“电化学抛光”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果581535个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种用于Co-Cr合金支架的电化学抛光液及其抛光方法-CN201910226867.1有效
发明人：姜紫春;毕程亮;戚圣雨;邹士俊;于艾平 -专利权人：山东吉威医疗制品有限公司
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： C25F3/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于Co‑Cr合金支架的电化学抛光液及其抛光方法，其解决了现有Co‑Cr合金支架电化学抛光后出现的支架粗糙程度不均匀、抛光效率低、抛光后支架尺寸不均匀导致的局部形状不佳的技术问题，具体由以下质量百分比的组分制成本发明同时提供了其抛光方法。本发明可广泛应用于金属表面处理技术领域。
一种用于 co cr 合金支架电化学抛光及其方法

[发明专利]阻挡层的去除方法和装置-CN201410257649.1有效
发明人：王坚;贾照伟;武俊萍;谢良智;王晖 -专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2009-05-08 - 公布日： 2017-06-16 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造铜互连的无应力电化学抛光工艺、无应力抛光过程中形成的钽或钛的氧化物薄膜去除工艺和二氟化氙气相刻蚀阻挡层钽/氮化钽或钛/氮化钛工艺的整合方法和装置。首先，至少一部分硅片上镀的铜被无应力电化学抛光去除；其次，去除铜抛光过程中阻挡层表面形成的钽或钛的氧化物薄膜；最后，用二氟化氙气相刻蚀把阻挡层钽/氮化钽或钛/氮化钛去除。该装置由三个子系统组成无应力电化学铜抛光系统、用刻蚀剂去除阻挡层表面钽或钛的氧化物的系统和去除阻挡层的二氟化氙气相刻蚀系统。
阻挡去除方法装置

[发明专利]阻挡层的去除方法和装置-CN200910050835.7有效
发明人：王坚;贾照伟;武俊萍;谢良智;王晖 -专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2009-05-08 - 公布日： 2010-11-10 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造铜互连的无应力电化学抛光工艺、无应力抛光过程中形成的钽或钛的氧化物薄膜去除工艺和二氟化氙气相刻蚀阻挡层钽/氮化钽或钛/氮化钛工艺的整合方法和装置。首先，至少一部分硅片上镀的铜被无应力电化学抛光去除；其次，去除铜抛光过程中阻挡层表面形成的钽或钛的氧化物薄膜；最后，用二氟化氙气相刻蚀把阻挡层钽/氮化钽或钛/氮化钛去除。该装置由三个子系统组成：无应力电化学铜抛光系统、用刻蚀剂去除阻挡层表面钽或钛的氧化物的系统和去除阻挡层的二氟化氙气相刻蚀系统。
阻挡去除方法装置

[实用新型]一种电化学抛光装置-CN202223460998.2有效
发明人：潘飚;叶鹏 -专利权人：中铝东南材料院（福建）科技有限公司;中铝瑞闽股份有限公司
申请日： 2022-12-24 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种电化学抛光装置，包括收集槽和位于收集槽上方的盖板，所述盖板中间设有阴极板，盖板的上方放置有阳极支撑板，所述阳极支撑板中间开设有贯通上、下侧面的槽孔，所述槽孔中设有阳极板，阳极支撑板上在槽孔侧部开设有溢流槽本实用新型电化学抛光装置结构简单，使用方便，电解液可循环使用，抛光中产生的气体可以得到很好的排放，工件内外表面抛光均匀，抛光效果好。
一种电化学抛光装置

[实用新型]一种膜片生产用表面粗糙度电化学抛光处理装置-CN202320198278.9有效
发明人：胡忠文;盖丹;韩伟;王传刚 -专利权人：抚顺鼎丰膜片有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种膜片生产用表面粗糙度电化学抛光处理装置，包括电解槽，电解槽的顶部固定安装有支撑架，支撑架的顶部固定安装有电动推杆，电动推杆的底部固定安装有固定壳，固定壳的底部固定安装有盖板。然后启动加热一和风扇，加热丝一能够对从进气口进入的空气进行加热，而风扇能够将热空气吹向可移动放置篮的内部后对膜片体进行有效的烘干，使残留的电解液被清除，从而具备了快速烘干便于及时移出的优点，替代了现有电化学抛光处理装置不能及时将残留的电解液清除的方式，提高了膜片被电化学抛光处理后的生产效率。
一种膜片生产表面粗糙电化学抛光处理装置

[发明专利]电化学抛光装置和方法-CN201310073033.4有效
发明人：庄维伟;高永超;程好;杨淑平;蔡渊;贺昱旻 -专利权人：苏州新材料研究所有限公司
申请日： 2013-03-07 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种电化学抛光装置，包括槽体；横向穿设于所述槽体的至少一电解槽，该电解槽于所述槽体的两端分别形成入口和出口，待抛光工件横向运动于所述电解槽内；位于所述电解槽两侧的电极，该电极形成的电场屏蔽于所述电解槽内；电解液供应管路，连通于所述电解槽，并导引电解液沿所述待抛光工件的表面流动。本发明还公开了一种电化学抛光方法。本发明的装置结构简单，可以解决基带表面出现的柱状条纹，本发明的抛光方法抛光效果好，且抛光处理速度快。
电化学抛光装置方法

[发明专利]柔性扭制阴极及其电化学抛光复杂内通道方法-CN202210578163.2在审
发明人：朱荻;安林超;王登勇 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：柔性扭制阴极及其电化学抛光复杂内通道方法，属于特种加工技术领域。所述柔性扭制阴极由两根金属丝和多股非导电微细丝扭制而成。非导电微细丝沿内流道轴向非均匀排列，在直流道部位排列稀疏以提高抛光液的通过能力，弯曲位置分布紧密以增加支撑力，防止短路发生。柔性扭制阴极预先布置在工件内流道中，两端通过导电轴和机床主轴固结。机床主轴往复拉动导电轴以实现柔性阴极沿流道轴向往复运动，完成工件弯曲内流道的电化学抛光。这种新颖的扭制阴极柔性好，加工可达性高，结构简单易制作，可实现复杂内流道的电化学抛光。
柔性阴极及其电化学抛光复杂通道方法

[发明专利]一种NiTi合金根管锉及其表面改性方法-CN202211410507.5在审
发明人：钟宁;刘伯洋;吴新峰 -专利权人：上海海事大学
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C25F3/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种NiTi合金根管锉及其表面改性方法，所述改性方法包括清洗预处理、电化学抛光处理和微弧氧化处理的顺序处理步骤，其特征在于：所述清洗预处理包括皂化剂或碱液除油；所述电化学抛光处理的抛光液采用混合酸溶液本发明将清洗预处理、电化学抛光和微弧氧化技术相适配，应用于NiTi合金根管锉的表面改性。经表面改性后的根管锉具有高硬度，良好的综合力学性能和更长的使用寿命。
一种 niti 合金根管锉及其表面改性方法

[发明专利]一种超导腔电化学抛光装置的机械系统-CN202310872599.7在审
发明人：董鹏程;陈锦芳;蒋志强;武佳妮;宗玥 -专利权人：中国科学院上海高等研究院
申请日： 2023-07-17 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种超导腔电化学抛光装置的机械系统，超导腔定位夹紧在超导腔夹具中，超导腔夹具通过腔体支撑组件安装固定在安装平台上，旋转驱动组件与超导腔连接以驱动超导腔旋转，对中测量模块具有激光位移传感器以对阴极杆进行对中测量并指导调节，安装平台通过平台翻转组件可翻转地安装在主体框架上以使得超导腔可翻转至站立状态和躺卧状态，在站立状态下，竖直插入组件将阴极杆插入超导腔中，在躺卧状态下，对超导腔进行电化学抛光处理并利用检测模块检测超导腔的温度和应力应变情况根据本发明的超导腔电化学抛光装置的机械系统，在实现超导腔装卸、阴极插拔及抛光过程中旋转等基本功能的同时，提高操作的准确度、方便性、自动化及智能化。
一种超导电化学抛光装置机械系统

[实用新型]一种正畸丝电化学抛光工装-CN201721686536.9有效
发明人：龙小平 -专利权人：上海埃蒙迪材料科技股份有限公司
申请日： 2017-12-07 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：一种正畸丝电化学抛光工装，包括由支撑组件与导电组件组合构成的支撑部分和导电部分；支撑组件包括正畸丝摆放台和左右两端的支撑架；摆放台上设有放置正畸丝的沟槽；支撑架纵向一侧设一对摆放台固定槽，另一侧设沿纵向布置的导电电极支撑槽导电电极的两端设有螺纹孔和通孔，调节螺杆的两端穿设在导电电极螺纹孔内，调节螺杆上设调节螺母；通过旋扭调节螺母与调节螺杆之间的连接松紧度，实现两个导电电极间距的调节，以控制正畸丝的夹紧程度；导电电极上的通孔为与电化学抛光机阳极相连的外接导线的连接孔在正畸丝夹紧通电的条件下，可确保正畸丝间不接触，抛光效果好，实现正畸丝电化学抛光批量化。
正畸丝导电电极调节螺杆电化学抛光螺母导电组件支撑组件摆放台螺纹孔支撑架工装夹紧通孔电化学抛光机阳极抛光效果外接导线纵向布置不接触固定槽连接孔批量化松紧度支撑槽导电旋扭通电摆放支撑

[实用新型]一种非接触式电化学抛光系统装置-CN201120512780.X有效
发明人：李庆 -专利权人：李庆
申请日： 2011-12-07 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：一种非接触式电化学抛光系统装置，包括一机架及一抛光系统装置，其中，所述抛光系统装置包括：一放料装置；一低压等离子抛光装置，连接到所述放料装置；一高压等离子抛光装置，连接到所述低压等离子抛光装置；一超声清洁及风干防锈装置，连接到所述高压等离子抛光装置；一收料装置，连接到所述超声清洁及风干防锈装置；所述非接触式电化学抛光系统装置还包括：一PLC控制器及外部电源及一预热水箱。本实用新型具有自动化程度高，有利于提高生产效率，抛光效果好，安全可靠等优点。
一种接触电化学抛光系统装置

[发明专利]用于对机动车坯件进行覆层的方法及机动车坯件-CN201980037791.6在审
发明人： C·伯格曼 -专利权人：宝马股份公司
申请日： 2019-07-03 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C23C2/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于对机动车坯件进行覆层(5)的方法，其中，用金属锌涂层作为阴极腐蚀保护对所述机动车坯件(5)进行覆层(3)并随后进行涂漆(4)，其中，在用金属锌涂层进行覆层(3)之前，对所述机动车坯件(5)进行化学抛光和/或电化学抛光。
用于机动车进行覆层方法

[发明专利]一种材料去除率可控调节的固体介质电化学抛光方法-CN202310157570.0在审
发明人：李朝将;刘胜贵;金鑫;刘国栋;郭子龙;徐飞 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2023-02-23 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种材料去除率可控调节的固体介质电化学抛光方法，主要包括以下步骤：使用包含电解液的固体颗粒作为导电介质，在抛光过程中调节固体颗粒中电解液的含量，使得被抛光零件与阴极之间产生不同的电流密度，以控制抛光过程的材料去除率，从而适应不同粗糙程度表面的抛光。本发明材料去除率可控调节的固体介质电化学抛光方法，使用内含孔隙结构的固体颗粒作为导电介质，可通过调节固体颗粒中电解液的含量调节电流密度，从而实现抛光过程中材料去除率的可控调节。
一种材料去除可控调节固体介质电化学抛光方法

[实用新型]电化学抛光装置-CN201320105120.9有效
发明人：庄维伟;高永超;程好;杨淑平;蔡渊;贺昱旻 -专利权人：苏州新材料研究所有限公司
申请日： 2013-03-07 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电化学抛光装置，包括：槽体；横向穿设于所述槽体的至少一电解槽，该电解槽于所述槽体的两端分别形成入口和出口，待抛光工件横向运动于所述电解槽内；位于所述电解槽两侧的电极，该电极形成的电场屏蔽于所述电解槽内；电解液供应管路，连通于所述电解槽，并导引电解液沿所述待抛光工件的表面流动。本实用新型还公开了一种电化学抛光方法。本实用新型的装置结构简单，可以解决基带表面出现的柱状条纹，本实用新型的抛光方法抛光效果好，且抛光处理速度快。
电化学抛光装置

[发明专利]P型硅表面微结构的电化学加工方法-CN200710008742.9无效
发明人：汤儆;张力;庄金亮;马信洲;田昭武 -专利权人：厦门大学
申请日： 2007-03-23 - 公布日： 2008-09-24 - 主分类号： H01L21/3063 文献下载
摘要：P型硅表面微结构的电化学加工方法，涉及一种硅表面的加工。提供一种低成本、加工步骤简单且无需掩模光刻等复杂工艺，并可一次性在P型硅表面直接刻蚀加工微结构的新型电化学加工方法。包括以下步骤：将原始母版上的微结构转移至琼脂糖表面后浸泡于电解液中得存储有电解液的琼脂糖凝胶模板；再置于电解池中，将具有微结构的部分暴露于液面上；P型硅片经前处理后在背面溅射Pt层，形成欧姆接触，再将抛光面置于琼脂糖凝胶模板表面，将P型硅片作为工作电极，对P型硅片进行电化学抛光微加工，将琼脂糖凝胶模板上的微结构通过电化学抛光微加工转移至P型硅片表面得具有微结构的P型硅片后将具有微结构的P型硅片与琼脂糖两者分离。
表面微结构电化学加工方法

首页
«上一页
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
下一页»
尾页
共 100000 条