“沉积”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果152744个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]薄膜沉积组件及薄膜沉积装置-CN201610177201.8在审
发明人：沐俊应 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2016-03-25 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明公开一种薄膜沉积组件，其包括：相对设置的沉积基板(10)和靶材承载盘(20)；设置于靶材承载盘(20)朝向沉积基板(10)的表面上且沿第一方向间隔排列的多个靶材(40)；设置于沉积基板(10)和靶材承载盘本发明还公开了一种薄膜沉积装置。本发明的薄膜沉积组件及薄膜沉积装置，其有效沉积区域大，从而能够应对大尺寸基板大批量生产需求，并且通过设计激光照射源点排布及靶材承载盘和/或沉积基板在沉积薄膜过程中的移动方式，提高沉积薄膜的均匀性。
薄膜沉积组件装置

[发明专利]薄膜沉积系统及薄膜沉积方法-CN201780096325.6在审
发明人：赵小虎;林茂仲 -专利权人：深圳市柔宇科技有限公司
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种薄膜沉积系统，包括原子层沉积单元(1)、化学气相沉积单元(2)以及清洗气体喷出单元(3)；原子层沉积单元(1)设置有第一组气体喷出单元(11)，化学气相沉积单元(2)设置有第二组气体喷出单元(21)，清洗气体喷出单元(3)包括至少一个设置于原子层沉积单元(1)以及化学气相沉积单元(2)之间的主清洗气体喷嘴(31)；第一组气体喷出单元(11)连接原子层沉积反应需要的第一反应源，第二组气体喷出单元(21)连接化学气相沉积反应需要的第二反应源。还公开了一种薄膜沉积方法。
薄膜沉积系统方法

[发明专利]ALD沉积装置及ALD沉积方法-CN202010680690.5在审
发明人：马昆松 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种ALD沉积装置及ALD沉积方法，ALD沉积装置包括一真空腔体。通过将真空腔体设置成多个沉积的子单元，每个子单元设置独立控制的结构，分别配置进气口和出气口，以增大反应气体的供气速率和抽气速率，提高成膜质量，缩短沉积周期。
ald 沉积装置方法

[发明专利]喷头组件、沉积设备及沉积方法-CN201910888433.8在审
发明人：马春龙;罗兴安 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种喷头组件、沉积装置及沉积方法，其中，所述喷头组件包括：第一喷头，呈环形，用于与第一工艺气体的供应系统的输出口连接，并将所述第一工艺气体输出至待处理对象的第一区域；第二喷头，用于与第二工艺气体的供应系统的输出口连接
喷头处理对象工艺气体第二区域第一区域供应系统喷头组件喷嘴端输出口沉积装置输出沉积匹配包围申请

[发明专利]薄膜沉积方法以及薄膜沉积装置-CN202110107889.3在审
发明人：李锋 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-01-27 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本申请涉及一种薄膜沉积方法以及薄膜沉积装置。薄膜沉积方法包括：将基片放入炉管内，炉管包括用于放置基片的第一区段，第一区段具有反应气体的进气口；在第一预设时间内，将对第一区段进行加热的第一加热模块从第一初始温度加热至第一预设温度，第一加热模块包围第一区段
薄膜沉积方法以及装置

[发明专利]薄膜沉积设备及薄膜沉积方法-CN202011186034.6在审
发明人：林俊成 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2020-10-29 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜沉积设备及薄膜沉积方法，主要包括一腔体、一进气口、一载台、一冷却气体输入管线、一挡件及一升降装置。在进行沉积步骤之前，冷却气体输入管线停止输送冷却气体，升降装置驱动载台及挡件相互远离，而后进行沉积步骤，以避免挡件接触基板，而造成基板表面沉积的薄膜的厚度不均。
薄膜沉积设备方法

[发明专利]薄膜沉积设备和薄膜沉积方法-CN202110676342.5在审
发明人：韩亚朋;骆金龙 -专利权人：长江先进存储产业创新中心有限责任公司
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本公开实施例公开了一种薄膜沉积设备和薄膜沉积方法，所述薄膜沉积设备包括：处理腔室，包括腔体和位于腔体内的容置空间；遮蔽组件，位于容置空间内，用于遮蔽腔体的腔壁，并在容置空间内形成子空间；承载台，位于子空间内
薄膜沉积设备方法

[发明专利]薄膜沉积方法及薄膜沉积设备-CN202111007035.4在审
发明人：骆金龙 -专利权人：长江先进存储产业创新中心有限责任公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本公开实施例公开了一种薄膜沉积方法和薄膜沉积设备，所述薄膜沉积方法方法包括：往反应腔室内通入原子量大于氩气的惰性气体；在往所述反应腔室内通入所述惰性气体的过程中，在所述反应腔室内的靶材和基片之间施加电离电压使所述惰性气体电离产生惰性气体离子轰击所述靶材；当所述反应腔室内的气体压强达到预设值时，停止通入所述惰性气体；向所述反应腔室内施加磁场，以在所述磁场的作用下使所述靶材电离产生的等离子体中的带电粒子轰击所述靶材，以使所述靶材的组成粒子沉积在所述基片上
薄膜沉积方法设备

[发明专利]电泳沉积槽及电泳沉积方法-CN202111357970.3在审
发明人：巨东英;尉一民 -专利权人：宁波市海智材料产业创新研究院
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： C25D13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种电泳沉积槽及电泳沉积方法，所述沉积槽包括槽体，所述槽体内设置有阳极管，所述阳极管通过阳极支架固定在所述槽体的底部，所述阳极管的上端固定有导电环，所述导电环通过导线与直流电源的阳极连接，所述槽体的底部形成有空气搅拌管所述沉积槽具有结构简单，成本低，电泳效果好等优点。
电泳沉积方法

[发明专利]用于OLED像素沉积的沉积掩模-CN202111580123.3在审
发明人：金南昊 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：根据实施例的沉积掩模包括具有第一表面和第二表面的金属板，金属板包括铁和镍，厚度为15μm至30μm，金属板包括深度为金属板的厚度的20％或更小的第一表面层以及深度为金属板的厚度的20％或更小的第二表面层
用于 oled 像素沉积

[发明专利]用于OLED像素沉积的沉积掩模-CN202111422371.5在审
发明人：白智钦 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2021-11-26 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开了一种沉积掩模，其包括金属板，金属板包括沉积区域和布置在沉积区域外部的非沉积区域，在非沉积区域中形成有用于拉伸金属板的开口部分和通过开口部分形成的突起部，在将金属板的短宽度限定为A并将突起部的数目限定为Y时，下面等式的Z值表示为自然数、小数或自然数加小数的值，[等式]Z＝A/(Y+Y‑1)非沉积区域包括布置在沉积区域的第一外侧部处的第一非沉积区域和布置在其第二外侧部处的第二非沉积区域，开口部分包括布置成彼此面对且布置在第一非沉积区域的端部处的第一开口部分和布置在第二非沉积区域的端部处的第二开口部分，突起部包括布置成彼此面对且布置在第一非沉积区域的端部处的第一突起部和布置在第二非沉积区域的端部处的第二突起部。
用于 oled 像素沉积

[发明专利]用于OLED像素沉积的沉积掩模-CN202180077844.4在审
发明人：张祐荣;姜地勋;金海植 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2021-10-26 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：一种根据实施方式的沉积掩膜包括：金属板，金属板含有铁镍基合金并且包括第一表面和与第一表面相反的第二表面，其中，金属板包括通孔，通孔包括位于金属板的第一表面上的小面积孔和位于金属板的第二表面上的大面积孔，
用于 oled 像素沉积

[发明专利]薄膜沉积系统及沉积方法、应用-CN202310571256.7在审
发明人：孙云;刘玮;杨旭东;李银龙;周志强 -专利权人：浙江生波智能装备有限公司;南开大学
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种薄膜沉积系统，包括：真空腔室，真空腔室内设有：阴极；阳极，设置在阴极的相对面，在阴极与阳极之间形成电磁场空间，在电磁场空间内产生等离子体；靶材，设置在阴极和/或阳极上，适用于在电磁场空间内在等离子体的溅射下产生靶材粒子本发明提供的薄膜沉积系统和沉积方法，可以在避免直接轰击损伤衬底及低温条件下在衬底上生长薄膜。
薄膜沉积系统方法应用

[发明专利]气相沉积过程和沉积组件-CN202310082040.4在审
发明人： G·波波夫;A·维斯;M·瑞塔拉;M·凯梅尔 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2023-01-31 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C23C16/30 文献下载
摘要：本公开涉及一种通过循环沉积过程在衬底上沉积含金属卤化物的材料的方法。该方法包括在反应室中提供衬底，以气相将金属前体提供到反应室中，以及以气相将卤素前体提供到反应室中，以在衬底上形成含金属卤化物的材料。还公开了一种用于沉积含金属卤化物的材料的沉积组件。
沉积过程组件

[发明专利]石英沉积装置及石英沉积方法-CN202310110916.1在审
发明人：薛钦;沈一春;钱宜刚;赵海伦;马祥;张潇;陈娅丽 -专利权人：中天科技精密材料有限公司;江苏中天科技股份有限公司
申请日： 2023-02-08 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： C03B19/14 文献下载
摘要：本发明属于石英制备技术领域，具体涉及一种石英沉积装置及石英沉积方法，用于解决石英的尺寸较小、光学均匀性较差的技术问题。该石英沉积装置包括：炉膛，炉膛具有容纳腔；与容纳腔连通的抽风通道；设置在容纳腔内的喷灯；设置在容纳腔内且与喷灯相对的支撑单元；与支撑单元连接的驱动单元；设置在炉膛旁侧的监测单元，当石英达到监测单元的监测区域后
石英沉积装置方法

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top