专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多晶硅还原工艺尾气的净化方法及净化系统-CN201910574662.2在审
  • 武珠峰;刘兴平;银波;范协诚;宋高杰 - 新特能源股份有限公司
  • 2019-06-28 - 2020-12-29 - B01D53/70
  • 本发明公开了一种多晶硅还原工艺尾气的净化方法及净化系统,该方法包括以下步骤:将多晶硅还原工艺尾气与氧化剂氯气混合,多晶硅还原工艺尾气包括氢气、氯硅烷、磷,其中,磷与氯气反应,磷分别被氧化,生成单质磷和/或磷的氯化物、单质和/或的氯化物,得到反应后的混合气,将混合气降温进行气液分离,得到分离开的液体、分离开的气体,分离开的液体包括:氯硅烷、单质磷和/或磷的氯化物、单质和/或的氯化物本发明中的多晶硅还原工艺尾气的净化方法及净化系统,通过将还原尾气中的低价态的磷杂质氧化为单质或高价态的磷杂质,大大降低了回收氢气中磷杂质的分离难度,提高了回收氢气的品质。
  • 多晶还原工艺尾气净化方法净化系统
  • [发明专利]3-脲基异喹啉-8-基衍生物-CN201280015106.8无效
  • 马库斯·古德;克里斯蒂安·哈伯舒兰;菲利普·潘彻德 - 埃科特莱茵药品有限公司
  • 2012-03-28 - 2013-12-25 - C07D217/22
  • 卤烷基或环丙基;R2是H、卤素、哒嗪-4-基、嘧啶-5-基或视情况经取代吡啶-3-基、吡啶-4-基或苯基;R3是烷基、炔基、氨基烷基、氨甲酰基烷基、甲基氨甲酰基烷基、氧基、卤氧基、炔氧基、(4-羟基丁-2-炔-1-基)氧基、(4-氨基丁-2-炔-1-基)氧基、二甲基氨基氧基、氨甲酰基氧基、烷基氨基、环烷基、环烷基烷基、环烷基氧基、羟基烷基、羟基氧基氧基烷基、氧基氧基、羧基烷基、羧基氧基氧基羰基氧基、芳基、杂芳基、苄基、苄氧基、2-氰基乙氧基、2,3-二羟基丙氧基、3,4-二羟基丁氧基、-CH2Ra、是氰基、乙酰基氨基或N,N-二甲基氨基;Rb是氰基或氨甲酰基;Rc是H或甲基;Rd是烷基;Re是吡咯-1-基、六氢吡啶-1-基、六氢吡啶-3-基、吗啉-1-基、2-氧代吡咯-1-基、5-氧代吡咯-2-基、2,5-二氧代吡咯-1-基、2-氧代咪唑-1-基、4-(叔丁氧基羰基)六氢吡嗪-1-基、4-
  • 脲基异喹啉衍生物
  • [发明专利]磺酰胺的制备-CN00818643.X有效
  • B·S·德霍夫;P·J·哈林顿;H·N·翰特里 - 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
  • 2000-01-25 - 2003-06-18 - C07D239/69
  • ,低级硫基,卤素或三氟甲基;R2是氢原子,卤素,低级氧基,三氟甲基或OCH2COORa;而R3是氢原子,卤素,低级烷基,低级硫基,三氟甲基,环烷基,低级氧基或三氟甲氧基;或R2和R3一起可以是丁二烯基,亚甲二氧基,亚乙二氧基或亚异丙基二氧基;R4是氢原子,低级烷基,环烷基,三氟甲基,低级氧基,低级硫基,低级硫基-低级烷基,羟基-低级烷基,羟基-低级氧基,低级氧基-低级烷基,羟基-低级氧基-低级烷基,羟基-低级氧基-低级氧基,低级烷基亚磺酰基,低级烷基磺酰基,2-甲氧基-3-羟基丙氧基,2-羟基-3-苯基丙基,氨基-低级烷基,低级烷基氨基-低级烷基,二低级烷基氨基-低级烷基,氨基,低级烷基-氨基,二低级烷基氨基,芳基氨基,芳基,芳硫基,芳氧基,芳基-低级烷基或杂环基;R5是保护基;R6、R7、R8和R9独立地是氢原子,卤素,低级烷基,三氟甲基,低级氧基,低级硫基,羟基,羟基甲基,氰基,羧基,甲酰基,甲基亚磺酰基,甲基磺酰基,甲基磺酰氧基或低级氧基-羰氧基;或R7与R6或R8一起可以是丁二烯基,亚甲二氧基,亚乙二氧基或亚异丙基二氧基;Z是O,S,亚乙基,亚乙烯基,C(=O),OCHR10
  • 磺酰胺制备
  • [发明专利]一种单取代碳芳酸衍生物及其制备方法和应用-CN201811139618.0有效
  • 赵娟;姜少华;关佩琳;范柔柔 - 五邑大学
  • 2018-09-28 - 2021-05-28 - C07F5/05
  • 本发明涉及碳制备技术领域,涉及一种单取代碳芳酸衍生物及其制备方法和应用,包括以下步骤,S1、将癸、4‑乙炔基甲苯、乙腈加入溶剂甲苯中,在90℃‑110℃搅拌反应4‑12小时;S2、抽滤泡洗得到单取代碳芳酸衍生物半成品;S3、将步骤S2的单取代碳芳酸衍生物半成品加入乙酸酐和冰乙酸体系中,于反应温度在10摄氏度以下滴加浓度为6mol/L的三氧化铬硫酸溶液,滴加完成后将混合液于室温下反应3‑8小时,水洗并过滤,干燥得到单取代碳芳酸衍生物本发明公开了单取代碳芳酸衍生物及其制备方法和应用,并以单取代碳芳酸衍生物作为改性剂应用于纳米纤维素纸制作成耐高温纳米纤维素纸,从而实现纤维素纸的功能化。
  • 一种取代碳硼烷芳酸衍生物及其制备方法应用

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