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- [发明专利]一种多效型半合成微乳化切削液-CN201210400615.4有效
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宋小林;杨金兵
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宋小林;杨金兵
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2012-10-19
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2013-02-13
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C10M173/02
- 一种多效型半合成微乳化切削液,各原料组分及其质量百分数分别为:单乙醇胺,工业级:9~12%;苯并三氮唑,工业级:0.1~0.2%;硼酸,工业级:8~10%;5号白油:14~18%;基础油150SN:14~18%;妥尔油脂肪酸,工业级:4~6%;癸二酸,工业级:0.8~1.2%;含磷硼酸酯水基润滑剂:4~8%;丙二醇苯醚,工业级:0.8~1.5%;脂肪醇醚,工业级:1~3%;1,3,5-三(2-羟乙基)-六氢三嗪,工业级 :1.5~2.5%;有机硅消泡剂,工业级:0.1~0.2%;余量为水,上述各原料组分的质量百分数相加为百分之百。
- 一种多效型半合成乳化切削
- [实用新型]一种光学元件清洗后高洁净度烘干装置-CN201720067351.3有效
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陈旭
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福州荣德光电科技有限公司
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2017-01-18
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2017-09-15
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F26B9/06
- 本实用新型公开了一种光学元件清洗后高洁净度烘干装置,包括一个百级净化台,百级净化台中设有空气净化装置,百级净化台的净化区域中设有两个能够清洁更换的第一加热装置和第二加热装置,第一加热装置和第二加热装置的加热工作部面对面设置第一加热装置和第二加热装置之间设有能够放置待烘干光学零件的烘干夹具,烘干夹具的底部设有便于气流流通的支撑架,烘干夹具的上方设有第三加热装置,第三加热装置中设有能够调节高度的安装支架,安装支架固定在所述百级净化台的后侧板上,百级净化台的净化区域前侧设有透明的洁净防护帘;本实用新型在烘干时利用百级净化台进行净化,避免烘干时光学元件被污染,能够保持光学元件洁净,烘干效果好。
- 一种光学元件清洗洁净烘干装置
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