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[发明专利]均匀气流装置-CN201410235427.X在审
发明人：杨宏超;金一诺;张怀东;王坚;王晖 -专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2015-12-16 - 主分类号： B01F5/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种均匀气流装置，可以提供分散均匀的刻蚀气体。其技术方案为：均匀气流装置包括位于顶部的中心孔、位于中心孔之下的第一筛孔板、以及位于第一筛孔板之下的第二筛孔板，第一筛孔板中的孔径大于第二筛孔板中的孔径。
均匀气流装置

[发明专利]均匀气流装置-CN201410366171.6有效
发明人：杨宏超;V·纳其;金一诺;张怀东;王坚;王晖 -专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2014-07-29 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明揭示了一种均匀气流装置，包括：导气管，导气管中空形成气体腔，在导气管的侧壁和底端开有出气孔，出气孔与气体腔连通，气体腔连接到气体输送管道，导气管沿高度方向具有数个安装槽，每两个安装槽之间为一段，每一段中具有不同数量的出气孔数个引导片，分别安装在导气管的外壁上的安装槽中，数个引导片具有不同的面积，引导片引导从导气管的不同的段中输出的气流，沿不同的引导片流至引导片的边缘之后向下，由不同的段中输出的气流在该均匀气流装置的下方形成各自的气流区域，气流区域的正投影面积与对应段中出气孔的数量相关。
均匀气流装置

[实用新型]烟道均匀气流机械装置-CN201820440951.4有效
发明人：王海洋 -专利权人：昆山莫帝斯科燃烧技术仪器有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： F15D1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种烟道均匀气流机械装置，其特征是，所述装置包括气流进口、气流出口以及混流板，所述气流进口的面积大于气流出口的面积，所述混流板主要包括进气分散板、混合板以及出气汇集板，所述进气分散板由两块相同的弧形板组成，两块弧形板一端相互固定并设在气流进口的中部，其中一块弧形板弧面向左，另一块弧形板弧面向右；所述出气汇集板也为两块弧形板，这两块弧形板对称设在气流出口的两侧，且弧面均向下设置；所述混合板包括若干对称的设在进气分散板和出气汇集板之间的直板优点：能够不影响气流速率的情况下混合进入烟道的烟气，从而保证测试的准确性，而且在原有烟道的基础上添加混流板，并改进进口和出口结构简单，成本低。
弧形板烟道气流出口气流进口出气汇集板混流板机械装置均匀气流混合板对称本实用新型进口和出口向下设置影响气流弧面烟气直板测试改进保证

[实用新型]均匀气流染色机-CN201621068534.9有效
发明人：宋东海;陈丹;张江平;何国炎 -专利权人：浙江华越印染有限公司
申请日： 2016-09-21 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： D06B1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种均匀气流染色机，包括染色室、气流雾化装置和若干气流喷嘴，若干气流喷嘴分为若干组，所述染色室内沿其长度方向布设有若干滑轨，所述滑轨的长度方向沿染色室的宽度方向布置，所述滑轨滑动连接有滑块，每个滑块与一组气流喷嘴连接，每组气流喷嘴的长度均小于染色室的宽度，所述染色室内设有驱动滑块在滑轨内滑动的驱动装置，本实用新型通过若干组气流喷嘴的滑动实现均匀染色。
均匀气流染色

[发明专利]气流分布均匀的刻蚀装置-CN200510130652.8有效
发明人：孙亚林 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2005-12-16 - 公布日： 2006-10-11 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明气流分布均匀的刻蚀装置包括反应室和下电极支撑装置，其中下电极支撑装置由偶数个对称布置的连接套管组成。本发明的积极效果是：由于连接套管是对称布置的，所以气流受到的阻碍也是对称的，于是在晶片上方的气流也具有良好的对称性；另外由于连接套管安装在静电卡盘的下端部位置，气流受阻碍的位置在静电卡盘侧壁与反应室侧壁形成的环形区域内，而在静电卡盘上表面边缘位置处几乎不受到阻碍气流的影响，所以在晶片上方的气流也几乎不会受到影响，这就使得在晶片上方的气流分布非常均匀，这样对等离子体形成均匀场有很好的促成作用，使化学反应速度、刻蚀速率具有较好的均匀性
气流分布均匀刻蚀装置

[实用新型]气流均匀式高效烤烟房-CN201821802017.9有效
发明人：张海波;鲁超;罗强;王德康;蔡正学;崔发凯;鲁家丽;李肇虎;施志鹤;罗翠萍;张胜超;杨汝泽 -专利权人：云南省烟草公司普洱市公司景东县分公司
申请日： 2018-11-02 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： A24B3/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及烤烟领域，具体涉及气流均匀式高效烤烟房。气流均匀式高效烤烟房，包括烤烟房本体（1），烤烟房本体（1）内设置加热装置，所述的烤烟房本体（1）内设置主风管（2）、副风管（3）、分风箱（6）、风机（5），主风管（2）竖向设置于烤烟房本体（1）内中心处本实用新型使烤烟房内各处的气流均匀混合，使烤烟过程中所有区域的温、湿度相对均匀。
主风管烤烟房气流均匀副风管分风箱高效烤烟房风机连通烤烟孔洞本实用新型加热装置烤烟过程竖向设置中心处相等

[实用新型]气流分布均匀型吸附塔-CN202022856800.7有效
发明人：沈斌;徐建荣 -专利权人：江阴市长江气体分离设备有限公司
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C01B21/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种气流分布均匀型吸附塔，包括壳体、设置在壳体顶部的出气管、设置在壳体底部的进气管、设置在壳体内的碳分子筛，所述壳体内由下至上依次设有用于干燥空气的旋流部、分流部、除湿部，所述除湿部位于碳分子筛下方
气流分布均匀吸附

[实用新型]一种鞘层气流均匀供气流道结构-CN201420450286.9有效
发明人：郑高峰;姜佳昕;余兆杰;孙玲玲;赵扬 -专利权人：厦门大学
申请日： 2014-08-11 - 公布日： 2014-12-03 - 主分类号： D01D5/00 文献下载
摘要：一种鞘层气流均匀供气流道结构，涉及静电纺丝的供气装置。设有辅助气体进出气口、分流管道、缓冲气室、辅助气流通道、气流缓冲腔、鞘气气孔阵列、纺丝针头与喷嘴；辅助气体进气口与分流管道连接，各分流管道均布在辅助气体进气口四周，每个分流管道与各一级缓冲气室对接；各一级缓冲气室上分别均匀地设有复数个一级辅助气流通道并连接至二级缓冲气室；二级缓冲气室上分别均匀设有复数个二级辅助气流通道并连接至气流缓冲腔；复数个鞘气气孔阵列均布在气流缓冲腔下方，鞘气气孔阵列连接到辅助气体出气口；气流缓冲腔内设有纺丝针头，纺丝针头的数量与鞘气气孔阵列中气孔的数量一一对应
一种气流均匀结构

[发明专利]促进气流均匀混合的整流模块-CN202010136819.6在审
发明人：王丽娜;赵博;蔡晨晓 -专利权人：海南创实科技有限公司
申请日： 2020-03-02 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： F27D17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种促进气流均匀混合的整流模块，形成有混合整流通道，所述混合整流通道具有从上游至下游的轴向以及垂直于所述轴向的径向；在所述混合整流通道中设有供换热介质在管内流动的管束，在所述管束的上游还设有供管外流体一流入混合整流通道的流体一入口以及供管外流体二流入混合整流通道的流体二导入装置
促进气流均匀混合整流模块

[实用新型]气流磨均匀加剂装置-CN201320448836.9有效
发明人：鲍金胜 -专利权人：浙江鑫盛永磁科技有限公司
申请日： 2013-07-24 - 公布日： 2014-01-08 - 主分类号： B02C23/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及气流磨加剂装置，公开了一种气流磨均匀加剂装置，包括气流磨（1），所述的气流磨（1）下端设置出料管（11），出料管（11）上设有料剂喷头（5）。本实用新型通过在气流磨下端的出料管上设置料剂喷头，使料罐在收集料粉的同时，通过料剂喷头加入料剂，避免了粉料氧化以及粉料与剂混合不匀的缺点，大大缩短加剂后混料的时间，提高了生产效率。
气流磨均匀装置

[实用新型]气流均匀的箱式烤版机-CN202121220353.4有效
发明人：曹玉峰 -专利权人：定州市新华印刷有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气流均匀的箱式烤版机，包括带有箱门的主体，主体内壁的顶部通过轴承铰接有旋转盘；旋转盘的边缘啮合有传动齿轮，传动齿轮固定连接电机；旋转盘上固定连接置线杆，置线杆的另一端固定连接烘烤灯；本实用新型中热气流均匀、版材受热均匀，能对主体内进行及时的散热，提高了版材的质量，也提高了工作的效率。
气流均匀箱式烤版机

[实用新型]一种环形均匀气流装置-CN202120429653.7有效
发明人：李德鹏;张光展;程文娟;徐海涛;单志辉;逄超;耿仁继 -专利权人：青岛金汇源电子有限公司
申请日： 2021-02-27 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： F26B21/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种环形均匀气流装置，包括均流环本体，均流环本体由左半环体和右半环体构成，左半环体和右半环体之间设有环型腔，环型腔包括第一环型腔和第二环型腔，左半环体和右半环体上均匀地安装设置有若干个喷嘴本实用新型能从双侧面提供均匀气流，环状结构气流产生稳定，强大均匀的气流包裹在物体的侧面，可将物体表面的污垢全部清除。
一种环形均匀气流装置

[实用新型]能使气流分布均匀的吸附筒-CN201120072560.X无效
发明人：不公告发明人 -专利权人：杭州正高气体科技有限公司
申请日： 2011-03-18 - 公布日： 2011-10-19 - 主分类号： B01D53/04 文献下载
摘要：能提高吸附剂使用率的能使气流分布均匀的吸附筒，筒体底部所连的一级腔体(2)上连有进、排气接管(1)，一级腔体上面的二级腔体(4)顶部设有孔板(5)，在一级腔体上部设有旋板(3)，该旋板具有周向均布的带有螺旋型倾斜角的叶片(31)，叶片之间具有气流通道(32)。
气流分布均匀吸附

[发明专利]利于均匀进料的气流微粉机-CN201810961826.2在审
发明人：彭捷;黄清东;刘金凤;张翔;向世明;宋立波;杜烨 -专利权人：四川百特芳华医药科技有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： B02C19/06 文献下载
摘要：本发明公开了利于均匀进料的气流微粉机，气流粉碎机壳体的顶部敞口端设有定位柱，定位柱轴向一端伸入壳体内、轴向另一端暴露于壳体外；定位柱上开设有通孔；导料辊轴轴向一端由电机驱动转动、轴向另一端间隙配合插入通孔内
导料辊轴向气流微粉机导向槽沿定位柱轴均匀进料导向槽定位柱进料孔研磨孔壳体通孔等间距分布插入通孔大小相等电机驱动顶部敞口间隙配合气流粉碎物料堵塞研磨粉碎轴线方向机壳体延伸侧壁伸入轴轴转动体内暴露

[发明专利]气流均匀的密集型高架冷库-CN202110901766.7在审
发明人：王文俊;林志鹏;欧建承;董连东;范远见;仝奔;张色;杨野;张帅鹏;周玉 -专利权人：中国电子系统工程第二建设有限公司
申请日： 2021-08-06 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： F25D13/00 文献下载
摘要：本发明提供了气流均匀的密集型高架冷库，其内部气流均匀性好，从而能够确保冷库内的温度均匀性。，冷库主体由上至下依次为制冷夹层、扰流夹层、货架存放区，回风管贯穿制冷夹层、扰流夹层和货架存放区，制冷夹层内安装有制冷风机，制冷夹层和扰流夹层之间设有扰流孔板，扰流夹层和货架存放区之间设有隔板，隔板上均匀地安装有送风机
气流均匀密集型冷库

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