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- [其他]液体处理-CN85105678无效
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A·斯科特
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伊索沃思有限公司
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1985-07-26
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1987-01-21
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A23L2/40
- 叙述碳酸化方法及设备，其中碳酸化反应在气态的二氧化碳的气氛中把二氧化碳向下压入待碳酸化的水中，这种碳酸化反应可通过装有叶片的转子，绕其水平轴旋转来实现。二氧化碳的气氛最好是保持在压力为表压110磅/平方英寸。碳酸化的程度可以通过变动碳酸化反应时间予以改变。利用从碳酸化室中进行碳酸化反应完毕后，那些否则会被废弃的二氧化碳对盛有各种味道的调味浓缩物的供应装置进行加压，以便用于从装置中供应调味浓缩物。
- 液体处理
- [发明专利]液体处理方法、液体处理装置及液体处理系统-CN98813168.4无效
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森敏一;津田光男
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普拉乌道株式会社
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1998-11-20
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2001-03-07
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C02F1/48
- 本发明利用液体处理方法,通过微波形成的电场使液体中处于水合稳定状态和疏水准稳定状态的胶体粒子疏水化,从液体分子中分离出来,利用低频超声波的空穴作用使分离出来的胶体粒子互相撞击而凝集,同时利用高频电磁超声波对液体进行除臭处理因此,不需要大规模的设备,就能够容易且有效地除去溶于液体的胶体粒子,同时还可进行除臭处理。对包含水溶性有机物和微生物等胶体粒子的液体发射电磁微波,使胶体粒子和液体分子分离后,对分离出胶体粒子的液体发射低频超声波使前述胶体粒子凝集,同时对前述液体发射高频电磁超声波对前述液体进行除臭处理。
- 液体处理方法装置系统
- [发明专利]液体处理装置和液体处理方法-CN201010239045.6有效
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松本和久
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东京毅力科创株式会社
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2010-07-23
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2011-03-23
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H01L21/00
- 本发明提供液体处理装置和液体处理方法。该液体处理装置能够减少液体的使用量，并且，能够抑制被处理体之间的处理程度的偏差。液体处理装置(10)具有主配管(20)、与主配管(20)连接的液体供给机构(40)、设置在主配管上的主开闭阀(22)、自主配管分支而成的多个分支管(25)、与各分支管连接的多个处理单元(50)。液体供给机构具有设置在主配管上的混合器(43)、用于供给第1液体的第1液体供给管(41b)、用于供给第2液体的第2液体源(42a)，该液体供给机构从一侧向主配管供给在混合器内由第1液体和第2液体混合而成的混合液在处理单元内处理被处理体时，主开闭阀相对于液体供给机构从另一侧封闭主配管。
- 液体处理装置方法
- [发明专利]液体处理装置和液体处理方法-CN201010243590.2有效
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伊藤规宏
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东京毅力科创株式会社
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2010-07-30
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2011-03-23
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H01L21/00
- 本发明提供液体处理装置和液体处理方法。液体处理装置(10)包括：液体供给机构(15)；供给管线(30)，其与液体供给装置相连接、且具有用于喷出被调节了温度的液体的喷出开口(30a)；处理单元(50)，其用于支承供给管线的喷出开口；回流管线(35)，其使被供给到供给管线中的液体返回到液体供给机构中；液体供给切换阀(38a)，其切换下述动作，即、供给用于在处理单元中处理被处理体的液体的动作以及停止供给该液体的动作。液体供给切换阀(38a)设置在供给管线(30)上，且位于自供给管线(30)经由回流管线(35)返回到液体供给机构(15)中的液体的路径上。
- 液体处理装置方法
- [发明专利]液体处理装置和液体处理方法-CN02142802.6有效
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佐田彻也;宫崎一仁
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东京毅力科创株式会社
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2002-07-05
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2003-04-02
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G02F1/1333
- 提供一种不增大印刷台面(footprint)，即便是大型衬底也可在整个衬底上进行均匀的液体处理的液体处理装置。显影处理单元(DEV)24具有按大致水平状态在一个方向上运送LCD衬底G的滚动运送机构14；向LCD衬底G上喷出显影液的主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b；使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b扫描过通过边驱动喷嘴移动机构60a使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b扫描过LCD衬底G边从主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b向LCD衬底G喷出显影液，缩短显影液的液体盛装时间，在整个LCD衬底G上进行均匀的显影处理
- 液体处理装置方法
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