)收容在反应室(4)的第一步骤、向反应室(4)供给反应性气体的第二步骤、对在反应室(4)中间隔开配置的第一导体
沉积形成方法装置使用感光

[发明专利]有机膜形成装置以及有机膜制造方法-CN201910248408.3有效
发明人：高桥崇史;矶明典 -专利权人：芝浦机械电子株式会社
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种有机膜形成装置以及有机膜制造方法，其能够缩短形成有有机膜的基板的冷却时间，而且能够维持有机膜的品质。实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；排气部，可对所述腔的内部进行排气；第1加热部，设置在所述腔的内部，具有至少1个第1加热器；第2加热部，具有至少1个第2加热器，设置成与所述第
有机形成装置以及制造方法

[发明专利]叠层密封膜形成方法和形成装置-CN201610457681.3有效
发明人：里吉务;仙波昌平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-06-22 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种叠层密封膜形成方法和形成装置，其在抑制生产性降低和异物附着的同时能够形成膜厚度薄且具有高密封性能的叠层密封膜。在叠层密封膜形成方法中，在多个作为发光层的有机EL层(102)形成于衬底(101)上而得到的有机EL元件(S)上，形成无机膜(201)和有机膜(202)层叠的结构的叠层密封膜(203)，在一个处理容器(11)内交替地反复进行多次利用原子层沉积法形成无机膜(201)的步骤和利用蒸镀聚合法形成有机膜(202)的步骤。
密封形成方法装置

[发明专利]硅氧化膜的形成方法及其形成装置-CN201310279436.4无效
发明人：大部智行;黑川昌毅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-07-04 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明提供一种硅氧化膜的形成方法及其形成装置。该硅氧化膜的形成方法具备：成膜工序，向收纳有多个被处理体的反应室内供给含氯原子的硅源，并在所述多个被处理体上形成硅氧化膜，其中，在所述成膜工序中，向所述反应室内供给氢气气体并使该反应室内处于氢气气氛下。
氧化形成方法及其装置

[发明专利]膜形成设备、膜形成方法和物品制造方法-CN202180015996.1在审
发明人：黑泽博史;伊藤俊树 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2021-02-09 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：[解决方案]该膜形成设备，用光照射基板上的组成物以在基板上形成组成物的膜，包括：在基板上形成光的积分光量的分布的光调制单元；以及用于控制光调制单元的控制单元。控制单元基于组成物的残膜率特点以及在后续步骤中使用的模板的成像平面的弯曲形状和形成在基板上的基膜的表面形状中的至少一个来控制光调制单元的积分光量的分布。
形成设备方法物品制造

[发明专利]膜形成设备和膜形成设备用的校准方法-CN201110226187.3有效
发明人：石原繁纪 -专利权人：佳能安内华股份有限公司
申请日： 2011-08-08 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供几乎不受由恢复处理引起的遮蔽板的大小和形状的改变影响的膜形成设备和膜形成设备用的校准方法。该膜形成设备包括包围真空室中在相互面对的处理对象基板和靶材之间的溅射空间的遮蔽板，并通过使至少一种活性气体和膜形成材料相互反应来在处理对象基板上形成膜。膜形成设备被配置为基于压力检测部件所检测到的溅射空间的压力值，控制要导入溅射空间中的气体的流量相对于要导入在真空室的内壁和遮蔽板之间的空间中的气体的流量的比。
形成设备备用校准方法

[发明专利]膜形成工具、膜形成工具的制造方法及其用途-CN201780088502.6在审
发明人：鲁珀特·格仕温特那;贝恩德·施泰因 -专利权人：凯孚尔有限公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： B29C33/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将部件与层压元件层压或用于成型具有压印几何形状的热塑性薄膜的膜形成工具；一种用于压印壳生产的替代方法和相应的膜形成工具的用途。为此目的，膜形成工具的模壳设置有具有压印结构的陶瓷层，从而允许通过层压方法将压印结构传递到层压元件。
膜形成压印层压元件压印结构成型热塑性薄膜使用寿命制造成本陶瓷层通过层层压模壳制造传递替代生产

[发明专利]钌膜形成用材料及钌膜形成方法-CN201180008881.6有效
发明人：齐藤隆一;郑康巨;西村秀树;酒井达也 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2011-02-08 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： C23C16/18 文献下载
摘要：本发明提供即使在氧等氧化剂非存在下也能容易分解的钌膜形成用材料。发明涉及一种含有下述式（1）表示的化合物的钌膜形成用材料。
形成用材料及方法

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及检查方法-CN202011259826.1在审
发明人：山本大辅;米山裕之 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2015-01-21 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及保护膜形成用片(2)，其具备保护膜形成膜(1)、和叠层于该保护膜形成膜(1)的一面或两面的剥离片(21)，所述保护膜形成膜(1)的特征在于，其在波长1600nm的透光率为72％以上、在波长550nm根据该保护膜形成用片(2)，能够形成可实现对在工件或对该工件进行加工而得到的加工物上存在的裂纹等的检查、并且可使工件或加工物上存在的磨痕不被肉眼识别到的保护膜。
保护膜形成复合检查方法

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及检查方法-CN201580005206.6在审
发明人：山本大辅;米山裕之 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2015-01-21 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： H01L23/00 文献下载
摘要：本发明涉及保护膜形成用片(2)，其具备保护膜形成膜(1)、和叠层于该保护膜形成膜(1)的一面或两面的剥离片(21)，所述保护膜形成膜(1)的特征在于，其在波长1600nm的透光率为72％以上、在波长550nm根据该保护膜形成用片(2)，能够形成可实现对在工件或对该工件进行加工而得到的加工物上存在的裂纹等的检查、并且可使工件或加工物上存在的磨痕不被肉眼识别到的保护膜。
保护膜形成复合检查方法

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片、返工方法及装置的制造方法-CN202210884756.1在审
发明人：山下茂之;田中佑耶 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-07-26 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C09J7/10 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在对贴附后产生了损伤的保护膜形成膜实施返工的情况下返工性也良好的保护膜形成膜、具备该保护膜形成膜的保护膜形成用片及保护膜形成用复合片、以及返工方法及半导体装置等装置的制造方法。所述保护膜形成膜为用于形成保护膜的保护膜形成膜，直角撕裂试验中保护膜形成膜断裂时的伸长率在23℃下为200％以下，在硅晶圆的#2000抛光面上贴附保护膜形成膜1小时后，该保护膜形成膜对硅晶圆的粘着力在23
保护膜形成复合返工方法装置制造

[发明专利]形成膜的材料-CN201510459653.0在审
发明人：江原和也;今村光;坂本力丸 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2011-12-01 - 公布日： 2015-11-04 - 主分类号： C09D175/04 文献下载
摘要：作为解决本发明课题的手段涉及形成膜的材料以及将由该形成膜的材料制作的固化膜被覆在透明电极的表面上而成的太阳能电池，所述形成膜的材料是形成太阳能电池的透明电极上的聚光膜的材料，其在633nm的波长下具有1.5
形成材料

[发明专利]膜形成方法-CN201710232006.5在审
发明人：古村雄二;清水纪嘉;西原晋治;拝形英里;石川真人 -专利权人：株式会社菲尔科技
申请日： 2017-04-11 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： C23C16/452 文献下载
摘要：本发明提供在室温下高速且被覆性良好地成膜化合物的膜的方法。该方法的膜形成装置具备分别蓄积第一原料气体和第二原料气体的蓄积机构、对第一原料气体及第二原料气体进行加热的瞬间加热部、和放置有温度低于瞬间加热部的加热温度的基体的反应室，将在蓄积机构蓄积的第一原料气体和第二原料气体通过瞬间加热部而生成第一气体分子种和第二气体分子种使该第一气体分子种和第二气体分子种向放置有基体且被减压的一定容量的反应室突出而进行供给，使第一气体分子种的分压和第二气体分子种的分压急剧上升，对基体的表面交替反复导入第一气体分子种或第二气体分子种，使第一气体分子种或第二气体分子种发生反应，从而在基体的表面形成化合物膜
形成方法

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