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[实用新型]处理液供给装置-CN201920585622.3有效
发明人：大久保敬弘;榎木田卓;古庄智伸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种使质量管理变得容易的处理液供给装置。一种向用于对晶圆涂布抗蚀液来进行规定的处理的抗蚀剂涂布装置供给抗蚀液的抗蚀液供给装置，作为抗蚀液的供给目的地的抗蚀剂涂布装置为多个，所述处理液供给装置具有由多个所述液处理装置共享的送出部，该送出部将用于贮存所述处理液的处理液供给源中所贮存的所述处理液送出至多个所述液处理装置的各个液处理装置，其中，所述送出部具有多个泵，所述多个泵吸引所述处理液来补充所述处理液，并且送出补充来的处理液，所述送出部始终处于能够从所述多个泵中的至少一个向多个所述液处理装置送出所述处理液的状态。根据本实用新型，能够容易地进行质量管理。
处理液液处理装置送出抗蚀液送出部处理液供给装置抗蚀剂涂布装置本实用新型贮存质量管理处理液供给源涂布抗蚀液供给装置补充晶圆共享吸引

[发明专利]处理液供给装置和处理液供给方法-CN201910344158.3在审
发明人：大久保敬弘;榎木田卓;古庄智伸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种使质量管理变得容易的处理液供给装置和处理液供给方法。一种向用于对晶圆涂布抗蚀液来进行规定的处理的抗蚀剂涂布装置供给抗蚀液的抗蚀液供给装置，作为抗蚀液的供给目的地的抗蚀剂涂布装置为多个，所述处理液供给装置具有由多个所述液处理装置共享的送出部，该送出部将用于贮存所述处理液的处理液供给源中所贮存的所述处理液送出至多个所述液处理装置的各个液处理装置，其中，所述送出部具有多个泵，所述多个泵吸引所述处理液来补充所述处理液，并且送出补充来的处理液，所述送出部始终处于能够从所述多个泵中的至少一个向多个所述液处理装置送出所述处理液的状态。
处理液液处理装置送出处理液供给装置抗蚀液送出部抗蚀剂涂布装置处理液供给贮存处理液供给源涂布抗蚀液供给装置补充晶圆质量管理共享吸引

[发明专利]处理液供给方法和处理液供给装置-CN201611151930.2有效
发明人：吉田勇一;内藤亮一郎;古庄智伸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供一种实现了在处理液供给路径上安装有新的过滤器部时为了从过滤器部除去气泡而消耗的处理液的削减和启动时间的缩短的技术。实施如下工序：将处理液充满在新的过滤器部内的工序；接着，为了从上述过滤器部除去气泡而使该过滤器部内成为作为负压气氛的第一压力气氛的工序；之后，使上述过滤器部内升压的工序；然后，在使上述过滤器部的二次侧成为比上述第一压力气氛高的第二压力气氛的状态下，从上述过滤器部的一次侧使处理液通过上述过滤器部的工序；和将通过了上述过滤器部的处理液经由喷嘴供给至被处理体来进行液处理的工序。由此，能够快速除去气泡。
处理供给方法装置

[发明专利]处理液供给装置和处理液供给方法-CN201410514563.2有效
发明人：寺下裕一;吉原孝介;高柳康治;古庄智伸;佐佐卓志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-29 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种处理液供给装置和处理液供给方法，使得不浪费地消耗处理液，有效地抑制处理液中的颗粒的增加。该处理液供给装置包括：供给用于对被处理体进行处理的处理液的处理液供给源；经由供给路径与上述处理液供给源连接，向被处理体排出上述处理液的排出部；设置于上述供给路径，用于除去处理液中的异物的过滤器装置；分别设置于上述供给路径中的过滤器装置的初级侧和次级侧的供给泵和排出泵；和控制部，其输出控制信号，使得使用上述供给泵和排出泵中的至少一个对从上述处理液供给源供给的处理液进行减压而使其脱气，接着使用上述供给泵和排出泵使脱气后的处理液从上述过滤器装置的初级侧经由该过滤器装置流通至次级侧。
处理供给装置方法

[发明专利]处理液供给装置和处理液供给方法-CN201410512890.4有效
发明人：高栁康治;吉原孝介;寺下裕一;古庄智伸;佐佐卓志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-29 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供在自喷出嘴(7)喷出作为处理液的抗蚀液(L)时能够抑制生产率的降低并能够使用一个过滤器(52)来谋求该抗蚀液L的清洁化的处理液供给装置和处理液供给方法。在供抗蚀液(L)流通的供给管路(51)上设置过滤器(52)和泵(70)或泵(111、112)。并且，使通过过滤器(52)后的抗蚀液(L)的一部分自喷出嘴(7)喷出并使余下的抗蚀液(L)返回到过滤器(52)的初级侧，在进行后续的喷出动作时，使该余下的抗蚀液(L)再次通过过滤器(52)。在这样的动作序列中，返回到过滤器(52)的初级侧的抗蚀液(L)的返回量设定为与自喷出嘴(7)喷出的抗蚀液(L)的供给量相同或多于该供给量。
抗蚀液过滤器喷出自喷处理液供给装置处理液供给供给量返回动作序列供给管路处理液清洁化流通

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201310713222.3有效
发明人：高栁康治;领川幸江;吉田勇一;吉原孝介;寺下裕一;古庄智伸;佐佐卓志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-12-20 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理方法。利用一个过滤器得到与设有多个过滤器时相同的过滤效率并谋求防止生产率降低。根据来自控制部（101）的控制信号，将抗蚀剂液（L）经由过滤器（52）吸入到泵（70）内，将被吸入到泵内的抗蚀剂液的一部分自喷射嘴（7）喷射，使余下的抗蚀剂液返回到供给管路（51b）中的位于过滤器的初级侧的部分，将与喷射量相等的补充量加入到返回量中而进行合成，对合成后的抗蚀剂液以与喷射量和返回量之比的合成相应的次数进行抗蚀剂液的喷射和由过滤器进行的过滤。
处理装置方法

[发明专利]液体处理装置和液体处理方法-CN201511001407.7有效
发明人：吉原孝介;一野克宪;古庄智伸;佐佐卓志;土屋胜裕;寺下裕一;竹口博史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2017-09-08 - 主分类号： B01D19/00 文献下载
摘要：本发明提供与对被处理基板供给处理液的处理液供给喷嘴连接的液体处理装置，其包括将处理液存储容器和该处理液供给喷嘴连接的供给管路；设置于供给管路的过滤器装置；过滤器装置的二次侧的泵；将泵的排出侧和过滤器装置的吸入侧连接的循环管路；在泵的二次侧的供给管路设置的供给控制阀；在循环管路设置的循环控制阀；和控制泵、供给控制阀和循环控制阀的控制装置，利用控制装置，使得通过关闭供给控制阀使从该处理液供给喷嘴向被处理基板的处理液的供给停止时，打开循环控制阀，驱动泵，使处理液在具有过滤器装置的供给管路与循环管路之间循环。
液体处理装置方法

[发明专利]液体处理装置和液体处理方法-CN201380011195.3有效
发明人：吉原孝介;一野克宪;古庄智伸;佐佐卓志;土屋胜裕;寺下裕一;竹口博史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供与对被处理基板供给处理液的处理液供给喷嘴连接的液体处理装置，其包括：将处理液存储容器和该处理液供给喷嘴连接的供给管路；设置于供给管路的过滤器装置；过滤器装置的二次侧的泵；将泵的排出侧和过滤器装置的吸入侧连接的循环管路；在泵的二次侧的供给管路设置的供给控制阀；在循环管路设置的循环控制阀；和控制泵、供给控制阀和循环控制阀的控制装置，利用控制装置，使得通过关闭供给控制阀使从该处理液供给喷嘴向被处理基板的处理液的供给停止时，打开循环控制阀，驱动泵，使处理液在具有过滤器装置的供给管路与循环管路之间循环。
液体处理装置方法

[发明专利]处理液供给方法、处理液供给装置和存储介质-CN201310467501.6有效
发明人：吉田勇一;内藤亮一郎;古庄智伸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供一种实现了在处理液供给路径上安装有新的过滤器部时为了从过滤器部除去气泡而消耗的处理液的削减和启动时间的缩短的技术。实施如下工序：将处理液充满在新的过滤器部内的工序；接着，为了从上述过滤器部除去气泡而使该过滤器部内成为作为负压气氛的第一压力气氛的工序；之后，使上述过滤器部内升压的工序；然后，在使上述过滤器部的二次侧成为比上述第一压力气氛高的第二压力气氛的状态下，从上述过滤器部的一次侧使处理液通过上述过滤器部的工序；和将通过了上述过滤器部的处理液经由喷嘴供给至被处理体来进行液处理的工序。由此，能够快速除去气泡。
处理供给方法装置存储介质

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