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[实用新型]一种用于辅助激光器封装辨识的光刻版图-CN201420167543.8有效
发明人：崔碧峰;李佳莼;徐旭红;计伟 -专利权人：北京牡丹电子集团有限责任公司
申请日： 2014-04-08 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于辅助激光器封装辨识的光刻版图，包括划片槽和光刻标记，所述光刻版图上设置有用于解理的划片槽，所述划片槽围成光刻激光器图形区域，所述激光器图形区域上设置有光刻标记。本实用新型在半导体制造工艺中光刻版图上设置光刻标记，能够使激光器封装中更容易区分激光器管芯的放置方向。
一种用于辅助激光器封装辨识光刻版图

[发明专利]采用投影成像方式获取特定激光加工束斑的方法-CN201110207463.1无效
发明人：严利人;周卫;刘朋;窦维治;刘志弘 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-07-22 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： B23K26/073 文献下载
摘要：本发明公开了属于半导体制造设备范围的一种采用投影成像方式获取特定的激光加工束斑的方法。通过在光刻版上设计一系列的透光图形，通过驱动机构移动光刻版以选择特定的光刻版透光图形，入射激光光束通过光刻版透光图形后，进入投影成像透镜组，投影成像于晶圆片的表面，形成所需的激光作用束斑。该束斑边沿锐利，充分抑制了由衍射效应带来的激光加工处理工艺控制上的不确定性。另一方面，由于在光刻版上可以放置一系列透光图形，以及投影光刻系统可以设计成为变比的，因而最终得到的激光束斑在几何形状和尺寸上是充分灵活可调的，可保证获得理想的和更为均匀的激光加工处理的工艺控制效果。
采用投影成像方式获取特定激光加工方法

[发明专利]一种薄膜电路图形电镀连线的去除方法-CN202011119616.2有效
发明人：王平;杨士成;曲媛;张楠;陈通;黄海涛;韩昌 -专利权人：西安空间无线电技术研究所
申请日： 2020-10-19 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种薄膜电路图形电镀连线的去除方法，属于薄膜微带电路工艺领域；步骤一、用电镀连线将光刻版图中所有不相连的电路图形连成一个整体；在薄膜电路光刻版图上设置n个定位圆；步骤二、按照薄膜电路光刻版图上的电镀连线位置，对实际薄膜电路上对应位置添加电镀连线；步骤三、设置电镀连线的激光刻蚀区域；步骤四、将薄膜电路光刻版图中所有电镀连线和所有定位圆刻蚀成通孔；获得辅助刻蚀版图；步骤五、将辅助刻蚀版图对准放置在实际薄膜电路的上方，采用紫外激光器，按照步骤三中的刻蚀规则对实际薄膜电路中电镀连线进行激光刻蚀，去除电镀连线；本发明解决了厚金层薄膜电路制作中图形电镀连线去除的可靠性和效率问题。
一种薄膜电路图形电镀连线去除方法

[实用新型]一种激光刻版机-CN201721484349.2有效
发明人：谭智雄 -专利权人：佛山市顺德区振南润德印刷有限公司
申请日： 2017-11-09 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： B41C1/05 文献下载
摘要：本实用新型提供一种激光刻版机，包括送版机构、制版机构，所述送版机构设置于所述制版机构的开始端，所述制版机构设置有光鼓、扫描装置、主驱动电机以及副驱动电机，所述光鼓在所述主驱动电机的驱动下作周向滚动，所述扫描装置在所述副驱动电机的驱动下横向运动，所述扫描器设置有用于刻版的激光器，采用激光刻版能够快速高效地制造刻版，减少了加工步骤，减少了出错几率，提高了生产效率。
激光刻版制版机构副驱动电机主驱动电机扫描装置刻版本实用新型驱动出错几率机构设置加工步骤生产效率激光器开始端扫描器滚动制造

[实用新型]一种激光刻版机-CN201420288699.1有效
发明人：王连月 -专利权人：天津市吉源元印刷制品有限公司
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： B41C1/05 文献下载
摘要：本实用新型属于刻版机领域，尤其涉及一种激光刻版机，包括机架、工控机、扫描仪、导线、投影装置、待刻板、激光机构和夹固机构，所述激光机构包括激光发生器、激光发射头、发光孔、调焦旋钮和支架，所述激光发生器一端通过导线连接工控机，另一端通过导线连接激光发射头，所述发光孔设置在激光发射头前端，所述调焦按钮安装在激光发射头的上侧，所述激光发射头架放至支架上。本实用新型提供一种结构简单、调焦性能好、刻板效率高的激光刻版机。
一种激光刻版机

[实用新型]一种双面光刻装置-CN201220216139.6有效
发明人：苗任忠 -专利权人：朝阳无线电元件有限责任公司
申请日： 2012-05-15 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双面光刻装置，包括光刻机、双面对准光刻版和光刻板固定夹具；其光刻板固定夹具包括调整框、铝盖、锁紧夹和铝座架；双面对准光刻版包括规格相同的光刻版B和光刻版A，光刻版B和光刻版A四个角上均有专用对准标记；光刻版B固定在铝盖上，光刻版A固定在铝座架上，硅片置于光刻版B和光刻版A之间，通过两个锁紧夹将光刻版B、硅片和光刻版A牢牢固定。本实用新型改善了现有技术的工艺成本，提供一种结构性夹具，配合在光刻版图上做出对准标记，应用机械导柱和引导腔体设计，保证上下版图对准重复精度小于3μm，提高了劳动效率。
一种双面光刻装置

[发明专利]一种光刻版结构及其制造方法-CN201210579774.5在审
发明人：袁伟 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2012-12-27 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： G03F1/48 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻版结构，包括：一个基板，位于基板表面的光刻版图形，在光刻版图形表面覆盖有一层或多层透明保护层，位于透明保护层上方的蒙膜，蒙膜将光刻版图形区域罩住；本发明还提供上述光刻版结构的制造方法，包括：在基板表面制备光刻版图形；在光刻版图形的表面形成一层或多层透明保护层；在基板上安装蒙膜。本发明通过在光刻版图形的表面沉积一层或多层透明保护层，对光刻版图形起到保护作用，可以减少和预防光刻版图形表面生成结晶缺陷，从而提高光刻版的投影准确度和良率产出，并且减少光刻版送修的几率，延长光刻版的使用寿命
一种光刻结构及其制造方法

[实用新型]PE光刻版取版装置-CN202122135319.3有效
发明人：唐红梅;王毅 -专利权人：扬州扬杰电子科技股份有限公司
申请日： 2021-09-06 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：PE光刻版取版装置。提供了一种拿取简便、不易使光刻版背面沾污的PE光刻版取版装置。本实用新型包括底板和若干顶针；若干顶针设置在底板上，位于版架的内，与光刻版的边缘无图形区域相对应；若干顶针的高度大于版架的厚度，版架与光刻版分离后，版架与光刻版之间设有间距。若干顶针在底板上形成一侧高一侧低结构，使光刻版有一定的倾斜角度，支撑光刻版边缘，按下版架两边卡扣时，光刻版和版架脱落，留有一定的空间取出光刻版，从而避免了光刻版背面沾污。本实用新型具有拿取简便、不易使光刻版背面沾污等特点。
pe 光刻版取版装置

[发明专利]光刻版自动翻转装置-CN201510659924.7有效
发明人：吴光庆;侯为萍;郭春华;陈仲武;高建利 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2015-10-14 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：一种光刻版自动翻转装置，其中的支座组、立板、驱动单元、驱动轴及驱动轴上安装的光刻版片盒构成光刻版翻转装置。光刻版片盒上设置的三种规格光刻版卡口可承载或四寸或五寸或六寸三种规格中任意一种的光刻版。驱动轴带动光刻版片盒翻转，使光刻版片盒上的光刻版在0º情况下正面朝上，在180º情况下被面朝上，达到了将光刻版正反两面进行翻转的效果，进而通过其他工艺步骤达到对光刻版两面清洗的目的。作为光刻版清洗机中的一套独立机构结构合理，制造成本低，作业能力强、效率高，脉冲控制电机运动，翻转作业平稳、精准，解决了全自动光刻版清洗机中光刻版背面无法刷洗的难题。
光刻自动翻转装置

[实用新型]一种曝光机的光刻版架放置装置-CN202221942821.3有效
发明人：黄章挺 -专利权人：福建兆元光电有限公司
申请日： 2022-07-26 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及曝光机的光刻版架放置技术领域，具体涉及一种曝光机的光刻版架放置装置，包括光刻版架和限位座；所述光刻版架包括吸附面板和设置在吸附面板底部的手柄；所述限位座上设置有供手柄插入的槽口。本实用新型将光刻版架的手柄插入在限位座的槽口中，由限位座限制了光刻版架的滑动，使得光刻版架在非人为操作下不会自行的滑动，进而避免光刻版架掉落，而损伤光刻版架的吸附面板。
一种曝光光刻放置装置

[发明专利]一种激光全息光刻量子云码的方法-CN201811221024.4在审
发明人：龙高云 -专利权人：中丰田光电科技（珠海）有限公司
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光全息光刻量子云码的实现方法，包括以下步骤：S1，设计并编辑生成与产品相关信息的量子云码，将该量子云码制作成激光全息光刻文件；S2，使用光刻机在感光基材上蚀刻该含有量子云码的激光全息光刻文件；S3，将蚀刻有量子云码的感光基材显影，把量子云码图文信息显影出来，使显影后的感光基材成为光刻版；S4，将光刻版复制为模压版；S5，将带有激光全息量子云码的模压版做成包装产品。
量子激光全息光刻感光基显影蚀刻光刻版模压版包装产品图文信息图形结构相关信息印刷色序印刷油墨光刻机仿冒生产成本翻版复制精细制作

[发明专利]一种光刻版清洗剂及其使用方法-CN201910087372.5在审
发明人：胡夕伦;吴向龙;闫宝华;肖成峰 -专利权人：山东浪潮华光光电子股份有限公司
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： C11D7/60 文献下载
摘要：本发明涉及光刻板的清洗领域，具体涉及一种光刻版清洗剂及其使用方法，本发明提供一种光刻版清洗剂包括强氧化剂、强酸和水，同时提供一种光刻版清洗剂的使用方法，包括如下步骤：(1)对所述光刻版清洗剂搅拌后静置；(2)将光刻版放入清洗剂中进行清洗；(3)冲洗光刻板；(4)刷洗光刻版；(5)再次冲洗并烘干光刻板。本发明提供的光刻版清洗剂以及使用方法，成本低，无需加热，方法简便，清洗效率高。该清洗剂可有效去除光刻版表面顽固性有机污染物和附着的微小无机颗粒物。本发明提供的清洗剂清洗光刻版后，光刻板表面洁净、平整，保证产品光刻质量。
一种光刻洗剂及其使用方法

[发明专利]一种光刻版表面损伤修复溶液及其应用-CN201910088109.8有效
发明人：胡夕伦;吴向龙;闫宝华;肖成峰 -专利权人：山东浪潮华光光电子股份有限公司
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明涉及光刻板清洗领域，具体涉及一种光刻版表面损伤修复溶液及其应用，一种光刻版表面损伤修复溶液包括重铬酸钾、水溶性铬盐、浓硫酸和水；光刻版表面损伤修复溶液的修复方法包括如下步骤：(1)将所述修复溶液加热并同时搅拌后，静置；(2)将光刻版放入所述修复溶液中浸泡并超声；(3)冲洗光刻板；(4)干燥光刻板；(5)吹干光刻板。该修复溶液对光刻版表面嵌入颗粒物、硌伤等能起到良好的修复作用，清洗后的光刻版表面光鲜、平整，同时又不导致光刻版铬镀层厚度显著下降。保证了后续作业的光刻质量，有利于提升产品质量，同时降低了由于频繁更换新光刻版造成的损失。
一种光刻表面损伤修复溶液及其应用

[发明专利]大尺寸芯片光刻拼接方法-CN202011457478.9在审
发明人：杨赟娥;龚燕飞 -专利权人：上海新微技术研发中心有限公司
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种大尺寸芯片光刻拼接方法，包括：1)：设计拼接光刻版，找出大尺寸芯片中的重复性小结构图形模块，然后根据每个重复性和/或非重复性的小结构图形模块的面积将其制作在光刻版上，直至将所有小结构图形模块的图形全部制作在多块光刻版上，形成所述拼接光刻版；2)：采用步进式光刻机进行第一层的光刻拼接工艺；3)：采用所述步进式光刻机进行第二层的光刻拼接工艺；4)：重复执行步骤3)直至完成所述大尺寸芯片所有层次的拼接光刻工艺。采用本光刻拼接方法，可减少光刻版上的图形占用率，大幅度提升光刻版有效曝光区域利用率；另外，还可有效减少光刻版的数量，降低光刻版成本，并且能使大尺寸芯片在光刻时提升曝光速度。
尺寸芯片光刻拼接方法

[发明专利]一种分布反馈式激光器、光栅结构及其制备方法-CN202210422653.3在审
发明人：刘海军;吴尚池;兰林;舒治豪;高猛;段利华;张靖;闫应星;黄晓峰;莫才平 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十四研究所
申请日： 2022-04-21 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： H01S5/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种分布反馈式激光器、光栅结构及其制备方法，包括设计并制作一光刻版，提供一衬底，并在所述衬底上生长一层光栅层形成一次外延片；基于所述光刻版并采用光刻工艺在所述光栅层上形成一光刻胶掩膜结构；利用所述光刻胶掩膜结构对所述光栅层向下刻蚀出若干第一栅槽，形成光栅结构，对所述光栅结构进行掩埋形成二次外延片，整个过程可通过精准控制外延片与光刻板之间的曝光间隙及光刻版上光刻掩膜结构图形周期的变化量来控制第二相移区域的光刻胶掩膜结构图形的变化曲线，曝光图形的重复性好
一种分布反馈激光器光栅结构及其制备方法

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