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[发明专利]磁性抛光粒的制造方法-CN00105407.4无效
发明人：郭佳儱;方仁宇 -专利权人：微邦科技股份有限公司
申请日： 2000-03-27 - 公布日： 2001-10-03 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明是一种磁性抛光粒的制造方法,通过将高硬度的研磨性材料对导磁性金属放电,使两者熔融在一起并吹散,制成带磁性的研磨抛光粒。本发明开创了磁性抛光粒的制造方法,从而解决了长期以来无法研磨微小电极、微内孔及微槽的难题,且其工艺简单、成本低廉,适合广泛推广应用。
磁性抛光制造方法

[发明专利]一种通电辊表面处理装置及其加工工艺-CN202110186743.2有效
发明人：陆峰;刘磊;李铁林;彭行皇;陈中发;卢江 -专利权人：赣州逸豪新材料股份有限公司
申请日： 2021-02-18 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B24B37/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种通电辊表面处理装置及其加工工艺，其中通电辊表面处理装置包括基础座、支撑架和研磨组件，基础座上安装待研磨的通电辊，支撑架上安装研磨组件，研磨组件与通电辊的外壁接触，研磨组件包括长套筒、伸出气缸、横向伸出臂、驱动电机、研磨轮、回字框和维稳组件，研磨组件可以对通电辊的外壁进行抛光处理，研磨组件上下移动的同时就能从上到下依次对通电辊的外壁进行抛光，这样能减少磨料和磨削钛屑在通电辊外表面积留，提高抛光效果，同时可根据通电辊的尺寸对维稳组件和横向伸出臂进行调整，调整过程简单方便，实用性好，对通电辊进行研磨的过程中，通电辊发生自转，使通电辊的外壁全部得到抛光，提高整体抛光效果。
一种通电表面处理装置及其加工工艺

[发明专利]一种镜片表面处理工艺-CN202011187501.7在审
发明人：焦飞宏;蒋俊平 -专利权人：江苏汇鼎光学眼镜有限公司
申请日： 2020-10-30 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种镜片表面处理工艺，包括如下具体步骤：粗磨：使用砂轮研磨镜片，对镜片进行基本定型；精磨：将定型后的镜片与研磨片的模具接触，使镜片的模具随着润滑液和研磨液冷却的同时进行转动，得到二次定型的镜片；抛光：使用抛光粉、硝酸以及去离子水进行混合，形成抛光液后将其倾倒于镜片表面；镜片镀膜；其技术要点为，在对镜片进行抛光处理时，抛光与研磨的机制相同，在进行抛光处理时采用浸没式的打磨作业，可保证抛光液与镜片表面完全吻合，避免发生抛光时产生跳动，因咬持抛光粉而刮伤镜片表面的情况；使用到的抛光液可采用抛光粉、硝酸以及去离子水进行混合，并进行二次抛光，可保证镜片表面的平滑，同时可有效避免镜片表面发生雾化现象。
一种镜片表面处理工艺

[发明专利]一种无水研磨镜面抛光工艺-CN201910451481.0在审
发明人：谭长福;蔡瑞林 -专利权人：谭长福;蔡瑞林
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种无水研磨镜面抛光工艺，其制备工艺包括以下步骤：A、根据客户产品外形尺寸的大小定制生产符合该产品抛光运行间距的拖拉式自动抛光机；B、根据客户产能选用从24根抛光杆到960根抛光杆，抛光杆间距从60mm至400mm之间，再根据客户产品表面镜面抛光的品质标准定制合适的工艺流程（粗抛、中抛、精抛）。本发明是采用一款拖拉式自动抛光机和核桃粒、玉米芯、羊毛球、氧化铝、氧化铈、碳化硅、金刚石的研磨载体及抛光油相结合，不用水可以使锌合金、铝合金、不锈钢、钛合金及贵金属表面达到镜面效果，同时制作工艺简单，生产效率高、不用水环保、品质稳定、全封闭噪音小、更能够提高镜面抛光生产效率，适用性广。
一种无水研磨抛光工艺

[发明专利]一种电解铜箔阴极辊抛光工艺-CN202310870773.4在审
发明人：陈韶明;施毓计 -专利权人：安徽华威铜箔科技有限公司
申请日： 2023-07-17 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种电解铜箔阴极辊抛光工艺，包括以下步骤：(1)冲洗处理：将阴极辊表面的结晶残留物冲洗去除；(2)研磨处理：阴极辊表面结晶残留物冲洗完成后，对阴极辊进行研磨；(3)抛光处理：阴极辊研磨完成后，对阴极辊进行抛光。通过本发明阴极阴极辊抛光工艺，使阴极辊在电镀过程中生产的电解铜箔具有缺陷少、细晶粒、低表面粗化度、高强度、高延展性、更加薄的、纯度更高、信号传递更快、更准的特点，更加适用于高精细电解铜箔的制造。
一种电解铜箔阴极抛光工艺

[发明专利]一种银或银合金的表面抛光处理工艺-CN201910190387.4在审
发明人：林德谊;林明璟;林芯睿 -专利权人：林德谊
申请日： 2019-03-13 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：6.5%～10.5%的硝酸铁、0.9%～1.6%的硝酸溶液、13～21%的硫酸溶液和66.9%～79.6%的水，将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后，再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的银或银合金；第三步，银或银合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对银或银合金的表面进行抛光。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺，银或银合金的表面抛光过程不需要人工干预，30分钟即完成表面抛光，具有省时省力的优点，抛光效率高，抛光成本低。
抛光处理剂银合金重量比表面抛光处理表面抛光硫酸溶液硝酸溶液研磨硝酸铁抛光放入处理工艺摩擦作用抛光成本抛光效率人工干预研磨机省时稀释省力配制腐蚀

[发明专利]一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺-CN201910217587.4在审
发明人：林德谊;林明璟;林芯睿 -专利权人：林德谊
申请日： 2019-03-21 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：3%～7%的三氯化铁、17～25%的硫酸溶液和68%～80%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将三氯化铁与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的铜或铜合金；第三步，铜或铜合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对铜或铜合金的表面进行抛光。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺，铜或铜合金的表面抛光过程不需要人工干预，30分钟即完成表面抛光，具有省时省力的优点，抛光效率高，抛光成本低。
抛光处理剂铜合金重量比表面抛光处理表面抛光硫酸溶液三氯化铁研磨抛光放入处理工艺摩擦作用抛光成本抛光效率人工干预研磨机省时省力配制腐蚀

[发明专利]一种金属的表面抛光处理工艺-CN201910992377.2在审
发明人：林德谊;林明璟;林芯睿 -专利权人：林德谊
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： B24B31/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：70%～90%的三氯化铁和10～30%的具有腐蚀作用的酸性化合物溶液，上述组成成份的重量比以克为单位，将三氯化铁和酸性化合物溶液按照上述重量比加入适量的水混合均匀，制得抛光处理剂；第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的金属饰品；第三步，金属饰品的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对金属饰品的表面进行抛光。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺，金属饰品的表面抛光过程不需要人工干预，30分钟即完成表面抛光，具有省时省力的优点，抛光效率高，抛光成本低。
抛光处理剂金属饰品重量比酸性化合物溶液表面抛光三氯化铁研磨抛光放入腐蚀表面抛光处理水混合均匀处理工艺摩擦作用抛光成本抛光效率人工干预研磨机省时省力配制金属

[发明专利]一种碳化硅晶圆研磨抛光工艺-CN202211023158.1在审
发明人：严立巍 -专利权人：中晟鲲鹏光电半导体有限公司;浙江同芯祺科技有限公司
申请日： 2022-08-25 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆表面处理技术领域，公开一种碳化硅晶圆研磨抛光工艺，包括以下步骤：S1、将与玻璃载盘键合的晶圆片放置在可转动的研磨盘上，进行研磨处理，得到晶圆薄片。S2、晶圆薄片通过输料水道输送至抛光工序，输送过程进行第一清洗处理。S3、从输送水道内将第一清洗处理过的晶圆薄片吸附移动至抛光机上。S4、对晶圆薄片进行表面抛光处理，得到表面粗糙度小于3μm的SiC晶圆。S5、SiC晶圆通过输料水道时进行第二清洗处理，然后输送至冲刷工序。本发明研磨抛光工艺，对碳化硅晶圆进行研磨、第一清洗、抛光、第二清洗、纯水清洗、干燥，节约加工时间，提高加工效率。
一种碳化硅研磨抛光工艺

[发明专利]光子晶体光纤端面研磨抛光方法及由此获得的器件-CN201510087651.3在审
发明人：华勇;卜继军;李伦聪;田自君;黄健 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十四研究所
申请日： 2015-02-26 - 公布日： 2015-05-20 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：一种光子晶体光纤端面研磨抛光方法，在光子晶体光纤的端面孔隙内预先填充低折射率光学胶，待低折射率光学胶固化后，对光子晶体光纤端面进行光学级的研磨抛光处理；所述低折射率光学胶的折射率小于光子晶体光纤芯层材料的折射率本发明的有益技术效果是：使光子晶体光纤端面可以在常规研磨抛光工艺条件下进行光学级研磨抛光，同时，解决了光子晶体光纤端面与光波导芯片耦合固接时胶体浸入光子晶体光纤内部的问题。
光子晶体光纤端面研磨抛光方法由此获得器件

[发明专利]一种高效抛光研磨复合主轴-CN201710884222.8在审
发明人：段红涛;张群;杜建飞 -专利权人：广州市锐恒科技有限公司
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： B24B41/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种高效抛光研磨复合主轴，包括机体，以及设置在机体内的定子和转子，所述机体的前端安装有前端盖，所述机体的后端安装有轴承座和后端盖，所述转子中间过盈配合安装一轴芯，所述轴芯的前部连接有研磨组件和前轴承组件，所述轴芯的后部连接有抛光组件和后轴承组件。本发明的有益效果是在轴芯的前部连接安装研磨组件，在轴芯的后部连接安装抛光组件，实现在同一主轴上完成对工件、工艺品的抛光和精细研磨。
一种高效抛光研磨复合主轴

[其他]喷气织机金属筘片抛光法及其装置-CN85104318无效
发明人：道原慎治;清水昭惠 -专利权人：株式会社木地金箴制作所
申请日： 1985-06-07 - 公布日： 1986-12-03 - 主分类号： B24B29/06 文献下载
摘要：本发明是关于喷气织机异形筘研磨抛光方法及其装置。利用一个高速转动的抛光轮来作为成形加工异形筘筘片空气导轨通道成为所希望的形状的工具。研磨抛光工艺是个简单加工过程，同时它(指抛光轮)也是作为抛光筘片的空气导轨通道的修正装置，校正后的通道非常光滑象一个整体并具有最小的空气阻力。
喷气织机金属抛光及其装置

[实用新型]一种抛光垫调节装置和化学机械抛光系统-CN202221343687.5有效
发明人：丁彦荣 -专利权人：成都高真科技有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种抛光垫调节装置和化学机械抛光系统，抛光垫调节装置包括：冲洗管路、吸液管路和修整盘，所述修整盘开设有吸液孔和冲洗孔，所述冲洗孔与冲洗管路连通，所述吸液孔与吸液管路连通，所述冲洗管路内流动有清洗介质，所述清洗介质用于冲洗抛光垫上的研磨残余物，所述吸液管路设有抽吸单元，所述吸液管路用于抽吸残留在抛光垫上的研磨残余物和清洗介质。化学机械抛光系统包括抛光垫调节装置和驱动装置。通过摩擦将附着在抛光垫孔槽内的研磨液残渣刮出，再使用去离子水对抛光垫表面进行冲洗，同时将冲洗后的去离子水抽离抛光垫表面，防止在后续晶圆研磨工艺过程中在晶圆表面产生划痕或者微粒，改善晶圆研磨质量，提高工作效率
一种抛光调节装置化学机械抛光系统

[发明专利]一种电镀前预处理抛光工艺-CN202011411375.9有效
发明人：郝利峰;李梦霞;杨玉萍;王培良 -专利权人：湖州学院
申请日： 2020-12-05 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：本发明涉及抛光设备技术领域，具体为一种电镀前预处理抛光工艺，其包括以下步骤：步骤一，进料工序，将工件与三角形磨粒同时放入研磨筒；步骤二，抛光工序，启动电机，驱动研磨筒转动；步骤三，筛选切割工序；步骤四，除废料工序，与步骤三同步进行；本发明通过磨粒在抛光工件的过程中对于磨损的磨粒进入到抛光机构中，由切割组件对磨损的磨粒进行切割后，使得三角形的磨粒重新具备棱角，在切割的同时，由除废料组件对研磨筒内的磨损废料进行收集排出，提高了磨粒抛光的抛光效果，同时减少了研磨筒内废料对工件抛光的影响。
一种电镀预处理抛光工艺

[发明专利]用于抛光蓝宝石基板的组合物和抛光蓝宝石基板的方法-CN201610324333.9有效
发明人：徐沛绅;张添琅;周乃天;黄新义 -专利权人：台湾永光化学工业股份有限公司
申请日： 2016-05-16 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明是有关于一种用于抛光蓝宝石基板的研磨组合物和使用其抛光蓝宝石基板的方法，其中本发明的研磨组合物包括：(A)5至50重量百分比的研磨粒子；(B)0.01至5重量百分比的含有下述通式(1)所表示的烷基胺结构化合物当应用本发明的研磨组合物抛光蓝宝石基板时，可改善于抛光工艺的抛光速率，并提升经抛光的基板的表面质量。
用于抛光蓝宝石组合方法