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[发明专利]位置对准方法以及位置对准装置-CN201980010298.5有效
发明人：三石创;福田稔;菅谷功 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2019-04-11 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种对层叠的两个基板进行位置对准的位置对准方法，包含：测量从配置于两个基板中的至少一个基板的多个标记中选择出的标记的位置的阶段；以及基于测量出的标记的位置，对两个基板进行位置对准的阶段，被测量的标记基于与至少一个基板的形变相关的信息来选择
位置对准方法以及装置

[发明专利]位置对准方法、位置对准装置和程序-CN200880010733.6无效
发明人：阿部博;阿布达尔·M·穆罕麦德 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2008-04-09 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提出了能够减少处理负担的位置对准方法、位置对准装置和程序。使用在从出现在一个图像中的对象提取的第一组点中的某些点的群组和在从出现在另一图像中的对象提取的第二组点中的某些点的群组作为基准，将第二组点相对于第一组点对准。之后，使用第一组点中的所有点和在已对准的第二组点中的所有点作为基准，将第二组点相对于第一组点对准。
位置对准方法装置程序

[发明专利]位置对准机构-CN201610784811.4在审
发明人：刘玉恩 -专利权人：福建省龙竣金属制品有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-02-08 - 主分类号： B23Q3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种位置对准机构，包括一基部、一剪式机构、四对准脚、拉力驱动单元。该基部设有滑道，该滑道具有弧形道结构。该剪式机构设有对准部，该对准部沿两连杆相对转动的转动轴线设置。该四对准脚分别设于两连杆末端，该对准脚配合滑道并能沿弧形道结构活动。该拉力驱动单元连接在对准脚或连杆末端上以使对准脚或连杆末端受到使两对准脚相近的拉力。它具有如下优点：对准步骤简便，对准精度高，使用对准机构能起到定位或稳定加工工具的作用，起到提高工作效率、精度的作用。
位置对准机构

[发明专利]位置对准装置-CN202080075946.8有效
发明人：大西祐司;长泽俊贵 -专利权人：户谷技研工业株式会社
申请日： 2020-10-01 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： B31B70/10 文献下载
摘要：本发明防止第一主体件、第二主体件以及追加的部件间的位置关系产生偏移。第一以及第二主体件(1、2)都具有包括检测点且以印刷间距重复的印刷图案。设计位置以该印刷间距分别预先规定于第一以及第二主体件(1、2)。第一搬运装置(10)基于第一传感器(31)的输出对间歇搬运量进行调整，以使第一主体件(1)的设计位置每当间歇搬运停止时与第一固定位置(28)对齐。第二搬运装置(13)基于至少一个第二传感器(33)的输出对第二主体件(2)的张力以及搬运单元(14)的间歇搬运量进行调整，以使第二主体件(2)的设计位置每当间歇搬运停止时与第二固定位置(30)对齐。第三搬运装置(24)基于第三传感器(34)的输出对间歇搬运量进行调整，以使第一主体件(1)的设计位置每当间歇搬运停止时与第二固定位置(30)对齐。
位置对准装置

[发明专利]位置对准方法、磁场检测设备和位置对准设备-CN201911051829.3在审
发明人：成宰容 -专利权人：现代自动车株式会社;起亚自动车株式会社
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： B60L53/12 文献下载
摘要：本发明涉及位置对准方法、磁场检测设备和位置对准设备。提供一种由车辆组件(VA)执行的位置对准方法，该车辆组件(VA)包括接收从地面组件(GA)的发射板发射来的电力的接收板。
位置对准方法磁场检测设备

[发明专利]位置对准机构、加工装置以及位置对准方法-CN201010115105.3有效
发明人：小林长 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2010-02-11 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供一种位置对准机构、加工装置以及位置对准方法，其不会使含有翘曲的半导体晶片破损，能使该半导体晶片与卡盘工作台高精度地进行位置对准。位置对准机构包括：临时载置工作台(23)，其形成为直径大于半导体晶片(W)的外径，并具有对半导体晶片的至少外周缘部进行吸附的吸附面(25)；摄像机构(24)，其对吸附于吸附面的半导体晶片的外周缘部进行摄像；控制部(19)，其根据半导体晶片的外周缘部的图像数据，计算出半导体晶片的中心的位置数据；和晶片供给部(17)，其在根据半导体晶片的中心的位置数据而使半导体晶片的中心位置对准了保持半导体晶片的卡盘工作台(52)的保持面(56)的中心位置的状态下，将半导体晶片载置于保持面。
位置对准机构加工装置以及方法

[发明专利]投影曝光装置、位置对准装置以及位置对准方法-CN03123736.3有效
发明人：平林洋一;松本德嘉 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2003-05-20 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种可进行精确位置对准的投影曝光装置。对应于紫外线用的CCD30上的掩模标记90的中心坐标，使红外线用CCD40上的印刷电路板标记91的中心坐标吻合，控制移动机构81，使移动平台70在XY及θ方向旋转移动而做位置对准。
投影曝光装置位置对准以及方法

[发明专利]同轴双面位置对准系统及位置对准方法-CN200810201820.1有效
发明人：吕晓薇;徐兵;蔡巍 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-10-27 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种同轴双面位置对准系统及位置对准方法。本发明提出的同轴双面位置对准系统，用于双面投影曝光装置中，包括：设于掩模版上方的双面位置对准装置；设置于掩模版上的掩模标记；设置于承片台上的曝光对象；设于曝光对象上的曝光对象标记；其中，所述的双面位置对准装置通过分别检测所述的正面对准时和背面对准时掩模标记和曝光对象标记的位置信息并传送给承版台和承片台运动控制单元，以控制承版台和承片台的运动来调整掩模版和曝光对象的位置，从而实现曝光对象上正反两面的曝光场和掩模版上电路图案之间位置的精确对准；其中，反面对准采用近红外光路同轴成像实现曝光场和掩模版上图案的对准。
同轴双面位置对准系统方法

[发明专利]图像位置对准装置、图像位置对准方法以及记录介质-CN201580039748.5有效
发明人：中泽笃志;克里斯蒂安·尼奇克 -专利权人：国立研究开发法人科学技术振兴机构
申请日： 2015-07-23 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： G06T7/70 文献下载
摘要：图像位置对准装置具有：映射决定部，决定作为使第1图像向球面光线图迁移的映射的第1映射、和作为使第2图像向球面光线图迁移的映射的第2映射；对应点对提取部，通过检测第1图像中的一点、和与该一点相对应的第2图像中的一点来提取对应点对；旋转映射导出部，基于构成对应点对的第1图像中的一点的位置以及局部特征量、和构成对应点对的第2图像中的一点的位置以及局部特征量，导出使球面光线图中的第1图像的像与球面光线图中的第2图像的像位置匹配的旋转映射；和配准部，基于第1映射、旋转映射、和第2映射，使第1图像的数据相对于第2图像的数据位置对准并生成相对于第2图像位置对准后的第1图像的数据。
图像位置对准装置方法以及程序

[发明专利]面板位置对准装置-CN202080005831.1有效
发明人：李范硕;金赞洙;白晟贤;林裕镇 -专利权人：杉金光电（苏州）有限公司
申请日： 2020-02-07 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本公开内容提供了这样的面板对准装置：当进行结合有光学膜使得所述光学膜的一个或更多个侧面突出超过矩形面板的侧面的所述矩形面板的对准时，所述面板对准装置能够容易地使所述矩形面板对准并防止对所述光学膜的损坏。
面板位置对准装置

[发明专利]基板位置对准器-CN201480017510.8有效
发明人：诺吉·A·贾金德拉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-02-20 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：一种基板位置对准器包括基板保持组件、多个辊、旋转机构及传感器。基板保持组件被配置成将基板保持在竖直方向上。所述多个辊包括至少两个惰轮辊及驱动辊。一种对准具有定向切口的基板的方法包括以下步骤：当定向切口未被定向于以上所述的范围内时，感测该定向切口的存在。
位置对准

[发明专利]基板位置对准装置-CN200480015442.8有效
发明人：横田明义;石坂一朗;大岛秀树;关川利夫;竹节宪之 -专利权人：信越工程株式会社
申请日： 2004-09-27 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： G09F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种不使用XYθ平台而精密地对准位置的基板位置对准装置。本发明的基板位置对准装置中，作为在2个基板(A，B)相互维持平行的状态下，将上下保持板(1，2)中的一个相对于另一个向XYθ方向自由地支撑调整移动的机构，从上下保持板(1，2)中的一个，向真空室(S)的顶板壁设置摆动连杆导向机构(6)，将该摆动连杆导向机构(6)由XYθ方向移动机构(5)向XYθ方向摆动，从而使上下保持板(1，2)中的一个相对于另一个向XYθ方向调整移动，从而在XYθ方向对上基板(A)和下基板(B)相互对准位置
位置对准装置

[发明专利]基板的位置对准方法-CN202080058556.X在审
发明人：古林刚;结城彻;平田树里 -专利权人：株式会社JEL
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：包括：使用光学单元，遍及载置到载物台上的基板的整周测定基板的边缘各部分的位置，由此取得表示边缘各部分的位置的一次位置数据的步骤(S31)；使载物台在规定方向上移动规定量，使用光学单元，遍及载物台移动后的基板的整周测定基板的边缘各部分的位置，由此取得表示移动后的边缘各部分的位置的二次位置数据的步骤(S33)；使用一次位置数据和二次位置数据，计算载物台移动前与移动后的边缘各部分的位置的差分量的步骤；及根据各个差分量和载物台的移动量计算边缘各部分的光学倍率的比率，并基于计算出的边缘各部分的光学倍率的比率来校正一次位置数据的边缘各部分的位置，取得校正位置数据的步骤(S34)。
位置对准方法

[发明专利]位置对准方法和设备-CN201810151740.3有效
发明人：成宰容 -专利权人：现代自动车株式会社;起亚自动车株式会社
申请日： 2018-02-14 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H02J50/90 文献下载
摘要：本发明公开了一种位置对准方法和设备。该设备包括：由位置对准设备利用无线通信连接到磁场检测设备，其中，至少一个第一天线位于发送板中；由位置对准设备利用位于接收板中的至少一个第二天线来辐射至少一个磁场；由位置对准设备从磁场检测设备接收磁场测量值；并且通过比较磁场测量值与预先存储的参考值，由位置对准设备获得表示接收板和发送板之间的位置差异的信息。
位置对准方法设备

[发明专利]对准标记的位置设计-CN02158461.3无效
发明人：刘家助;林思闽 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2002-12-26 - 公布日： 2004-06-16 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种对准标记的位置设计，应用在已具有多层结构之基底上，此对准标记的位置设计是将对准标记设置在基底上的第一介电层中，并在第一介电层下方的另一层介电层中设置金属图案层，其中金属图案层是由多条长条形金属线所构成，并且此些长条形金属线之间的一间距小于对准用光线的波长。
对准标记位置设计

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