“等离子体射流装置”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果16930030个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]等离子体喷镀装置和等离子体喷镀方法-CN202010819371.8在审
发明人：大西辽;西田辰夫;古屋敦城 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-14 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： C23C4/134 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体喷镀装置和等离子体喷镀方法。提供能够控制等离子体射流的形状的技术。本公开的一技术方案的等离子体喷镀装置具备：供给部，其利用第1气体运送喷镀材料的粉末，并从顶端部的开口喷射该粉末；等离子体生成部，其使用喷射出的所述第1气体生成芯轴与所述供给部共通的等离子体；气体流路，其向所述等离子体的生成空间供给第2气体，该第2气体用于形成以所述供给部的中心轴线为旋转轴线的涡流；以及磁场产生部，其在所述等离子体的生成空间相对于所述供给部的中心轴线产生期望的分布的磁场。
等离子体装置方法

[实用新型]低气压层流等离子体喷涂装置-CN01279072.9无效
发明人：吴承康;潘文霞;马维 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2001-12-24 - 公布日： 2003-01-01 - 主分类号： B05B5/06 文献下载
摘要：低气压层流等离子体喷涂装置属于金属材料表面处理设备。本装置包括真空室、等离子体射流发生器、供粉器、电源、气源和冷却水源等。其中等离子体发生器是层流等离子体射流发生器，在其阳极和阴极之间有一中间段，通过发生器连接机构安装在真空室上并可以径向或轴向移动；真空室的底面安装有旋转、移动多个自由度、并能对工件水冷的工件台，工件台和射流发生器之间有挡板机构本实用新型装置功能完善、结构简单、制造费用少、操作便捷，适用于多种构形工件的等离子体喷涂涂层制备、表面改性和处理加工，获得质地致密、孔隙率低、光洁度高的涂层。
气压层流等离子体喷涂装置

[发明专利]一种医疗废水处理方法-CN201910965898.9有效
发明人：宋鹏 -专利权人：大连民族大学
申请日： 2019-10-12 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种医疗废水处理方法，包括：S1.在射流净化器体上设置多层非平衡等离子体射流激励器；S2.等离子体电源为每个高压电极供电；S3.阀门开度电子控制器控制气体流量控制阀a和气体流量控制阀b打开；S4.阀门开度电子控制器控制液体流量控制阀打开，蓄液池中的待处理液体进入阵列式非平衡等离子体射流的作用空间；S5.在非平衡等离子体射流的作用下，雾化场中液滴颗粒内所含有的目标净化物被杀灭；S6.经过阵列式等离子体射流净化的液体喷雾在水处理箱中被收集；S7.检测口控制阀打开，检测口回流泵将净化后液体抽出、送入检测单元中；非平衡等离子体技术具有杀灭效率高、病原体再生率低、使用成本低等特点，是一种全新的高效、清洁净水技术。
一种医疗废水处理方法

[发明专利]用于表面处理或涂层的方法和设备-CN200880024207.5无效
发明人： M·比斯格斯 -专利权人：赖茵豪森机械制造公司
申请日： 2008-07-17 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种借助等离子体进行表面处理或涂层的方法。其中，将一种气体载体输送到至少一个在空间上分开的反应室中，并使之与所产生的等离子体射流充分混合，从而使气体载体被活化或产生一种微粒射流，该微粒射流独立于等离子体流而作用到一个待处理或待涂层的工件的表面。
用于表面处理涂层方法设备

[发明专利]一种准干式高速电火花加工方法及其装置-CN201910139858.9在审
发明人：余祖元;邹日貌;张从阳;李剑中 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2019-02-26 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： B23H1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种准干式高速电火花加工方法及其装置，属于机械加工及工具领域。此方法以大气压冷等离子体射流与同轴喷雾射流组成的混合介质作为电火花加工介质，同轴喷雾射流的引入可以大幅提高熔融电蚀产物的冷却速度，从而提高放电加工稳定性与加工效率。本发明提出了一种大气压冷等离子体射流中高速电火花加工方法，可在相同加工能量下，以低廉的成本获得远高于纯大气压冷等离子体射流中、大气压冷等离子体射流与同轴高速空气射流混合介质中的材料去除率。
冷等离子体射流电火花加工混合介质同轴工具电极喷雾射流干式高速空气射流材料去除率电蚀产物发生组件放电加工工具领域机械加工加工能量加工区域加工效率脉冲电源浸没中高速熔融冷却引入加工

[发明专利]高压液下气体射流放电等离子体处理污水的装置和方法-CN201210430106.6无效
发明人：王志农;邵乐冲 -专利权人：王志农;邵乐冲
申请日： 2012-11-01 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本发明涉及一种高压液下气体射流放电等离子体处理污水的装置和方法，包括至少一套气体射流等离子体模块（1）和反应槽（2），包括步骤：将高频高压电源（11）产生的高压加载在置于气体射流管（13）之内的高压电极（12）和置于反应槽（2）内待处理污水中的地电极（14）之上；向气体射流管（13）通入压缩空气或氧气；待处理污水从反应槽（2）一侧流入，气体射流管（13）下部没入待处理污水中，高压电极（12）通过气体放电产生等离子体，等离子体借助气体射流穿越气体射流管（13）下部的小孔迅速导入待处理污水中，对待处理污水进行处理。
高压气体射流放电等离子体处理污水装置方法

[发明专利]具有开槽通气结构的等离子体激励器-CN201810215258.1有效
发明人：俞建阳;陈浮;王钊 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2018-10-30 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：具有开槽通气结构的等离子体激励器，属于介质阻挡放电等离子体技术领域。本发明是为了解决现有等离子体激励器产生的等离子体诱导射流速度低的问题。本发明作为一种可提高等离子体的诱导射流速度的等离子体激励器。
绝缘介质电极等离子体激励器槽道介质表面通气结构上表面开槽射流嵌入介质阻挡放电等离子体等离子体等离子体诱导平行设置上槽口诱导覆盖

[发明专利]一种大面积射流放电等离子体树脂吸附剂表面改性的装置-CN201910900769.1在审
发明人：杨德正;王红丽;徐庆南;袁皓;乔俊杰 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：本发明属于低温等离子体改性树脂吸附剂的制备技术领域，具体涉及一种大面积射流放电等离子体树脂吸附剂表面改性的装置，主要由纳秒脉冲电源、等离子体反应器和配气系统组成。本发明利用纳秒脉冲电源引发强烈的射流放电来产生活性等离子体区，使吸附剂在高能电子、高活性物种以及紫外线照射的轰击下进行改性，通过调节放电处理时间来产生具有不同改性效果的等离子体区域。本发明的益处和所达到的效果是结构简单，易操作，运行成本低且无污染；与传统射流放电相比，增加了放电的面积，提高能量利用率，降低功耗，同时吸附剂的吸附性能也得到了很大的提升，具有较高的工业推广价值。
放电射流树脂吸附剂纳秒脉冲吸附剂改性电源等离子体反应器等离子体区域放电等离子体活性等离子体制备技术领域低温等离子能量利用率紫外线照射表面改性放电处理高能电子降低功耗配气系统吸附性能运行成本高活性轰击物种

[发明专利]一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置和方法-CN201911088623.8在审
发明人：殷炜宏;李国强;段倩倩;胡兴 -专利权人：上海工程技术大学
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置和方法，包括等离子体产生组件、光电转换组件和PID控制组件，所述的PID控制组件分别与等离子体产生组件和光电转换组件电连接，所述的光电转换组件设置于等离子体产生组件的出气口处，用于测量谱线强度并将光信号转变为电信号，所述的PID控制组件包括PID控制器、显示屏以及调节按钮，所述的PID控制器用于计算标准电离电压，所述的调节按钮用于调节等离子体产生组件内的实际电离电压，所述的显示屏用于显示标准电离电压和实际电离电压，与现有技术相比，本发明具有结构简单、成本低且可反馈调节控制等离子体射流强度等优点。
一种通过反馈环节控制电源等离子体射流装置方法

[实用新型]一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置-CN201921921616.7有效
发明人：殷炜宏;李国强;段倩倩;胡兴 -专利权人：上海工程技术大学
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置，包括等离子体产生组件、光电转换组件和PID控制组件，所述的PID控制组件分别与等离子体产生组件和光电转换组件电连接，所述的光电转换组件设置于等离子体产生组件的出气口处，用于测量谱线强度并将光信号转变为电信号，所述的PID控制组件包括PID控制器、显示屏以及调节按钮，所述的PID控制器用于计算标准电离电压，所述的调节按钮用于调节等离子体产生组件内的实际电离电压，所述的显示屏用于显示标准电离电压和实际电离电压，与现有技术相比，本实用新型具有结构简单、成本低且可反馈调节控制等离子体射流强度等优点。
一种通过反馈环节控制电源等离子体射流装置

[发明专利]大气压微尺度低温等离子体射流发生装置-CN201110335006.0无效
发明人：李寿哲 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2011-10-29 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：一种大气压微尺度低温等离子体射流发生装置，属于低温等离子体技术领域。其特征是等离子体射流在石英玻璃管内产生，激励电场由安放在石英玻璃管外侧相对位置的平板形金属电极建立，在平板形金属电极的上、下表面上分别放置石英玻璃板，其外侧正对着石英玻璃管的位置附近分别放置紫外光源，平板形金属电极由具有脉冲调制功能的射频电源经过网络匹配器驱动本发明的效果和益处是在常压条件下获得了没有等离子体污染的物理尺寸能按比例改变的微尺度等离子体射流，而且通过调整脉冲占空比控制等离子体的气体温度，在生物医疗的杀菌消毒和高精密的微纳机械加工等诸多相关领域得到应用
大气压尺度低温等离子体射流发生装置

[发明专利]一种磁透镜下等离子体束聚焦的方法-CN201010118597.1有效
发明人：宁中喜;于达仁;丁永杰;颜世林 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2010-03-05 - 公布日： 2010-10-13 - 主分类号： H05H1/02 文献下载
摘要：一种磁透镜下等离子体束聚焦的方法，它涉及一种磁透镜下等离子体束聚焦的方法。它解决了现有霍尔推力器通道内磁透镜下等离子体束聚焦仅依赖于磁透镜位形调节，调节手段单一的问题，本发明的具体过程为：步骤一，获取磁透镜位形和等离子体束聚焦指标，并计算霍尔推力器通道内的满足等离子体束聚焦指标的离子射流聚焦区；步骤二：实测霍尔推力器通道内的工质电离分布区域，控制实测获得的工质电离分布区域在计算获得的离子射流聚焦区内，实现等离子体束聚焦。
一种透镜等离子体聚焦方法

[发明专利]一种等离子体源及等离子体的产生方法-CN201910546218.X在审
发明人：黄邦斗;章程;叶成园;邵涛 -专利权人：中国科学院电工研究所
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：本发明涉及等离子应用技术领域，具体涉及一种等离子体源及等离子体的产生方法。包括：第一电源，通过设置在射流管上的电极与所述射流管连接；所述射流管，靠近所述电极的一端设置有进气口，远离所述电极的一端设置有出气口；第二电源，与所述射流管连接，用于向所述射流管提供电压。利用在射流管上设置电极，电极与第一电源连接，通过第一电源产生微弱的等离子流射，在使用第二电源与连接射流管，第一电源和第二电源产生耦合现象，从而对等离子流射进行补偿，使射流管内的等离子流射能够通过调节第二电源产生稳定持续的等离子射流
射流管电极等离子流电源产生电源等离子体等离子体源一端设置进气口应用技术领域等离子射流电源连接耦合现象等离子出气口

[发明专利]低温等离子体射流阵列产生电极-CN202310399151.8在审
发明人：郭啸龙;刘云龙 -专利权人：武汉芙丽雅电子科技有限公司
申请日： 2023-04-11 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种低温等离子体射流阵列产生电极，包括：针簇电极、密封盖及反应腔；密封盖设置为底部敞开的半封闭式结构；密封盖密封的顶部开设有电极安装孔及气管接口；反应腔设置为顶部敞开的半封闭式结构，反应腔的顶部经密封盖的底部延伸至密封盖的内侧并与密封盖密闭连接；针簇电极安装在电极安装孔内，针簇电极的放电端设置在反应腔内；反应腔的底部开设有等离子体溢出孔群。该低温等离子体射流阵列产生电极，高压电源通过限流电阻接通针簇电极，同时气瓶中的反应气体通过密封盖气管接口注入反应腔，在高压电源和反应气体的综合作用下，反应气体和等离子射流将从反应腔的等离子体溢出孔喷射而出，可产生单端的大面积低温等离子体射流阵列。
低温等离子体射流阵列产生电极

[实用新型]一种低温等离子体关节腔穿刺射流装置-CN202023123285.8有效
发明人：丁呈彪;吴征威 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种低温等离子体关节腔穿刺射流装置，由气体输送装置以及等离子体发生装置组成；等离子体发生装置包括手柄、高压电极、金属针形外壳和高压电源；气体输送装置包括气瓶、气体阀门和气体流量仪表；气体输送装置以及等离子体发生装置相互之间使用导气管连接
一种低温等离子体关节穿刺射流装置