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[发明专利]基于无掩模光刻的扇出封装系统、方法及重布线方法-CN202110162608.4有效
发明人：刘强;陈新;汤晖;卢振威;吴诗锐;詹子凡;崔成强;高健 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：基于无掩模光刻的扇出封装系统、方法及重布线方法，无掩模光刻方法，其基于数字微镜的无掩模光刻技术，通过改变输入DMD中的CAD位图来改变光刻线路来配合偏移的芯片进行光刻，它不需要直接使用掩模版就能实现在芯片上进行加工，削减了封装成本；布线方法通过无掩模光刻方法在芯片表面形成多层导电层；其方法通过布线方法能实现无掩模的芯片扇出封装；其系统包括：激光发生器、工业相机、数据处理装置、光刻光源和数字微镜阵列DMD。同时，基于数据处理装置视觉的算法处理，本无掩模光刻方法根据偏移量与角度生成一个新的掩模图像，即该方法可以解决扇出型封装中的芯片偏移问题，极大地提高了封装的灵活性。
基于无掩模光刻封装系统方法布线

[发明专利]用于无掩模封装的方法-CN201210328136.6有效
发明人： W·N·斯特林;I·洪 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2012-09-06 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供用于使用无掩模技术封装设置于基板上的OLED结构的方法和设备。与传统的硬掩模图案化技术相比，无掩模技术可有效地提供简单并且低成本的OLED封装方法。无掩模技术可在成本低并且不存在使用传统掩模时存在的对准问题的情况下，在OLED结构上方利用可固化封装材料。
用于无掩模封装方法

[发明专利]一种提高数字无掩模光刻分辨力的方法-CN201110286667.9无效
发明人：罗宁宁;高益庆;张志敏;吴华明 -专利权人：南昌航空大学
申请日： 2011-09-24 - 公布日： 2012-01-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高数字无掩模光刻分辨力的方法，涉及无掩模光刻技术领域。它是先将原始空间频率较高的灰度掩模分解成m幅与原始灰度掩模大小相等、空间频率稍低的灰度掩模，再依次将每幅降频后的灰度掩模分解成n幅大小相等的低频二值掩模。原始空间频率较高的灰度掩模共分解成m n幅二值掩模，利用SLM动态控制掩模的特性，将这m n幅二值掩模沿垂直于掩模所在平面的方向顺序对准叠加曝光，每幅掩模的曝光时间ti遵循一定的变化规律。本发明提出的方法避免了数字灰度掩模中相邻像素因灰阶不同而构成高频光栅的情况，从而降低精缩透镜组低通滤波特性对曝光的影响，较好地改善了光刻胶上曝光图形的边缘锐度，提高了数字无掩模光刻的分辨力。
一种提高数字无掩模光刻分辨力方法

[发明专利]掩模建模方法-CN201710979135.0有效
发明人：赖建任;周欣;彭丹平 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-10-19 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本公开提供一种掩模建模方法，包括：接收一掩模布局，掩模布局包括一非曼哈顿图案，其中非曼哈顿图案包括二或多个曲线边缘；将一无交互作用的掩模模型应用于掩模布局；将一边缘交互作用的模型应用于掩模布局的至少非曼哈顿图案，边缘交互作用的模型描述由彼此交互作用的曲线边缘的多个组合所引起的影响；将一薄掩模模型应用于掩模布局；以及基于无交互作用的掩模模型的应用、边缘交互作用的模型的应用以及薄掩模模型的应用来决定一近场。
建模方法

[发明专利]用于沉积薄膜的掩模框组件-CN201910856547.4在审
发明人：李相信;李胤抒;李锺大;金相勳;郑栋燮 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-09-11 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及掩模框组件。该用于沉积薄膜的掩模框组件包括：掩模框；至少一个掩模片，位于掩模框上，至少一个掩模片包括图案孔和无孔图案部分，图案孔包括位于掩模片的沉积区域中的第一图案孔以及位于掩模片的、在沉积区域之间的虚设区域中的第二图案孔，第一图案孔和第二图案孔在第一方向上交替，无孔图案部分位于第一图案孔与第二图案孔之间的边界区域中；以及第一支承杆，在第一方向上间隔开并且遮挡第二图案孔。无孔图案部分不包括图案孔，并且呈位于沉积区域中的一个沉积区域的至少一个边缘上的带形状的形式。
用于沉积薄膜掩模框组件

[发明专利]基于无掩模的平板印刷方法-CN201980101957.6在审
发明人：李世贤;邱鼎玮;李国华;陈正方 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-10-09 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文的多个实施方式涉及使用基于无掩模平板印刷术来形成层的方法。在这些实施方式中，该方法实现了剂量变化的阶梯，将几何形状划分为覆盖部分。覆盖部分可包括各部分的不同剂量以实现控制渐缩部。渐缩部可以通过将几何“掩模数据”操作成由像素融合(PB)曝光技术控制的不同剂量的覆盖部分来实现。为了执行本文所述的方法，使用了无掩模平板印刷工具。无掩模平板印刷工具包括执行基于软件的“掩模数据”操作的控制器。由于该方法是无掩模地由软件执行而无须额外的掩模成本和制造时间，因此有更大的弹性来调整多色调/灰色调掩模特征结构的渐缩部角度和/或光刻胶厚度残留，相对使用掩模的传统平板印刷方法更具优势。
基于无掩模平板印刷方法

[发明专利]无掩模光刻方法和无掩模光刻设备-CN202110645560.2在审
发明人：陈晓西;徐律涵;陈松泽;叶茂 -专利权人：电子科技大学
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻技术领域，尤其涉及一种无掩模光刻方法和无掩模光刻设备，所述方法包括以下步骤：S1：获取目标物的待曝光区域；S2：根据所述待曝光区域产生焦点控制信号，所述焦点控制信号用于控制曝光光束聚焦的焦点的移动轨迹本发明的无掩模光刻方法和设备不需要使用掩模版，因此节约了制作掩模版的时间和成本。
无掩模光刻方法设备

[发明专利]具有低位错密度的氮化镓族晶体基底部件及其用途和制法-CN98108246.7无效
发明人：只友一行;宫下启二;冈川広明;平松和政;大内洋一郎;泽木宣彦;矢桥胜典;柴田巧 -专利权人：三菱电线工业株式会社
申请日： 1998-03-25 - 公布日： 2004-08-18 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：一种GaN族晶体基底部件，它包括基底衬底，部分覆盖所述基底衬底的表面的以得到掩模区的掩模层，在其上生长覆盖掩模层的GaN族晶体层，GaN族晶体层的一部分与基底衬底的无掩模区直接接触，它在半导体元件的用途本发明的制造方法能够在GaN族晶体层中制造位于掩模区或无掩模区上面的具有低位错密度的部分。
具有低位密度氮化晶体基底部件及其用途制法

[发明专利]一种实现交互式图像分割的方法、装置及终端-CN201710004958.1有效
发明人：梁舟 -专利权人：珠海大横琴科技发展有限公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： G06T7/11 文献下载
摘要：所述方法包括：将原始图像上的勾勒轨迹进行封闭处理后形成标记区，生成图像分割算法的输入掩模图：将标记区中的像素作为掩模图中的前景点，将标记区外的像素作为掩模图中的背景点；获取包含目标对象深度信息的深度图，根据深度图和掩模图确定所述掩模图上各个像素的分割参数，构建无向图并将掩模图中的每一个像素的分割参数映射到无向图中，根据最小割‑最大流算法对所述无向图进行处理，获得精细分割后的掩模图，从原始图像中分割出所述精细分割后的掩模图中前景点对应的图像
一种实现交互式图像分割方法装置终端

[发明专利]一种实现交互式图像分割的方法、装置及终端-CN201710005007.6有效
发明人：梁舟 -专利权人：努比亚技术有限公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： G06T7/11 文献下载
摘要：所述方法包括：将原始图像上的涂抹轨迹或勾勒轨迹的邻接区域确定为标记区，生成图像分割算法的输入掩模图：将标记区中的像素作为掩模图中的前景点，将标记区外的像素作为掩模图中的背景点；获取包含目标对象深度信息的深度图，根据深度图和掩模图确定所述掩模图上各个像素的分割参数，构建无向图并将掩模图中的每一个像素的分割参数映射到无向图中，根据最小割‑最大流算法对所述无向图进行处理，获得精细分割后的掩模图，从原始图像中分割出所述精细分割后的掩模图中前景点对应的图像
一种实现交互式图像分割方法装置终端

[发明专利]一种实现交互式图像分割的方法、装置及终端-CN201710004957.7有效
发明人：梁舟 -专利权人：努比亚技术有限公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： G06T7/11 文献下载
摘要：所述方法包括：将原始图像上的涂抹轨迹作为骨架生长成标记区，生成图像分割算法的输入掩模图：将标记区中的像素作为掩模图中的前景点，将标记区外的像素作为掩模图中的背景点；获取包含目标对象深度信息的深度图，根据深度图和掩模图确定所述掩模图上各个像素的分割参数，构建无向图并将掩模图中的每一个像素的分割参数映射到无向图中，根据最小割‑最大流算法对所述无向图进行处理，获得精细分割后的掩模图，从原始图像中分割出所述精细分割后的掩模图中前景点对应的图像。
一种实现交互式图像分割方法装置终端

[发明专利]一种实现交互式图像分割的方法、装置及终端-CN201710005332.2有效
发明人：梁舟 -专利权人：努比亚技术有限公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： G06T7/11 文献下载
摘要：所述方法包括：将涂抹轨迹作为骨架生长成标记区，确定包含标记区的感兴趣区域，生成图像分割算法的输入掩模图：将标记区中像素作为掩模图中前景点，将感兴趣区域中标记区外的像素作为掩模图中背景点；获取包含目标对象深度信息的深度图，根据深度图和掩模图确定所述掩模图上各个像素的分割参数，构建无向图并将掩模图中的每一个像素的分割参数映射到无向图中，根据最小割‑最大流算法对所述无向图进行处理，获得精细分割后的掩模图，从原始图像中分割出精细分割后的掩模图中前景点对应的图像
一种实现交互式图像分割方法装置终端

[发明专利]一种实现交互式图像分割的方法、装置及终端-CN201710005333.7有效
发明人：梁舟 -专利权人：努比亚技术有限公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： G06T7/12 文献下载
摘要：所述方法包括：将勾勒轨迹进行封闭处理后形成标记区，确定包含标记区的感兴趣区域，生成图像分割算法的输入掩模图：将标记区中像素作为掩模图中前景点，将感兴趣区域中标记区外的像素作为掩模图中背景点；获取包含目标对象深度信息的深度图，根据深度图和掩模图确定所述掩模图上各个像素的分割参数，构建无向图并将掩模图中的每一个像素的分割参数映射到无向图中，根据最小割‑最大流算法对所述无向图进行处理，获得精细分割后的掩模图，从原始图像中分割出精细分割后的掩模图中前景点对应的图像
一种实现交互式图像分割方法装置终端

[发明专利]一种实现交互式图像分割的方法、装置及终端-CN201710005314.4有效
发明人：梁舟 -专利权人：努比亚技术有限公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： G06T7/194 文献下载
摘要：所述方法包括：获取彩色图、深度图和对所述彩色图标记了前景点和背景点的掩模图；根据所述彩色图和掩模图确定所述掩模图上各个像素的第一分割参数，根据所述深度图和掩模图确定所述掩模图上各个像素的第二分割参数，对两种分割参数进行融合；构建无向图，将掩模图中的每一个像素的融合后的分割参数映射到所述无向图中，根据最小割‑最大流算法对所述无向图进行处理，获得精细分割后的掩模图；从彩色图中分割出精细分割后的掩模图中前景点对应的图像。
一种实现交互式图像分割方法装置终端

[发明专利]光学无掩模-CN201980050901.2在审
发明人： P·W·H·德加格 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-07-03 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法包括用具有形成第一灰度图案的光幅度的光照射反射镜阵列，反射镜阵列包括多个反射镜，并且用光的相同幅度照射至少两个反射镜。该方法还包括将具有光幅度的光成像到衬底上以在衬底处产生不同于第一灰度图案的第二灰度图案。
光学无掩模

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