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- [发明专利]微纳米器件光刻加工方法-CN201710570346.9有效
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曹文会;李劲劲;钟源;钟青;王雪深
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中国计量科学研究院
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2017-07-13
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2019-11-26
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G03F7/20
- 一种微纳米器件光刻加工方法,包括:在第一版层模板上制作第一光刻标记;将第一版层模板贴附在待加工微纳米器件的样品上进行曝光显影;在第一版层模板上制作第二光刻标记;第二光刻标记的线段间隔与第一光刻标记的线段相匹配,第一光刻标记的线段间隔与第二光刻标记的线段相匹配;将第二版层模板贴附在待加工微纳米器件的样品上,以使第一光刻标记的线段位于第二光刻标记的线段间隔上,第二光刻标记的线段位于第一光刻标记的线段间隔上;对贴附第二版层模板后的待加工微纳米器件的样品进行曝光显影通过这种方式,有利于光刻标记的寻找,沿着线段观测可以方便地检查整个版面的对准状态,从而减少光刻对准误差。
- 纳米器件光刻加工方法
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