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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基座旋转装置及反应腔室-CN201910272001.4在审
发明人：许璐;张凇铭 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2019-04-04 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： F16H57/00 文献下载
摘要：本发明提供的基座旋转装置和反应腔室，包括旋转轴、固定基座和密封结构，其中，旋转轴中具有进气通道，固定基座具有空腔，固定基座的一侧设置有开口，旋转轴自开口伸入固定基座中，固定基座上还设置有通孔，通孔用于将向进气通道输送气体，密封结构设置在固定基座中，且套设在旋转轴上，并且，密封结构为磁流体密封结构，磁流体密封结构用于密封通孔和进气通道的连接处。本发明摒弃现有技术中油液密封，而采用磁流体密封，避免旋转轴与密封结构之间产生滑动摩擦，进而避免长期摩擦导致的旋转轴磨损，另外，由于在磁流体密封结构中不具有油液，从而避免因油液泄漏造成的腔室污染，保证了工艺环境的洁净度
基座旋转装置反应

[发明专利]内部腔室旋转马达、可供选择的旋转-CN201710619015.X有效
发明人：迈克尔·P·卡拉津 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-05-21 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明的实施方式大体关于一种RTP腔室内的旋转装置。该旋转装置包括圆柱形内座圈、多个止推轴承及多个径向轴承。在操作期间，这些轴承产生气垫，该气垫防止旋转部分接触静止部分。
内部旋转马达选择

[发明专利]内部腔室旋转马达、可供选择的旋转-CN201480034079.8有效
发明人：迈克尔·P·卡拉津 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-05-21 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： H01L21/324 文献下载
摘要：本发明的实施方式大体关于一种RTP腔室内的旋转装置。该旋转装置包括圆柱形内座圈、多个止推轴承及多个径向轴承。在操作期间，这些轴承产生气垫，该气垫防止旋转部分接触静止部分。
内部旋转马达选择

[发明专利]多腔室旋转活塞致动器-CN202210228522.1在审
发明人： K·E·沙鲁迪;N·波利 -专利权人：伍德沃德有限公司
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： F15B15/12 文献下载
摘要：本文件的主题尤其可体现于流体致动器，包括限定第一腔室的壳体、第一活塞组件和第二活塞组件，第一腔室包括第一腔体和第一敞开端，第一活塞组件包括管状第一活塞，管状第一活塞限定第二腔室，第二腔室包括第二腔体和第二敞开端，管状第一活塞设置在所述第一壳体内，用于通过第一敞开端在第一腔室中往复运动，其中，第一密封件、第一腔体和第一活塞限定第一压力腔室，第二活塞组件包括第二活塞，第二活塞设置在所述第一活塞组件中，用于通过第二敞开端在第二腔室中往复运动，其中，第二密封件、第二腔体和第二活塞限定第二压力腔室，且第二活塞的第一部分接触第一端部执行器。
多腔室旋转活塞致动器

[发明专利]多腔室旋转活塞致动器-CN201780062254.8有效
发明人： K·E·沙鲁迪;N·波利 -专利权人：伍德沃德有限公司
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： F15B15/12 文献下载
摘要：本文件的主题尤其可体现于流体致动器，包括限定第一腔室的壳体、第一活塞组件和第二活塞组件，第一腔室包括第一腔体和第一敞开端，第一活塞组件包括管状第一活塞，管状第一活塞限定第二腔室，第二腔室包括第二腔体和第二敞开端，管状第一活塞设置在所述第一壳体内，用于通过第一敞开端在第一腔室中往复运动，其中，第一密封件、第一腔体和第一活塞限定第一压力腔室，第二活塞组件包括第二活塞，第二活塞设置在所述第一活塞组件中，用于通过第二敞开端在第二腔室中往复运动，其中，第二密封件、第二腔体和第二活塞限定第二压力腔室，且第二活塞的第一部分接触第一端部执行器。
多腔室旋转活塞致动器

[发明专利]用于旋转沉积腔室的顶灯模块-CN201580053168.1有效
发明人： J·约德伏斯基;R·T·楚杰洛;K·格里芬;G·K·邝;K·贝拉;夏立群;M·斯里拉姆 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-01 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种用于在基板处理腔室中使用的加热模块。加热模块具有外壳，外壳中具有加热源。加热模块可以是设置于基座组件上方的气体分布组件的一部分，以直接加热基座的顶表面和晶片。加热模块可具有恒定的或可变的功率输出。描述了使用加热模块处理晶片的处理腔室及方法。
用于旋转沉积顶灯模块

[实用新型]一种生物质用多腔破碎器-CN201621003018.8有效
发明人：叶丽萍;李曦荣 -专利权人：中山益思节能环保科技有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B02C21/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及生物质破碎设备技术领域，具体涉及一种生物质用多腔破碎器，它包括物料存储室，物料存储室上设置有振动式混料室，振动式混料室上设置有破碎室；所述破碎室内分隔成前左腔室、前右腔室、后左腔室和后右腔室；所述前左腔室、前右腔室、后左腔室和后右腔室的顶面上分别设置有电机A、电机B、电机C和电机D；所述电机A、电机B、电机C和电机D分别与旋转杆A、旋转杆B、旋转杆C、旋转杆D相连；所述旋转杆A、旋转杆B、旋转杆C、旋转杆D分别设置在前左腔室、前右腔室、后左腔室和后右腔室内；它采用针对不同类别的生物质原料进行分别破碎处理；它具有结构简单，成本低，缩短了初加工处理时间，极大地提高了工作效率。
一种生物质用多腔破碎

[实用新型]一种旋转收料装置-CN202120111885.8有效
发明人：朱忠华 -专利权人：福立旺精密机电（中国）股份有限公司
申请日： 2021-01-15 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B65G47/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种旋转收料装置，包括旋转盘，所述旋转盘上方设置有隔离板，所述隔离板不随旋转盘转动，所述隔离板将旋转盘分隔为落料腔室和存料腔室，所述落料腔室和存料腔室相互连通，所述落料腔室用于接收物料，接收的物料随着旋转盘的转动从落料腔室进入到存料腔室中。本实用新型采用隔离板将旋转盘分隔为落料腔室和存料腔室，落料腔室用于接收物料，接收的物料随着旋转盘的转动从落料腔室进入到存料腔室中，这样从机床新生产的物料先落入落料腔室的隔离板上，不会直接落入到存料腔室与其它的物料碰撞
一种旋转装置

[发明专利]腔室的内衬和腔室-CN201710357147.X有效
发明人：张军 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-05-19 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明属于半导体加工技术领域，具体涉及一种腔室的内衬和腔室。该腔室的内衬包括抽气内衬和均流内衬，所述均流内衬环绕设置于所述抽气内衬的内侧，所述均流内衬至少包括本体和隔离部，所述隔离部上开设有至少两个孔洞，以将所述均流内衬与所述抽气内衬之间的间隙隔离为连通的进气区域与出气区域；所述腔室内的气体经所述进气区域进入所述孔洞进行均流后，进一步通过所述抽气区域连通的排气口排出至所述抽气内衬的外部。该腔室的内衬，实现了对出气口与进气口之间的空间区域的划分，实现了工艺气体及副产物经过匀流后被真空抽走，实现了气体分布的均匀性。
内衬

[发明专利]腔室组件及反应腔室-CN201810457537.9有效
发明人：师帅涛;丁安邦;陈鹏;史小平;李春雷;兰云峰 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种腔室组件及反应腔室，该腔室组件包括：电极板，其与射频源电连接，且在电极板上设置有进气口；匀流部件，其采用绝缘材料制作，且与电极板共同构成匀流空间，进气口与匀流空间连通，并且在匀流部件上设置有多个出气口，出气口分别与匀流空间和反应腔室连通。本发明提供的腔室组件，其避免产生空心阴极放电，从而可以提高等离子体的稳定性。
组件反应

[发明专利]腔室组件及反应腔室-CN201811511088.8有效
发明人：王帅伟;兰云峰;王勇飞 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-12-11 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种腔室组件，包括腔体、腔室盖，其特征在于，还包括铰接模块，所述铰接模块设置在所述腔体与所述腔室盖之间，用于实现所述腔室盖的开合，且在所述铰接模块内设有气体通路，所述气体通路用于将外部气源提供的工艺气体经所述腔体和所述腔室盖通入所述腔体的内部即使腔室盖处于开启状态，气体通路仍然处于封闭状态，而不会暴露在大气环境中，从而避免了在开启腔室盖，以取放衬底或者维护腔室时，因人为操作导致的颗粒掉落进气体通路，进而可以保证腔室的洁净度，降低薄膜的颗粒缺陷
组件反应

[发明专利]半导体处理系统中的外部基板旋转-CN202110890839.7在审
发明人： T·A·恩古耶;A·K·班塞尔;J·C·罗查-阿尔瓦瑞兹 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-04-20 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：公开了一种半导体处理系统中的外部基板旋转。本文公开一种用于处理半导体的方法和设备。在一个实施例中，公开了一种用于半导体处理的处理系统。处理腔室包括两个传送腔室、处理腔室和旋转模块。处理腔室耦接至传送腔室。旋转模块定位在传送腔室之间。旋转模块配置成旋转基板。传送腔室配置成在处理腔室与传送腔室之间传送基板。在另一实施例中，本文公开了一种用于在装置上处理基板的方法。
半导体处理系统中的外部旋转

[发明专利]半导体处理系统中的外部基板旋转-CN201610248104.3有效
发明人： T·A·恩古耶;A·K·班塞尔;J·C·罗查-阿尔瓦瑞兹 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-04-20 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了一种半导体处理系统中的外部基板旋转。本文公开一种用于处理半导体的方法和设备。在一个实施例中，公开了一种用于半导体处理的处理系统。处理腔室包括两个传送腔室、处理腔室和旋转模块。处理腔室耦接至传送腔室。旋转模块定位在传送腔室之间。旋转模块配置成旋转基板。传送腔室配置成在处理腔室与传送腔室之间传送基板。在另一实施例中，本文公开了一种用于在装置上处理基板的方法。
半导体处理系统中的外部旋转

[实用新型]用于半导体处理的处理系统-CN201620335567.9有效
发明人： T·A·恩古耶;A·K·班塞尔;J·C·罗查-阿尔瓦瑞兹 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-04-20 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：公开了一种半导体处理系统中的外部基板旋转。本文公开一种用于处理半导体的设备。在一个实施例中，公开了一种用于半导体处理的处理系统。处理腔室包括两个传送腔室、处理腔室和旋转模块。处理腔室耦接至传送腔室。旋转模块定位在传送腔室之间。旋转模块配置成旋转基板。传送腔室配置成在处理腔室与传送腔室之间传送基板。在另一实施例中，本文公开了一种用于在装置上处理基板的方法。
用于半导体处理系统

[发明专利]腔室-CN201611061883.2在审
发明人：杨敬山;郭浩 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2016-11-28 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明提供一种腔室，包括用于承载被加工工件的承载件，以及设置在其上方的加热装置，该加热装置用于朝向被加工工件辐射热量，加热装置包括：安装板，设置在承载件的上方；热源，设置在安装板的下方，且沿安装板的周向间隔分布本发明提供的腔室，其可以满足对多种尺寸的被加工工件的加热均匀性的要求。
安装板被加工工件加热装置热源调节组件承载件腔室加热均匀性辐射热量径向移动周向间隔种腔室承载

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