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[发明专利]一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备-CN202210351933.X在审
发明人：冯京;刘鹏;王志冲;苌川川;袁广才;董学 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-04-02 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备。方法包括：根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量；根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域；根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量；基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描，在扫描至各曝光区域的情况下，调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量；其中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。本公开的技术方案，可以实现一次扫描过程中的多剂量曝光，节约了曝光时间。
一种扫描曝光方法装置设备

[发明专利]一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法-CN202210214784.2在审
发明人：刘玉倩;张炳寅;张利云;高繁星 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供了一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法，该方法包括：控制快门打开；接收能量传感器采集到的能量值，基于能量值确定累计曝光剂量值；确定累计曝光剂量值是否不小于目标剂量值；若累计曝光剂量值不小于目标剂量值，则控制快门开始关闭；将快门完全关闭后的抖动延时结束时刻对应的累计曝光剂量值作为实际累计曝光剂量值；基于实际累计曝光剂量值，确定曝光剂量误差值；确定曝光剂量误差值是否满足要求；若曝光剂量误差值不满足要求，则更新等效剂量值，返回执行第一步；若曝光剂量误差值满足要求，将等效剂量值应用到曝光系统中。通过一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法，解决了曝光剂量控制精度低的问题。
一种基于曝光剂量控制系统控制方法

[发明专利]晶圆曝光修正方法及系统与存储介质-CN201911194288.X有效
发明人：张君君 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种晶圆曝光修正方法及系统与存储介质。一种晶圆曝光修正方法，包括：获取曝光剂量分布图，曝光剂量分布图用于表征每一曝光单元与初始曝光剂量对应的曝光剂量修正系数；曝光处理步骤，基于曝光剂量修正系数对初始曝光剂量进行修正，获取修正曝光剂量，采用修正曝光剂量对待处理的晶圆进行曝光处理，获取处理后的晶圆中多个曝光单元的修正特征尺寸；更新步骤，基于曝光剂量修正系数与修正特征尺寸之间的对应关系，计算每一修正特征尺寸对应的曝光剂量修正系数，根据计算得到的多个曝光剂量修正系数更新曝光剂量分布图；重复进行曝光处理步骤以及更新步骤，持续更新曝光剂量分布图。
曝光修正方法系统存储介质

[发明专利]一种背面曝光工艺优化方法-CN201410723327.1有效
发明人：王健 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-12-04 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种背面曝光工艺优化方法，其特征在于，包括步骤一、建立光刻仿真工艺环境；步骤二，设定不同的正面曝光剂量和u因子，得到不同的正面曝光剂量和背面曝光剂量组合下的曝光图形，其中u因子为正面曝光剂量和背面剂量之比；步骤三，确定目标CD的范围，得出正面曝光剂量与背面曝光剂量的范围；步骤四，在得出正面曝光剂量与背面曝光剂量的范围内均匀的选取采样点，组成不同的正面曝光剂量和背面曝光剂量的组合；步骤五，仿真每一个组合在不同焦面位置下的CD结果，得到CD随焦面位置变化的曲线并做拟合，计算可用焦深；步骤六，选取最优的正面曝光剂量以及u因子。
一种背面曝光工艺优化方法

[发明专利]光刻机剂量均匀性的测量方法-CN201911039601.2有效
发明人：刘泽华;陈震东 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-10-29 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机剂量均匀性的测试方法。该测试方法包括：上载待曝光掩模版，待曝光掩模版包括监控标记；采用待曝光掩模版进行焦面‑剂量矩阵曝光，获取不同焦距和曝光剂量下监控标记的套刻误差；确定焦距、曝光剂量与套刻误差之间的关系矩阵；根据关系矩阵确定曝光剂量作用区间；采用曝光剂量作用区间内的任意曝光剂量对待曝光掩模版进行焦距矩阵曝光；获取监控标记的实际套刻误差；根据关系矩阵以及实际套刻误差确定曝光场内各点的实际曝光剂量，以得到光刻机的剂量均匀性。本发明的技术方案可适应各种工况需求，也可排除焦面与像差的干扰，从而可准确测量光刻机的曝光剂量和剂量均匀性。
光刻剂量均匀测量方法

[发明专利]一种曝光方法-CN200910045701.6无效
发明人：李承赫 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-01-23 - 公布日： 2010-07-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光方法，所述曝光方法包括：提供布局图；利用布局图的图形信息生成第一曝光条件和第二曝光条件；针对所述第一曝光条件形成第一模型，针对所述第二曝光条件形成第二模型；对第一模型和第二模型进行曝光实验，获得第一曝光剂量和第二曝光剂量；根据第一模型和第二模型生成与前述布局图相对应的模型，并根据所述生成的模型和第一曝光剂量生成第三曝光剂量，根据所述生成的模型和第二曝光剂量生成第四曝光剂量；利用所述与前述布局图相对应的模型制备得到掩膜版；对待曝光的晶圆按照第一曝光条件和第三曝光剂量进行曝光；对所述曝光后的晶圆按第二曝光条件和第四曝光剂量进行曝光。所述曝光方法降低了成本费用并且提高了生产效率。
一种曝光方法

[发明专利]平板探测器的曝光剂量的确定方法、装置及设备-CN201510918066.3有效
发明人：张连成;苏远 -专利权人：沈阳东软医疗系统有限公司
申请日： 2015-12-11 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本申请公开了平板探测器的曝光剂量的确定方法、装置及设备，所述方法包括：获取平板探测器的理论曝光剂量，所述理论曝光剂量为所述平板探测器的线性拟合函数中因变量为预设的目标图像灰度时对应的自变量值，所述线性拟合函数为图像灰度随曝光剂量呈线性变化的拟合函数；获取所述平板探测器根据所述理论曝光剂量进行曝光所得的第一图像灰度；若所述第一图像灰度与所述目标图像灰度之间的误差在预设的误差范围内，则确定所述理论曝光剂量为匹配所述目标图像灰度的目标曝光剂量。本申请实施例可以有效降低曝光次数，快速获得与目标图像灰度匹配的目标曝光剂量，提高平板探测器的曝光剂量的确定效率，进而提高平板探测器的校正效率。
平板探测器曝光剂量确定方法装置设备

[发明专利]一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统-CN200810039958.6有效
发明人：江潮;罗闻;徐文 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-07-01 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统。本发明所提供的控制光刻曝光剂量的方法是利用多个脉冲的平均波动性低于曝光精度要求的特性，通过选择曝光的激光脉冲的个数来控制光刻曝光剂量精度，并进一步决定衰减率，最后进行曝光。使用该方法的控制光刻曝光剂量的系统主要包括激光器、衰减器、控制器以及能量传感器，系统具有结构相对简单的优点，并且结合其控制光刻曝光剂量的方法使用能大大提高光刻曝光剂量精度。
一种控制光刻曝光剂量方法及其系统

[发明专利]AEC模式下曝光截止剂量校正方法及装置-CN201510486618.8有效
发明人：夏晓晶;代蓓 -专利权人：上海联影医疗科技有限公司
申请日： 2015-08-10 - 公布日： 2017-11-28 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种AEC模式下曝光截止剂量校正方法，本方法统计特定年龄区间的待检部位在非AEC模式下的曝光截止剂量并计算曝光截止剂量的均值，在均值满足预设条件时，根据待检者的年龄等信息确定待检者的身体厚度及对应的AEC模式下曝光截止剂量，或者以所述均值作为对应的AEC模式下曝光截止剂量。本发明还公开了一种AEC模式下曝光截止剂量校正装置和X射线摄影系统。本发明的AEC模式下曝光截至剂量的校正方法可以得到更符合实际临床检查的曝光截止剂量，提高检查结果的准确性，使得自动曝光控制更加符合实际成像需求，在最低剂量条件下达到最优图像质量。
aec 模式曝光截止剂量校正方法装置

[发明专利]提高光刻机可用焦深的方法-CN201410367371.3有效
发明人：王健;白昂力 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-07-29 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本方法通过配置仿真工艺环境，确定符合误差要求的正面曝光剂量范围以及背面曝光剂量范围，然后对所述正面曝光剂量和背面曝光剂量的范围进行优化，获得正面曝光剂量和背面曝光剂量的最佳组合。
提高光刻可用焦深方法

[发明专利]光刻机像质检测技术中曝光剂量范围的确定方法-CN200410067239.7有效
发明人：张冬青;王向朝;施伟杰 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2004-10-18 - 公布日： 2005-03-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种省时、有效的确定FOCAL技术曝光剂量范围的方法。基于FOCAL技术的基本原理，最佳曝光剂量下的精细结构线宽与离焦量之间需满足一定的变化规律。以最佳曝光剂量下的精细结构线宽与离焦量的变化规律，作为确定曝光剂量范围的限定条件，通过分析不同曝光剂量下的精细结构线宽与离焦量的关系曲线，可将不满足此限定条件的曲线所对应曝光剂量排除在FOCAL曝光剂量范围之外，从而实现FOCAL曝光剂量范围快速、有效的确定。
光刻质检技术曝光剂量范围确定方法

[发明专利]AEC模式下曝光截止剂量校正方法及装置-CN201710569966.0有效
发明人：夏晓晶;代蓓 -专利权人：上海联影医疗科技股份有限公司
申请日： 2015-08-10 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种AEC模式下曝光截止剂量校正方法，本方法统计特定年龄区间的待检部位在非AEC模式下的曝光截止剂量并计算曝光截止剂量的均值，在均值满足预设条件时，以所述均值作为对应的AEC模式下曝光截止剂量本发明还公开了一种AEC模式下曝光截止剂量校正装置和X射线摄影系统。本发明的AEC模式下曝光截至剂量的校正方法可以得到更符合实际临床检查的曝光截止剂量，提高检查结果的准确性，使得自动曝光控制更加符合实际成像需求，在最低剂量条件下达到最优图像质量。
aec 模式曝光截止剂量校正方法装置

[发明专利]光刻机曝光剂量控制方法-CN200910199446.0有效
发明人：张俊;张志钢;罗闻 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-11-26 - 公布日： 2011-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的光刻机曝光剂量控制方法包括以下步骤：步骤1，向光刻机的曝光剂量控制系统输入参数和剂量控制参数的约束条件；所述参数包括剂量系统性能偏好系数L_DA、客户成本偏好系数L_COO、硬件参数和曝光剂量需求Dose_req；步骤2，光刻机的曝光剂量控制系统对步骤1输入的上述参数和上述剂量控制参数的约束条件进行分析，选择偏好数学模型进行运算，得到剂量控制参数；步骤3，光刻机的曝光剂量控制系统输出剂量控制参数，控制光刻机进行曝光。本发明的光刻机曝光剂量控制方法灵活性强，测试过程中，操作简单、直观。
光刻曝光剂量控制方法

[发明专利]光刻装置、用于提供设置点数据的装置、设备制造方法、用于提供设置点数据的方法-CN201280066555.5有效
发明人： E·鲁波斯特拉;M·霍克斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-12-13 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种装置或者方法，用于计算多个辐射束在多个不同时间施加的目标剂量值以便在目标上形成希望的剂量图案，每个目标剂量值定义目标剂量值被施加到的辐射束所形成的光斑曝光的剂量分布，其中在光斑曝光中的每个光斑曝光的剂量分布中的特性点的标称位置落在光斑曝光栅格的点处，并且通过以下操作以光斑曝光栅格的分辨率提供目标剂量值：计算在更低分辨率栅格上的栅格点处的目标剂量值，更低分辨率栅格具有比光斑曝光栅格更低的分辨率，并且对于计算的目标剂量值中的每个目标剂量值，推导在光斑曝光栅格中的多点中的每点处的目标剂量值
光刻装置用于提供设置数据设备制造方法

[发明专利]数字放射成像曝光剂量的评价方法-CN201310440199.5在审
发明人：郭朋;李运祥 -专利权人：深圳市蓝韵实业有限公司
申请日： 2013-09-25 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： G03B7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种数字放射成像曝光剂量的评价方法，其包括步骤：采集不同曝光电流下的多幅曝光图像，并记录每幅曝光图像对应的曝光剂量Dose_i，通过线性拟合公式为Dose_i=Slop*Mean_i+Offset确定每幅曝光图像的灰度均值Mean_i与对应的曝光剂量Dose_i进行线性拟合时的斜率Slop和偏移量Offset；在待评价的曝光图像中提取感兴趣区域并计算感兴趣区域的感兴趣值Value，利用公式EI=Slop*Value+Offset计算曝光指数EI；通过计算曝光偏差指数DI，EI_T为预设的目标曝光指数，曝光偏差指数DI为正时表示曝光剂量偏高，曝光偏差指数DI为负时表示曝光剂量偏低本发明通过计算曝光偏差指数DI来对曝光剂量进行客观的量化评估，从而方便后续调整曝光参数，获得曝光剂量适当的图像。
数字放射成像曝光剂量评价方法

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