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[发明专利]溅镀装置及溅镀洗靶方法-CN201010160850.X无效
发明人：王仲培 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2010-04-30 - 公布日： 2011-11-09 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种溅镀装置，其包括一个溅镀腔体、一个容置于该溅镀腔体且用于承载待镀物的承载件、多个设于该承载件的周围且用于单面贴设靶材的靶座及多个致动器。该溅镀腔体包括与多个靶座对应的多个通气口。该致动器用于驱动该靶座转动以使该靶材面向或背对该承载件，每个通气口用于对应地通入反应性气体使该溅镀装置进行溅镀或通入惰性气体使该溅镀装置进行洗靶。如此，该溅镀装置可以实现同时进行溅镀和洗靶，提高了生产效率。另，本发明还涉及一种溅镀洗靶方法。
装置溅镀洗靶方法

[发明专利]提高溅镀靶使用率的预溅镀方法-CN02132280.5有效
发明人：邓敦和 -专利权人：瀚宇彩晶股份有限公司
申请日： 2002-09-04 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了提高溅镀靶使用率的预溅镀方法，其步骤包括：首先提供一溅镀靶，再对溅镀靶进行离子轰击，轰击的过程中并以等速方式驱动一长形磁铁于溅镀靶的背面来回扫瞄，直到溅镀靶表面的杂质去除之后，完成溅镀靶的预溅镀
提高溅镀靶使用率预溅镀方法

[发明专利]一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统-CN201811505144.7有效
发明人：严鹏 -专利权人：苏州能讯高能半导体有限公司
申请日： 2018-12-10 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供了一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统，涉及镀膜设备领域，该靶材溅镀设备包括溅镀工艺区，溅镀工艺区内设置有靶材固定件和载片盘，靶材固定件设置在载片盘的上方，靶材溅镀设备还包括靶材放置区，靶材放置区设置有至少一个用于承载靶材的承载块，承载块可活动地从靶材放置区移动至溅镀工艺区以便将靶材定位于靶材固定件上。相较于现有技术，本发明提供的一种靶材溅镀设备，在进行多靶材溅镀工艺时无需使用多腔室进行溅镀、占地面积小、结构简单、辅助系统部件较少，同时更换靶材方便。
一种靶材溅镀设备以及系统

[发明专利]溅镀靶材牌的电子束焊接-CN200510138199.5有效
发明人：细川昭博;棚濑嘉昭 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2005-12-28 - 公布日： 2006-12-20 - 主分类号： B23K15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种焊接溅镀靶材以形成一大的溅镀靶材的方法。本发明还提供具有经焊接的溅镀靶材牌的溅镀靶材组件的实施例。在一实施例中，在一电子束焊接室内焊接溅镀靶材的方法，包含在位于一支撑表面上的尚未定位的至少两个溅镀靶材牌间的预定的至少一交界线上，提供溅镀靶材材料条或粉末；以该至少两个溅镀靶材牌的边缘紧邻和在溅镀靶材材料条或粉末上形成至少一交界线的方式，将该至少两个溅镀靶材牌并列配置；排出该电子束焊接室内的气体；预热该至少两个溅镀靶材牌和溅镀靶材材料条或粉末至比该至少两个溅镀靶材牌开始熔化、承受物理状态改变、或基本承受分解的温度低的预热温度；将该并列配置的至少两个溅镀靶材牌焊接成为一大的溅镀靶材
溅镀靶材牌电子束焊接

[发明专利]再生溅镀靶材及其制作方法-CN201110099296.3无效
发明人：王圣棻;吴柏成;刘娉婷;蔡忠宪 -专利权人：光洋应用材料科技股份有限公司
申请日： 2011-04-20 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种再生溅镀靶材及其制作方法，所述再生溅镀靶材主要是于一回靶材靶胚的原溅镀面上成形一填补层，使该再生溅镀靶材利用该回靶材靶胚的原非溅镀面作为新的溅镀面，再应用于溅镀过程中，可充分利用回靶材剩余的部分，提高回靶材材料的使用率。其制作方法是在所述回靶材靶胚的原溅镀面上填入材料而成形填补层，并对填补层加工而达到预定规格尺寸。
再生溅镀靶材及其制作方法

[实用新型]一种溅射装置-CN201820111755.2有效
发明人：白雨成;全义九;李相文;张昌泳;丁钟国;边娜恩 -专利权人：株式会社SELCOS;胜显（上海）商贸有限公司
申请日： 2018-01-23 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种溅射装置，包括第一旋转靶材、第二旋转靶材、被溅镀物、主遮挡板单元、溅镀罩单元、控制部以及靶材；第一旋转靶材和第二旋转靶材并列设置、呈正棱柱状且能够中心旋转；被溅镀物设置在第一旋转靶材和第二旋转靶材的下方；主遮挡板单元设置在第一旋转靶材、第二旋转靶材及被溅镀物之间；溅镀罩单元设置在主遮挡板单元及被溅镀物之间；控制部用于控制第一旋转靶材、第二旋转靶材、主遮挡板单元以及溅镀罩单元；第一旋转靶材、第二旋转靶材侧面分别设置释放不同溅镀物质的靶材本方案能够满足利用两种靶材，在一个基板上用一次工艺溅镀多种混合比例的薄膜，或能够在一个基板上溅镀具有特定混合比例的两种溅镀物质的薄膜。
旋转靶材溅镀遮挡板罩单元靶材溅射装置基板薄膜本实用新型并列设置单元设置中心旋转棱柱状侧面释放

[发明专利]再生溅镀靶材及其制作方法-CN200910008926.4无效
发明人：王子文;詹智尧;廖浩嘉 -专利权人：光洋应用材料科技股份有限公司
申请日： 2009-02-12 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明是一种再生溅镀靶材及其制作方法。该方法包括提供一回靶材，其含有一背面、一溅镀蚀面及一周缘，该溅镀蚀面包含至少一溅镀蚀面沟槽；在该回靶材的背面进行机械加工前处理；在该回靶材的溅镀蚀面上及其溅镀蚀面沟槽内以及回靶材的周缘覆盖与该回靶材的组成成分相同的原料粉末，并进行预压及烧结的处理，以获得该再生溅镀靶材。本发明能控制该再生溅镀靶材内的回靶材比重，使得第一次回靶成分的比重逐渐下降，达到汰旧换新，并保持该再生靶材溅镀的质量。
再生溅镀靶材及其制作方法

[发明专利]溅镀靶材-CN200580001261.4无效
发明人：加藤和照;久保田高史;木村浩;松浦宜范;松崎健嗣 -专利权人：三井金属鉱业株式会社;日本轻金属株式会社
申请日： 2005-07-08 - 公布日： 2006-12-13 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供可尽量不产生溅镀时的电弧放电现象和喷溅现象的溅镀靶材。对溅镀靶材的用于溅镀的部分进行了摩擦搅拌处理，即使是含碳的铝类合金的溅镀靶材或大型的溅镀靶材，也可以可靠地抑制溅镀时的电弧放电现象和喷溅现象。
溅镀靶材

[发明专利]一种具有多元靶材的溅镀靶-CN200710142083.8无效
发明人：彭光中 -专利权人：钰衡科技股份有限公司
申请日： 2007-08-22 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明关于一种具有多元靶材的溅镀靶(Sputtering Targets)，该溅镀靶应用于薄膜太阳能电池制程的真空溅镀机，其包括：一基座靶与复数种靶材，而该复数种靶材排列、黏结于该基座靶的表面；当真空镀膜制程中需混溅镀多元靶材时，藉由本发明溅镀靶的设计，不须多元靶材预先制成混合物靶材的前置作业，即可形成多元靶材混溅镀，更可让使用后剩余的靶材易于个别回收，提高靶材使用的经济性。
一种具有多元溅镀靶

[发明专利]连续式溅镀设备-CN201110402874.6无效
发明人：张庆州 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2011-12-07 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种连续式溅镀设备，包括依次相邻设置的进料腔体、溅镀腔体及出料腔体，该溅镀腔体包括溅镀室及装设于该溅镀室内的靶材组件与若干电极，该溅镀室内设有一溅镀区，该若干电极相对装设于该溅镀室的侧壁上，设于同一侧的若干电极间隔设置，该靶材组件包括若干靶材，每一靶材装设于相应电极上并远离该溅镀区，同一侧相邻靶材之间形成间隙。该靶材组件还包括至少一遮蔽件，该至少一遮蔽件相对该间隙设置，并位于该若干靶材与该溅镀区之间，用以遮蔽挡设相邻靶材边缘原子的溅射。本发明提供的连续式溅镀设备，遮蔽件能够减小靶材上端部的原子同时被撞击至基材上的几率，有效地提高了沉积至基材上的膜厚均匀性，能够适用于对外观性要求高的镀膜。
连续式溅镀设备

[发明专利]一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法-CN202011382235.3有效
发明人：王泽;秦青丰;王云壮;毕伟;孙志娟;夏少华;叶霞;李小平;王成;雷卫宁;谈衡;陈修祥 -专利权人：江苏理工学院
申请日： 2020-11-30 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明属于轻质合金技术领域，具体涉及一种利用射频磁控制备镁铝复合板的方法，包括：(1)基体准备：将清洗后的镁合金基体放入射频磁控溅射设备送样室进行抽真空；(2)预溅镀：分别对溅射腔中的镁靶材和铝靶材进行预溅镀；(3)送样：将镁合金基体送到溅射腔中样品台；(4)洗腔：开启溅射腔进气阀，调节高纯氩气流量和清洗时间；(5)加热基体：将所述镁合金基体进行加热，然后调整样品旋转台持续旋转；(6)溅镀：分别对镁靶材和铝靶材进行射频磁控溅射；(7)冷轧：对溅镀铝的单面进行冷轧处理，获得镁铝复合板。
一种利用射频控制备镁铝复合板方法

[发明专利]硼锌氧化物溅镀靶材及其应用-CN201210384229.0有效
发明人：刘砚鸣;张智咏;徐惠缨 -专利权人：光洋应用材料科技股份有限公司
申请日： 2012-10-11 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种硼锌氧化物溅镀靶材及其应用。为克服传统硼锌氧化物溅镀靶材无法使用高溅镀速率的直流溅镀工艺形成硼锌氧化物薄膜的问题，本发明提供一种硼锌氧化物溅镀靶材，其BZO溅镀靶材的硼含量相对于硼与锌的含量和为1.15原子百分比至6.74原子百分比，且BZO溅镀靶材的二次相面积占硼锌氧化物溅镀靶材的面积的2%至25%。本发明是将硼锌氧化物溅镀靶材的二次相面积控制于适当的范围内，使其能够经由直流溅镀工艺提升溅镀速率，并藉此形成一种于可见光区域的光穿透率高于80%且电阻率低于1×10^-2Ω·cm的硼锌氧化物薄膜
氧化物溅镀靶材及其应用

[发明专利]溅镀设备及溅镀方法-CN201310133001.9在审
发明人：许民庆;储培鸣 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2013-04-17 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种溅镀设备及溅镀方法，溅镀设备包括：腔体；旋转靶材机构，设置在所述腔体中部，所述旋转靶材机构的相反两侧能够设置第一靶材和第二靶材；所述旋转靶材机构包括旋转轴，并能够绕着所述旋转轴旋转；以及密封机构，设置在所述旋转靶材机构的两侧，用于与所述旋转靶材机构和所述腔体耦合以将所述腔体隔离成两个密封的腔室，所述两个腔室用于在其中分别设置第一基板和第二基板，其中所述旋转靶材机构包括相对设置的第一靶材固定件和第二靶材固定件，用于固定所述第一靶材和第二靶材本发明的溅镀设备和溅镀方法具有旋转靶材机构，因此能够在同一腔体中同时溅镀两种镀膜，实现了连续溅镀，提高溅镀效率。
设备方法

[发明专利]非球面薄膜溅镀系统-CN202210242241.1有效
发明人：白文宾;麦宏全;林咏翔;柯泰年 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开一种非球面薄膜溅镀系统，其包括真空腔体、靶材与多轴式自动驱动装置。靶材与多轴式自动驱动装置位于真空腔体中。溅镀电源于真空腔体中形成电浆，并用电浆溅镀靶材，从而形成溅镀粒子。多轴式自动驱动装置上设有待溅镀物，待溅镀物具有朝向靶材的非球面。非球面具有待溅镀点，待溅镀点的切线与直线段互相垂直，直线段连接于待溅镀点与靶材之间。多轴式自动驱动装置根据待溅镀点对应的非球面方程式，在固定直线段的长度的前提下移动待溅镀物，以利用溅镀粒子于非球面上形成均匀薄膜，从而避免非球面透镜上的膜厚不均的问题。
球面薄膜系统

[发明专利]磁控式摇摆扫瞄型溅镀机-CN02132236.8有效
发明人：邓敦和;李正中 -专利权人：瀚宇彩晶股份有限公司
申请日： 2002-09-03 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控式摇摆扫瞄型溅镀机，是由溅镀靶、基座以及长形磁铁所组成，溅镀靶的表面设有靶材并与基座相对应，靶材在经过溅镀之后是沉积于基座之上，而长形磁铁则是设置于溅镀靶的背面，并以来回摇摆方式控制靶材的沉积，其中长形磁铁在其二端是分别设有消磁装置，其可以避免长形磁铁二端的磁场强度过强而对溅镀的品质造成影响。
磁控式摇摆扫瞄型溅镀机

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