专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电子器材塑胶外壳表面清洗方法-CN201010509338.1无效
  • 刘忠炯 - 刘忠炯
  • 2010-10-14 - 2012-05-09 - B08B7/00
  • 本发明涉及一种电子器材塑胶外壳表面清洗方法,先将常温下或加热后为气态的气体制备成固态介质,接着以高速气流朝向固态介质喷射而形成数个固态介质粒,再以空气载体(Carrier)方式利用高速气流携带固态介质粒朝向塑胶外壳表面高速撞击,利用固态介质粒汽化会大量吸热而将塑胶外壳表面的油渍、杂质和污染物予以低温脆化,配合固态介质粒的高速撞击和高速气流,可以将塑胶外壳表面的油渍、杂质和污染物予以破坏去除,达到有效清洁的目的。
  • 电子器材塑胶外壳表面清洗方法
  • [发明专利]一种静电吸附盘清洁结构-CN202310353691.2在审
  • 胡敏捷;王贤武 - 合肥英仕博精密装备有限公司
  • 2023-04-05 - 2023-06-23 - B08B1/04
  • 然后启动第一电机和第二电机,由第二电机带动整个清洁罩围绕静电吸附盘进行旋转,同时第一电机带动螺纹杆旋转,使清扫刷对静电吸附盘表面进行清扫,随后启动负压风机,负压风机通过吸尘管将静电吸附盘表面清扫下来的杂质进行吸除,并通过收集袋对杂质进行收取,从而可实现清静电吸附盘表面的清洁作业,减少了人力成本的投入,防止静电吸附盘表面残留的杂质对晶盘的表面造成损伤。
  • 一种静电吸附清洁结构
  • [发明专利]一种J-TEXT托卡马克装置杂质浓度测量系统-CN201611069713.9有效
  • 陈忠勇;高海龙;徐涛 - 华中科技大学
  • 2016-11-29 - 2018-10-09 - G01T1/36
  • 本发明公开了一种J‑TEXT托卡马克装置杂质浓度测量系统,包括X射线光路模块,X射线探测模块,脉冲整形放大模块以及MCA数据处理模块;托卡马克装置运行破裂时,通过注入杂质气体抑制高能高速逃逸电子,杂质会发生辐射,通过测量杂质辐射强度来标定杂质浓度;由于辐射能量脉冲信号微弱,通过高灵敏度的探测器来探测脉冲信号并通过高增益的脉冲整形放大模块对其进行整形放大;输出幅值放大了的电压脉冲信号;MCA数据处理模块根据采集到的电压脉冲信号进行能谱分析;由于不同杂质的辐射脉冲峰值不同,根据能谱来确定各种杂质的浓度。
  • 一种text马克装置杂质粒子浓度测量系统

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