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[发明专利]一种等离子体治疗仪-CN202111496288.2在审
发明人：赵龙;宋鹏飞;杨锡信;王践禹;张强 -专利权人：烟台海灵健康科技有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： A61G10/00 文献下载
摘要：本发明涉及医疗设备技术领域，尤其涉及一种等离子体治疗仪，其包括治疗舱，所述治疗舱具有中空腔，以及与所述中空腔连通的第一开口，病人的头部能够通过所述第一开口伸出；等离子体发生器，所述等离子体发生器设置在所述治疗舱中，能够对空气进行电离，以产生一氧化氮的等离子体；供气模块，所述供气模块与所述等离子体发生器连通；控制模块，所述控制模块与所述等离子体发生器以及所述供气模块电连接。本发明能够提升等离子体治疗仪的集成度，而且使用方便，同时能够对废气进行处理。
一种等离子体治疗

[实用新型]原子层沉积镀膜设备-CN202122978612.6有效
发明人：陈文翰;李哲峰 -专利权人：深圳市原速科技有限公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种原子层沉积镀膜设备，包括镀膜腔室、等离子体发生器以及将所述等离子体发生器与所述镀膜腔室相连接的扩散腔，还包括与扩散腔相连接的源进气装置、设置于所述等离子体发生器和所述扩散腔之间用于过滤等离子体中预定粒子的屏蔽孔板该原子层沉积镀膜设备通过在等离子体发生器和扩散腔之间设置用于过滤等离子体中预定粒子的屏蔽孔板，可以避免等离子体源中预定粒子持续轰击非金属材料而产生粉尘的问题，可显著镀膜质量，整体提高良品率，降低镀膜成本
原子沉积镀膜设备

[实用新型]一种等离子体治疗仪-CN202123076468.3有效
发明人：赵龙;宋鹏飞;杨锡信;王践禹;张强 -专利权人：烟台海灵健康科技有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： A61G10/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及医疗设备技术领域，尤其涉及一种等离子体治疗仪，其包括治疗舱，所述治疗舱具有中空腔，以及与所述中空腔连通的第一开口，病人的头部能够通过所述第一开口伸出；等离子体发生器，所述等离子体发生器设置在所述治疗舱中，能够对空气进行电离，以产生一氧化氮的等离子体；供气模块，所述供气模块与所述等离子体发生器连通；控制模块，所述控制模块与所述等离子体发生器以及所述供气模块电连接。本实用新型能够提升等离子体治疗仪的集成度，而且使用方便，同时能够对废气进行处理。
一种等离子体治疗

[实用新型]一种等离子体河道水体连续净化装置-CN202022645638.4有效
发明人：肖琳;辛锡龙;辛锡光 -专利权人：灵珑生态科技（江苏）有限公司
申请日： 2020-11-16 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体河道水体连续净化装置，包括浮体和箱体；所述箱体包括外箱体和支撑平台；所述浮体撑托设于支撑平台底面，所述外箱体扣设于支撑平台；所述外箱体内部设有高压电源、介质放电等离子体发生器、轴流风机和等离子体导出管；所述高压电源电路连接于介质放电等离子体发生器和轴流风机；所述轴流风机的进风端连通于外界，所述轴流风机的出风端连接于介质放电等离子体发生器的进风端，所述介质放电等离子体发生器的出风端连接于等离子体导出管的进风端，所述等离子体导出管的出风端通入水体中。
一种等离子体河道水体连续净化装置

[实用新型]等离子体梳-CN202221069928.1有效
发明人：黄上快;李亚楠;廖理;雷晓兵;丁毅 -专利权人：深圳半岛医疗有限公司
申请日： 2022-05-05 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本实用新型公开一种等离子体梳，其中，等离子体梳包括外壳体、多个梳齿和等离子体发生器；所述外壳体包括梳头和梳柄，所述梳头具有第一安装腔；多个所述梳齿相互间隔地设置于所述梳头的一侧，多个所述梳齿的远离所述梳头的一端排布在一凹弧面上；所述等离子体发生器安装于所述第一安装腔内，所述等离子体发生器与多个所述梳齿连接，所述等离子体发生器通过多个所述梳齿放电电离靠近人体头皮的空气以产生等离子体。生发梳本实用新型技术方案能使等离子生发梳能够更好地与人体头皮进行接触，从而使得等离子生发梳的放电更加均匀，达到提升治疗效果的目的。
等离子体

[发明专利]一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构-CN201910714064.0在审
发明人：王英;刘鑫培 -专利权人：苏州睿祥宝材料科技有限公司
申请日： 2019-08-03 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： C21D10/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构，其包括机架，其特征在于：机架的两侧设置有传输板，传输板上设置有传输组件，机架上间隔设置有清扫组件、清洁组件及等离子体发生喷淋组件，金属板材通过传输组件在机架内水平移动且分别通过清扫组件、清洁组件及等离子体发生喷淋组件进行处理；等离子体发生喷淋组件包括有上下对应设置的上等离子体发生器和下等离子体发生器，上等离子体发生器的下部连接有多个上喷射头，下等离子体发生器的上部对应设置有多个所下喷射头
等离子体发生器喷射头等离子体发生喷淋组件传输组件金属板材清洁组件清扫组件传输板等离子体加工金属表面处理金属原材料加工效率间隔设置两侧设置上下对应使用寿命

[发明专利]等离子体装置、等离子体生成方法-CN201880091211.7在审
发明人：神藤高广 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2018-03-20 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： H05H1/32 文献下载
摘要：本公开的课题是能够高效地生成等离子体。在本公开的等离子体装置中，包括电介质屏障放电器和电弧放电器，在被供给用于生成等离子体的气体的放电空间内，在比电介质屏障放电器靠下游侧处设置电弧放电器。在电介质屏障放电器中发生电介质屏障放电，在电弧放电器中发生电弧放电。在电介质屏障放电中使用于生成等离子体的气体活性化，因此在电弧放电中能够使前述的气体良好地等离子体化。
等离子体装置生成方法

[发明专利]一种非热电弧等离子体裂解高浓度有机废水制合成气装置-CN201410785164.X无效
发明人：杜长明 -专利权人：中山大学
申请日： 2014-12-12 - 公布日： 2015-04-22 - 主分类号： C02F1/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种非热电弧等离子体裂解高浓度有机废水制合成气装置，包括非热电弧等离子体反应器及给等离子体反应器供电的高压电源；非热电弧等离子体反应器主要包括石英容器、上聚四氟乙烯法兰、下聚四氟乙烯法兰、尖端石墨电极、平底石墨电极、陶瓷坩埚；将高浓度有机废水通过进料通道落入非热电弧等离子体反应器的陶瓷坩埚中，通入载气，启动高压电源，等离子体反应器开始工作；高电压将电极之间的载气击穿电离，形成非热电弧等离子体，处于等离子体区域中的高浓度有机废水，在高能电子、自由基活性物质以及电场的作用下，发生裂解反应，生成富氢合成气。
一种电弧等离子体裂解浓度有机废水合成气装置

[发明专利]助熔剂法均匀化生长氮化物单晶的系统及方法-CN202111101213.X有效
发明人：司志伟;刘宗亮;徐科 -专利权人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： C30B29/40 文献下载
摘要：所述系统包括助熔剂法氮化物单晶生长设备，以及，所述的系统还包括N等离子体发生器，所述的N等离子体发生器至少用于：对所述氮化物单晶生长所需的籽晶和/或衬底进行N等离子体处理，以使所述籽晶和/或衬底表面产生缺陷位点；和/或，提供N等离子体作为所述氮化物单晶生长所需的氮源。本发明实施例提供的一种提升氮源溶解度的助熔剂法氮化物单晶均匀化生长的方法，采用氮等离子体发生器产生氮等离子体，然后利用氮等离子体处理籽晶/衬底，并且利用氮等离子体发生器产生氮等离子体作为氮源，从而能够同时提升氮化物单晶的生长均匀性以及晶体生长质量
熔剂均匀化生氮化物系统方法

[实用新型]提升氮源溶解度的半导体晶体的生长系统-CN202122274600.5有效
发明人：司志伟;刘宗亮;徐科 -专利权人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： C30B19/02 文献下载
摘要：所述系统包括助熔剂法半导体晶体生长设备，以及，所述的系统还包括N等离子体发生器，所述的N等离子体发生器至少用于：对所述半导体晶体生长所需的籽晶和/或衬底进行N等离子体处理，以使所述籽晶和/或衬底表面产生缺陷位点；和/或，提供N等离子体作为所述半导体晶体生长所需的氮源。本实用新型提供的一种提升氮源溶解度的半导体晶体的生长系统，采用氮等离子体发生器产生氮等离子体，然后利用氮等离子体处理籽晶/衬底，并且利用氮等离子体发生器产生氮等离子体作为氮源，从而能够同时提升半导体晶体的生长均匀性以及晶体生长质量
提升溶解度半导体晶体生长系统

[发明专利]用等离子体制取高温、富含活性粒子水蒸汽的方法及装置-CN201010617855.0有效
发明人：陈义龙;张岩丰;曹民侠;李宏 -专利权人：武汉凯迪工程技术研究总院有限公司
申请日： 2010-12-31 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明提供一种用等离子体制取高温、富含活性粒子水蒸汽的方法及装置，装置包括等离子发生器和高温水蒸汽发生器，高温水蒸汽发生器的一端中部设有高温等离子体进入口与等离子发生器1出口连通，等离子发生器有非氧化性气体进口，在高温等离子体进入口的周围是环形水蒸汽进口，环形水蒸汽进口内安装旋转导向叶片。高温水蒸汽发生器的壳体是逐级变大的台阶状，分1～4级台阶，每级台阶处的相邻两段壳体间有水蒸汽进入的环形狭口，环形狭口与水蒸汽压力输送装置连接。方法是制备的水蒸汽及通过等离子发生器被电离成高温等离子体工质通过各自的入口喷射入高温水蒸汽发生器，高温水蒸汽与高温等离子体强烈混合，水蒸汽被加热、活化，形成具有活性粒子的水蒸汽。
等离子体制取高温富含活性粒子水蒸汽方法装置

[发明专利]一种常压等离子体清洗系统-CN202010538177.2在审
发明人：白清顺;关宇珩;徐振东 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2020-06-12 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：一种常压等离子体清洗系统，属于常压等离子体清洗技术领域，具体方案如下：一种常压等离子体清洗系统，包括工作台、固定架、等离子体喷枪、等离子体发生器、移动机构和夹具体，所述固定架设置在工作台上，所述等离子体喷枪安装在固定架上，所述等离子体喷枪通过气管Ⅰ与等离子体发生器连接，所述等离子体发生器通过气管Ⅱ与气源相连，所述移动机构设置在工作台上，所述夹具体安装在移动机构上，所述夹具体位于等离子体喷枪的下方。本发明所设计的等离子体清洗系统简单可靠，灵活度大，速度调节范围广，负载能力强，运动控制简单，能够对各种金属零部件进行清洗，是一款环保经济、高效易操作的常压等离子体清洗系统。
一种常压等离子体清洗系统

[发明专利]横波激励等离子体阵列发生器-CN202210050908.8有效
发明人：魏巍;郭丰领;杨辉 -专利权人：中国航天空气动力技术研究院
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种横波激励等离子体阵列发生器，包括：等离子阵列控制器以及被控型面，其中，所述等离子阵列控制器具体包括：多个等离子体发生器，所述等离子阵列控制器安装于所述被控型面；所述等离子阵列控制器具体用于：在高频电的激励下，控制所述等离子体发生器产生高频射流，获得空间分布的高频横波，产生控制附面层第二模态的高频激励，促使所述被控型面附面层发生转捩。本发明提高了等离子体流动控制的频域边界。
激励等离子体阵列发生器

[发明专利]电弧等离子体废气处理装置-CN201611191600.6有效
发明人：金翼年;姜成玉;安在闰;严敏钦 -专利权人：韩国三重核心株式会社
申请日： 2016-12-21 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： B01D53/32 文献下载
摘要：本发明涉及电弧等离子体废气处理装置，本发明的电弧等离子体废气处理装置包括：等离子体发生部(1)，通过电弧放电产生火焰，通过所流入的工作气体生成等离子体；反应部(5)，使从上述等离子体发生部(1)移送的等离子体与所流入的废气混合来进行处理；以及洗涤部(3)，通过对在上述反应部(5)进行处理的气体进行洗涤，使温度降低，上述等离子体发生部(1)通过多级旋涡结构体(200)以多级的方式向阳极部(100)供给工作气体，上述洗涤部(3)通过多个冷却模块依次供给冷却流体来执行冷却
电弧等离子体废气处理装置

[发明专利]一种圆柱形等离子体发生器及其应用-CN201910222106.9有效
发明人：张江波;陈立;李鹏辉;李兴文;杨伟鸿;樊浩 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2019-03-22 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种圆柱形等离子体发生器及其应用，包括发生器外筒，发生器外筒的两端分别设置正极圆盘和负极圆盘，正极圆盘上设置正极杆伸出至发生器外筒外部构成发生器正极，负极圆盘上设置有负极杆，发生器外筒内设置放电金属丝，放电金属丝的两端分别与正极圆盘和负极圆盘连接，沿发生器外筒的筒壁轴向对称开有连通发生器外筒内外的槽。本发明等离子体烧蚀壁面大、烧蚀空间内压力可控、产生等离子体数量大，能够直接用于火药点火的等离子体发生器，解决了在等离子体点燃发射药过程中均匀性、一致性、可控性的问题。
一种圆柱形等离子体发生器及其应用