专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种宽光谱物镜像差的测算方法及系统-CN202210021978.0有效
  • 马骏;闫力松;赵润川;方斌 - 上海精积微半导体技术有限公司
  • 2022-01-10 - 2022-08-16 - G01M11/02
  • 本发明的宽光谱物镜像差的测算方法包括:搭建物镜的像差实测光路并获取物镜在标准波长处的像差实测值;基于物镜的实际光学结构参数搭建物镜的像差理论仿真光学系统并计算出物镜在标准波长处和待测波长处的像差的理论差值;基于物镜在标准波长处的像差实测值以及物镜在标准波长处和待测波长处的像差的理论差值获取物镜在待测波长处的像差等效实测值。本发明通过先搭建基于标准波长的物镜像差实测光路获取物镜在标准波长处的像差实测值,再基于实际光学结构参数搭建物镜像差理论仿真光学系统从而获取物镜在标准波长处和待测波长处的像差的理论差值,进而间接求得物镜在待测波长处的像差等效实测值
  • 一种光谱物镜波像差测算方法系统
  • [发明专利]一种像差校正系统与方法-CN201010155819.7有效
  • 段立峰;马明英 - 上海微电子装备有限公司
  • 2010-04-27 - 2011-11-09 - G03F7/20
  • 一种像差校正系统和利用该系统进行波像差校正的方法。所述系统包括投影物镜和与投影物镜相结合的像差校正装置,其中,投影物镜具有多个折射镜和多个反射镜,该多个反射镜中具有一个或多个变形反射镜,像差校正装置具有像差测量系统、信号处理系统和一个或多个驱动单元,投影物镜对位于物面处的像差测量图形进行成像,像差测量系统在像面处测量投影物镜的像差,信号处理系统对像差测量系统测得的像差进行处理且能产生控制信号,所述一个或多个驱动单元与投影物镜中的一个或多个变形反射镜相结合并根据控制信号驱动变形反射镜的不同点产生不同的位移,所述像差测量系统、信号处理系统、驱动单元和投影物镜形成闭环回路,实现对投影物镜像差的实时校正。
  • 一种波像差校正系统方法
  • [发明专利]一种软X射线-真空紫外光学系统的设计方法及光学系统-CN202310036674.6在审
  • 曹一青 - 莆田学院
  • 2023-01-10 - 2023-05-09 - G02B27/00
  • 本发明公开了一种软X射线‑真空紫外光学系统的设计方法及光学系统,包括以下步骤:步骤一:基于软X射线‑真空紫外光学系统像差理论,分别计算系统中两个光学元件的场曲像差、彗差像差、球差像差、像散像差和畸变像差并建立总像差表达式;步骤二:应用光学元件2的像差来平衡光学元件1的像差,建立系统的场曲、彗差、球差、像散及畸变总像差平衡方程式;步骤三:构建光学系统总的像差平衡方程式作为系统成像质量评价目标函数;步骤四:应用自适应变异概率改进的遗传算法对目标函数进行求解
  • 一种射线真空紫外光学系统设计方法
  • [发明专利]像差校正装置及方法-CN201110051545.1有效
  • 段立峰;李映笙;马明英 - 上海微电子装备有限公司
  • 2011-03-03 - 2012-09-05 - G03F7/20
  • 一种像差校正装置及方法。所述校正装置包括像差测量系统,测量投影物镜的像差;信号处理系统,对所述投影物镜的像差进行处理并输出驱动电压信号;液体镜头,根据所述驱动电压信号产生形变进行投影物镜的像差校正。校正方法包括像差测量系统在像面测量像差,计算所述投影物镜的像差与要求值的偏差,拟合为波前误差,将所述波前误差发送到信号处理系统;所述信号处理系统将接收到的波前误差转换为液体镜头的形变偏差,根据所述液体镜头的形变偏差输出驱动直流电压所述像差校正装置及校正方法能够实现校正投影物镜像差,该校正装置结构简单、成本低、操作容易、使用寿命长。
  • 波像差校正装置方法
  • [发明专利]像差测量模块的畸变测量装置和畸变校正方法-CN201410582052.4有效
  • 卢云君;唐锋;王向朝 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2014-10-27 - 2017-12-01 - G01M11/02
  • 本发明公开了一种像差测量系统的畸变测量装置和畸变校正方法,该装置包含光源、标准模板、像差测量模块、精密调节台和数据处理单元,像差测量模块由傅立叶透镜和图像采集元件共同组成,标准模板用于像差测量模块的畸变测量中本发明通过在光源和像差测量模块之间放置标准模板,标准模板上制作有位置已知的高精度定位标记,由图像采集元件采集图像并输出至数据处理单元中。数据处理单元对图像进行定位标记的图像识别,然后进行畸变的映射计算,并对像差测量结果进行畸变的位置校正和像差数据的修正,提高波像差测量精度,对于干涉法和非干涉法的像差测量模块的畸变测量都适用。
  • 波像差测量模块畸变装置校正方法
  • [发明专利]一种像差测量方法、像差测量装置及光刻机-CN201910551270.4在审
  • 董冠极;马明英 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2019-06-24 - 2020-12-25 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种像差测量方法、像差测量装置及光刻机,所述像差测量方法包括:步骤(1)设置测量标记,所述测量标记包括位于投影物镜两端的物面光栅和像面光栅;步骤(2)提供一检测光束,使所述检测光束经所述物面光栅后被投影至所述像面光栅处,得到像差测试图;步骤(3)改变所述物面光栅与所述像面光栅的相对位置,得到不同相移条件下的多个像差测试图及测量标记的多个位置坐标;步骤(4)根据所述测量标记的多个位置坐标,计算所述测量标记的多个实际相移量;步骤(5)求解投影物镜的波前相位;步骤(6)计算得到投影物镜的像差。本发明在测量像差时,通过测量标记的实际位置求解像差,提高了像差的测量精度。
  • 一种波像差测量方法测量装置光刻
  • [发明专利]显微镜物镜计算机辅助装调方法-CN201810907506.9有效
  • 孙长胜;李伸朋;杨召兵 - 宁波舜宇仪器有限公司
  • 2018-08-10 - 2021-01-05 - G02B27/62
  • 本发明涉及一种显微镜物镜计算机辅助装调方法,包括:S1、根据物镜光学设计软件建立并训练多重神经网络回归模型,确定物镜制造装配误差与物镜像差的对应关系;S2、测量物镜的实际像差,若所述实际像差满足预定阈值,结束装调操作;S3、若所述实际像差在所述预定阈值范围之外,则将所述实际像差代入所述多重神经网络回归模型,由所述多重神经网络回归模型给出装调预测误差;S4、依据所述装调预测误差调整所述物镜,并再次测量所述物镜的实际像差,若所得实际像差满足所述预定阈值,结束装调操作;否则重复所述步骤S3‑S4,直至所述实际像差满足所述预定阈值。
  • 显微镜物镜计算机辅助方法
  • [发明专利]一种光刻成像系统像差优化方法、装置、设备及介质-CN202210094255.3在审
  • 陈知枢;韦亚一;董立松 - 中国科学院微电子研究所
  • 2022-01-26 - 2023-08-04 - G03F7/20
  • 本发明公开一种光刻成像系统像差优化方法、装置、设备及介质,涉及半导体制造和光刻工艺开发技术领域,用于解决现有技术中无法对像差分布进行可靠优化的问题。包括:获取光刻成像系统光刻曝光的目标性能指标;将目标性能指标输入构建完成的映射关系模型中,得到光刻成像系统中表征像差的目标泽尼克项;基于目标泽尼克项,采用确定性筛选设计方法对光刻成像系统的像差进行优化其中通过确定性筛选设计方法建立的表征像差的泽尼克项与光刻成像性能指标之间关系的模型,既可以实现像差对光刻成像性能影响的快速正向分析,也可以根据光刻成像性能的指标要求实现投影系统像差的优化,可以为投影物镜像差的快速调整提供评估依据
  • 一种光刻成像系统波像差优化方法装置设备介质
  • [发明专利]一种像差测量标记及像差测量方法-CN201210183465.6有效
  • 马明英;段立峰 - 上海微电子装备有限公司
  • 2012-06-06 - 2013-12-25 - G03F7/20
  • 本发明提出一种像差测量物面标记,形成在光刻机系统的掩模上,其特征在于该物面标记包括光栅标记和小孔标记,光栅标记和小孔标记分别在标记面上排成列,每个光栅标记和每个小孔标记构成一组标记并且排成一行。同时还提出了使用该物面标记测量像差的方法。由于本发明的像差测量物面标记既包括光栅标记,又包括小孔标记,在通过剪切干涉条纹测量像差的同时,通过小孔标记测量剂量,从而提高了像差测量精度,减小了光强不均匀性对像差检测精度的影响。
  • 一种波像差测量标记测量方法
  • [发明专利]自适应光学系统、曝光系统、像差调节方法及设备-CN202311111061.0在审
  • 何军;盛乃援;马卫民 - 光科芯图(北京)科技有限公司
  • 2023-08-31 - 2023-09-29 - G03F7/20
  • 本发明涉及光刻技术领域,公开了一种自适应光学系统、曝光系统、像差调节方法及设备。本发明在变形镜对第一光束的相位进行调整得到第二光束之后,首先由波前检测模块检测第二光束的波前图形,然后由图像处理模块基于第二光束的波前图形与预标定的波前图形得到像差。当像差不满足预设曝光条件时,不断调整变形镜,直至像差满足预设曝光条件时,利用第二光束完成曝光。本发明仅通过波前检测模块即可完成像差的检测工作,结构简单且独立。而且,在像差补偿的过程中,本方案直接通过图像处理模块调整波前检测模块即可实现对像差的补偿,其补偿方式简便,且补偿时长短,从而使成像质量和效率提高。
  • 自适应光学系统曝光系统波像差调节方法设备

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