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[发明专利]研削液-CN201780033332.1有效
发明人：井上裕昭;竹村幸二;笹岛启佑;西藤和夫;田浦歳和 -专利权人：创技股份有限公司;阪东化学株式会社
申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种在抑制含有研磨粒时的分散性降低的同时离心分离的回收效率相对较高的研削液。本发明的研削液中，研削液的所有溶媒中的醇系溶媒及醚系溶媒的合计含量为95质量％以上、100质量％以下，所述醚系溶媒相对于所述醇系溶媒的质量比为1倍以上、5倍以下。
研削液

[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法-CN201180031491.0有效
发明人：俵义浩;早川净;长田太志 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2011-08-31 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，通过固定磨粒的研削加工不会伴随研削率的下降，能够以低成本制造出高质量的玻璃基板，本发明包括研削工序，该研削工序利用润滑液和在研削面上配备有包含钻石粒子的固定磨粒的平台，对玻璃基板主表面进行研削，在所述研削工序中，在供给到所述玻璃基板的研削加工面的润滑液中例如添加Al2O3而使其含有Al3+，润滑液中的Al2O3的含有量优选的是0.05g/L~1.0g/L范围。
磁盘玻璃制造方法以及

[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法-CN201610373331.9有效
发明人：俵义浩;早川净;长田太志 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2011-08-31 - 公布日： 2018-02-06 - 主分类号： G11B5/73 文献下载
摘要：本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，通过固定磨粒的研削加工不会伴随研削率的下降，能够以低成本制造出高质量的玻璃基板，本发明包括研削工序，该研削工序利用润滑液和在研削面上配备有包含钻石粒子的固定磨粒的平台，对玻璃基板主表面进行研削，在所述研削工序中，在供给到所述玻璃基板的研削加工面的润滑液中例如添加Al2O3而使其含有Al3+，润滑液中的Al2O3的含有量优选的是0.05g/L～1.0g/L范围。
磁盘玻璃制造方法以及

[发明专利]研削材料、研削材料的制造方法及制造装置-CN200310104407.0无效
发明人：志村辰裕 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2003-10-28 - 公布日： 2004-05-26 - 主分类号： B24C11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种研削材料、研削材料的制造方法及制造装置，此研削材料的制造过程为：用加热线圈(120)对贮存于设有熔液喷嘴(110)的漏斗(100)中的金属熔液M进行加热，使之从熔液喷嘴(110)中喷出，向从熔液喷嘴(110)中喷出的金属熔液M喷射高压流体F，此高压流体F为向下收缩的近似圆锥状，其顶角在10度以上、小于30度，并包围金属熔液M，使金属熔液M粉末化，从而制得研削材料。根据本发明的研削材料，可以防止研削材料品质发生变化，对被加工物进行高品质加工，并且加工时间短、成品率高，同时能够提高喷射效果和喷射工序的生产性。
材料制造方法装置

[发明专利]研削材料、研削材料的制造方法及制造装置-CN200710001643.8无效
发明人：志村辰裕 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2003-10-28 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： B24D18/00 文献下载
摘要：本发明提供一种研削材料、研削材料的制造方法及制造装置，此研削材料的制造过程为：用加热线圈(120)对贮存于设有熔液喷嘴(110)的漏斗(100)中的金属熔液M进行加热，使之从熔液喷嘴(110)中喷出，向从熔液喷嘴(110)中喷出的金属熔液M喷射高压流体F，此高压流体F为向下收缩的近似圆锥状，其顶角在10度以上、小于30度，并包围金属熔液M，使金属熔液M粉末化，从而制得研削材料。根据本发明的研削材料，可以防止研削材料品质发生变化，对被加工物进行高品质加工，并且加工时间短、成品率高，同时能够提高喷射效果和喷射工序的生产性。
材料制造方法装置

[实用新型]可提高研磨效率的研削液应用装置-CN201720544898.8有效
发明人：陈俊彦 -专利权人：光腾工业科技股份有限公司
申请日： 2017-05-17 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种可提高研磨效率的研削液应用装置，其包括:一本体，为由不锈钢制成的箱体；一压力计，设在该本体上；一纳米气泡产生器，设在该本体内，将研削液转化成纳米气泡研削液，其一端接有一分管头连接该压力计和一入水管，另一端连接有一出水管，该入水管在该本体上设有一输入研削液的入水口，该出水管在该本体上设有一输出纳米气泡研削液的出水口；一流量计，连接于该出水管的该出水口；一空气调节阀，设在该本体内，其上设有一空气进气孔，该空气调节阀连接一气管至该纳米气泡产生器，该气管之间设有一止逆阀，可大幅降低加工成本，并能保持作业环境中研削液不发臭，且能大大提升工具机附加价值及创造产业竞争力。
研削液纳米气泡出水管空气调节阀研磨效率应用装置产生器出水口入水管压力计气管流量计体内本实用新型产业竞争力空气进气孔一端连接作业环境工具机入水口止逆阀不锈钢管头输出转化加工

[实用新型]水力分离机-CN200620062835.0无效
发明人：蔡振华 -专利权人：蔡振华
申请日： 2006-08-14 - 公布日： 2007-08-22 - 主分类号： B04C5/00 文献下载
摘要：一种水力分离机，包括研削液箱、水泵、喷射管、锥形分离器和净水箱等。水泵的出水口连接喷射管，水泵的进水口连接研削液箱，喷射管连接在锥形分离器的上端，使喷射管口方向与锥形分离器的内圆相切，在锥形分离器的顶部中央连接有出水管，出水管连接净水箱，锥形分离器的底部锥尖处有铁屑出口这种水力分离机能够将研削液中的铁屑和杂物分离出来，使研削液可以重复使用，大大降低了加机床工成本。
水力分离

[发明专利]研削机构及研削装置-CN202011516859.X在审
发明人：高森雄大;高桥和宏;花坂周邦;渡辺创;礒野早织 -专利权人：东和株式会社
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种研削机构及研削装置。本发明在对于研削对象物的粗研削及精研削中使平坦度一定，包括：多个平台(2)，将板状的研削对象物(W)加以保持；至少一个粗研削部(4)，对研削对象物(W)进行粗研削；以及至少一个精研削部(5)，对研削对象物(W)进行精研削；并且在多个平台(2)的每一个上，粗研削部(4)及精研削部(5)构成为能够移动。
机构装置

[实用新型]一种研削液水箱-CN03273392.5无效
发明人：刘太田 -专利权人：东莞市宝发机械有限公司
申请日： 2003-08-13 - 公布日： 2004-10-27 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种研削液水箱，包括箱体、带进水孔的箱盖，还包括设置在所述箱盖上，且与所述箱体进水孔连通的沉淀槽；沉淀槽的底部设有可插入所述箱盖进水孔中出水管，在所述沉淀槽的内腔中设有隔板，在所述箱盖的顶部设有可卡在所述沉淀槽两侧的定位块从机台流出的研削液先流经沉淀槽后再流入水箱中，研削液中的砂粒和铁屑可沉淀在沉淀槽中，当需要清洗时，只需将沉淀槽从箱盖上取出清洗即可，由于设置在水箱上的沉淀槽的体积小，清洗起来更方便，所浪费的研削液也少。
一种研削液水箱

[发明专利]研削机构及研削装置-CN202011517322.5在审
发明人：高森雄大;藤原直己;渡辺创;礒野早织;花坂周邦 -专利权人：东和株式会社
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： B24B7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种研削机构及研削装置。本发明在对于研削对象物的粗研削及精研削中使平坦度一定，包括：平台(2)，将板状的研削对象物(W)加以保持；平台移动部(3)，使平台(2)沿着一方向而在规定的范围内进行直线往复移动；粗研削部(4)，在利用平台移动部(3)的研削对象物(W)的移动范围内移动，对研削对象物(W)进行粗研削；以及精研削部(5)，在利用平台移动部(3)的研削对象物(W)的移动范围内移动，对研削对象物(W)进行精研削。
机构装置

[实用新型]一种研削刀具及研削设备-CN201621366647.7有效
发明人：王苏毅 -专利权人：上海达特精密机械配件有限公司
申请日： 2016-12-13 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： B24B41/047 文献下载
摘要：本实用新型提供一种研削刀具及研削设备，所述研削刀具包括基座，所述基座的中心设有一个固定孔，基座的上下两端各设有一个安装接口，每个安装接口中安装有一个研削刀头，基座的左右两侧还各设有一个卡紧接口；所述研削设备包括上述研削刀具这样，一个研削刀具的基座可以用于两个研削刀头加工作业，提高了基座的利用率，节约了成本；而且，这样的作业方式，在将一个研削刀具的两个研削刀头切换时，无需将研削刀具从刀具安装盘上完全拆下，能够减少研削刀头的更换时间，提高研削加工效率。
一种刀具设备

[发明专利]一种硅片减薄装置和用于单晶硅片的减薄加工工艺-CN202111401298.3有效
发明人：冯帆;代冰;胡碧波;黄德智;周霖;王洪武 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种硅片减薄装置和用于单晶硅片的减薄加工工艺，所述硅片减薄装置的研削部设有导液围堰，研削台内设有上、下两腔体，依次完成废液的收集与排放、废液的分离与冷却液的回收，废屑可集中处理、冷却液经纯化供后续减薄作业循环使用，多次加工后可将研削盘抬升、对研削台进行整体清洗，减少减薄装置的非加工作业时间；砂轮部采用伸缩式粗精磨砂轮组，可以精准、快速地切换和控制精磨砂轮的伸缩动作，进一步改善硅片表面粗糙度，使其接近或达到专用精磨设备所加工的硅片表面水平
一种硅片装置用于单晶硅加工工艺

[实用新型]雾化研削液循环再利用装置-CN201920415473.6有效
发明人：曹飞箭;陈楷;黄可成;叶振锋 -专利权人：深圳三扬轴业股份有限公司
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了雾化研削液循环再利用装置，包括盖子，所述盖子的下端设置有箱子，所述箱子的内部一侧设置有一号隔间，所述箱子的内部靠近一号隔间的一侧设置有二号隔间，所述箱子的内部靠近二号隔间的一侧设置有三号隔间本实用新型所述的雾化研削液循环再利用装置，设有排气系统、箱子与净化装置，可以有效地将机台排出的雾化研削液回收再利用，减少废气排放量，提升环保效果，降低公司成本，提升公司效益，这种雾化研削液循环再利用装置将会带来更好的使用前景
隔间箱子研削液雾化循环再利用装置盖子本实用新型下端机台废气排放量上端外表面出口管道公司成本公司效益环保效果进口管道净化装置排气系统有效地再利用上端铁丝网底端排出回收贯穿

[发明专利]一种研削刀具、研削设备及研削设备的使用方法-CN201611147731.4有效
发明人：王苏毅 -专利权人：上海达特精密机械配件有限公司
申请日： 2016-12-13 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： B24B41/047 文献下载
摘要：本发明提供一种研削刀具、研削设备及研削设备的使用方法，由于在基座的上下两端各安装有一个研削刀头，当进行加工作业时，对待加工工件进行加工作业的研削刀头磨损时，先松开基座固定孔中的紧固螺钉和基座两侧的卡紧块，紧固螺钉并不从刀具安装盘上完全拆下，然后将所述基座绕紧固螺钉旋转，使另一个研削刀头对准待加工工件，最后将紧固螺钉拧紧并用卡紧块将基座卡紧，再继续进行加工作业。这样，一个研削刀具的基座可以用于两个研削刀头加工作业，提高了基座的利用率，节约了成本；而且，这样的作业方式，在将一个研削刀具的两个研削刀头切换时，无需将研削刀具从刀具安装盘上完全拆下，能够减少研削刀头的更换时间，提高研削加工效率。
一种刀具设备使用方法

[发明专利]一种提高硅片倒角宽幅精度的方法-CN202010551619.7有效
发明人：卢运增;贺贤汉;洪漪;王庆荣 -专利权人：上海中欣晶圆半导体科技有限公司
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高硅片倒角宽幅精度的方法，在进行研削台更换或者重新安装时，对研削台精度进行达标确认；所述研削台在硅片倒角加工时用于吸着硅片；所述研削台精度确认方法，具体步骤如下：步骤一、将MINNCOM的探头固定在研削台表面临近外周边缘处，进行位置调零；步骤二、将研削台旋转一周，采用MINNCOM的探头收集研削台整圈面振和芯振情况数据；步骤三、当MINNCOM的探头数据大于等于10um时，进行研削台水平的调整；当MINNCOM的探头数据全部在10um以下，说明研削台安装精度达标；通过此专利的开发与应用，确保研削台安装后面振、芯振控制在10um以下，有效的解决了因研削台安装而导致硅片加工宽幅不良问题。
一种提高硅片倒角宽幅精度方法

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