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[实用新型]一种最终抛光设备-CN202022835880.8有效
发明人：赵晟佑 -专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种最终抛光设备，所述设备包括：抛光台、设置在抛光台上表面的抛光垫、设置于所述抛光台下方的驱动轴、设置在所述抛光台的上方空间的抛光头和喷嘴；其中，所述喷嘴朝向所述抛光台上的抛光垫喷洒抛光液，并且喷洒范围至少覆盖所述抛光垫的中心位置至所述抛光垫边缘的区域。
一种最终抛光设备

[发明专利]基于非牛顿流体剪切增稠机理的孔内壁抛光装置-CN201510489786.2在审
发明人：吕冰海;戴伟涛;程仲点;翁海舟;邓乾发 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2015-08-11 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：一种基于非牛顿流体剪切增稠机理的孔内壁抛光装置，包括抛光池、抛光液循环系统、抛光工具和工件夹具，所述抛光池内放置抛光液，所述的抛光液为在具有剪切增稠效应的非牛顿流体中添加磨粒或微粉的抛光液；所述抛光工具位于抛光池内且与待加工的工件内孔壁保持加工间隙，所述工件夹具位于抛光工具的下方，所述抛光工具、工件夹具和待加工的工件均位于抛光池的液面下方；所述工件夹具与工件驱动机构连接，所述抛光工具与抛光工具驱动机构连接，所述抛光液循环系统的循环进口与所述抛光池的底部出口连通，所述抛光液的循环出口与所述抛光池的上部入口连通。本发明抛光效率高、质量好、成本低、装置结构简单。
基于牛顿流体剪切机理内壁抛光装置

[发明专利]一种熔融沉积产品的抛光设备及其使用方法-CN201910117205.0在审
发明人：李彬;顾海;吴彪;姜杰;张捷;刘金金;杨建春;吴国庆;孙健华 -专利权人：南通理工学院
申请日： 2019-02-15 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种熔融沉积产品的抛光设备及其使用方法,包括抛光机主体，加热系统，喷射系统，稳压系统，冷却回收系统，检测系统和控制系统，使用抛光机主体的时候，将待抛光的熔融沉积产品放置于抛光箱内的网状支撑上，启动检测系统，计算熔融沉积产品的表面积和表面粗糙度，计算抛光时间，从倒液管入口倒入抛光液，加热系统将抛光液加热到雾化，喷头打开，抛光液均匀地与熔融沉积产品表面接触实现抛光，检测系统检测仍需抛光区，控制系统自动关闭其他喷头，保留需继续抛光的喷头，进行局部二次抛光，抛光结束后，将抛光液回收利用，本发抛光设备操作简单，可全方位抛光，抛光效率高，避免抛光不均匀，抛光液可回收再利用，绿色环保。
抛光抛光液熔融沉积喷头抛光设备抛光机主体加热系统检测系统控制系统冷却回收系统启动检测系统表面粗糙度全方位抛光产品表面产品放置二次抛光回收利用绿色环保抛光效率喷射系统网状支撑稳压系统不均匀倒液管可回收抛光区再利用雾化加热保留检测

[发明专利]晶圆抛光装置及晶圆抛光方法-CN202211161511.2在审
发明人：杨玉凯 -专利权人：苏州苏纳光电有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明揭示了一种晶圆抛光装置及晶圆抛光方法。所述晶圆抛光装置包括抛光垫，所述抛光垫与驱动机构传动连接，并能在驱动机构驱使下绕一旋转轴线旋转，用于对晶圆进行抛光，所述旋转轴线与所述抛光垫的轴线重合或平行；其特征在于：所述晶圆抛光装置还包括抛光液分散环，所述抛光液分散环设置在抛光垫上，并具有抛光液储液腔和多个抛光液出液口，多个所述抛光液出液口沿周向均匀分布在抛光液分散环外壁上，所述抛光液出液口与抛光液储液腔连通。通过本发明抛光后的晶圆，可以有效改善抛光液的分布，提高抛光垫的使用寿命，从而保证了晶圆厚度的均匀性。
抛光装置方法

[发明专利]一种铝板抛光机-CN201510470011.0有效
发明人：吴郑健 -专利权人：东莞市东铝铝业有限公司
申请日： 2015-08-04 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种铝板抛光机，包括通过抛光轮进行抛光作业的抛光机构、控制抛光轮升降的升降机构、控制抛光轮进行横向摆动的摆动机构、以及控制铝板移动的自动运动平台，所述升降机构控制抛光轮接触铝板后，所述抛光轮在抛光机构控制下进行转动，同时其在摆动动机构的控制下进行横向摆动，所述自动运动平台承载铝板移动，使抛光轮逐步打磨整个铝板表面，完成抛光作业。本发明的铝板抛光机能够实现对较大板材进行一次抛光，而无需进行多次抛光，解决了现有抛光机需要多次抛光的问题，同时本发明抛光机抛光均匀性高，抛光效果好，并且本发明不会出现抛光轮主轴因共振导致的弹跳问题，设备运行稳定性极高
一种抛光机

[发明专利]化学机械抛光方法、其抛光时间制程的设置方法及晶圆-CN201410542490.8有效
发明人：李一斌 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-10-14 - 公布日： 2017-11-21 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本申请公开了一种化学机械抛光的抛光时间制程的设置方法、化学机械抛光方法及晶圆。其中，该设置方法包括以下步骤建立抛光垫使用时间和抛光时间的关系式Y＝aX+b，其中Y为抛光时间，X为抛光垫使用时间，b为刚开始使用抛光垫时对应的抛光时间，a为抛光时间的补偿系数，且a＞0；按照关系式Y＝aX+b设置抛光机台中的抛光时间制程，以使得抛光机台随着抛光垫使用时间的增加对抛光时间进行动态调整。该设置方法实现了随着所述抛光垫使用时间的增加对抛光时间进行动态调整的目的，进而减少了化学机械抛光过程中由于抛光时间制程固定不变造成的晶圆被过度抛光的几率。
化学机械抛光方法抛光时间设置

[发明专利]全自动弯头圆管外部抛光机-CN201310266445.X有效
发明人：王朝永 -专利权人：南阳市永福德不锈钢流体设备有限公司
申请日： 2013-06-28 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： B24B29/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种全自动弯头圆管外部抛光机，包括步进电机，夹具，抛光盘，电机，其特征在于该抛光机的电机通过皮带轮带动抛光盘旋转，夹具上装置的待抛光管件由气缸控制其夹紧，步进电机通过齿轮组和轴承，带动夹具沿轨道旋转进入抛光盘内，抛光盘内砂纸孔内的砂纸块在气缸的推动下紧贴待抛光管件，通过抛光盘的旋转对待抛光管件抛光，其抛光过程中有进水孔对其冷却，进气口对其通气，抛光过程中砂纸磨损后，气缸会不断推进砂纸块紧贴待抛光管件，确保抛光进程；使用该抛光机，可使弯头圆管的外部抛光均匀，抛光效率高，粉尘少，噪声小，节省人力，抛光质量可靠，可广泛用在各种管径的弯头圆管的外部抛光。
全自动弯头圆管外部抛光机

[发明专利]一种钢管多边形内孔抛光机-CN201610187449.2有效
发明人：姜成崇 -专利权人：姜成崇
申请日： 2016-03-28 - 公布日： 2017-11-03 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种钢管多边形内孔抛光机。主要解决现有抛光机不能针对多边形内孔进行有效抛光，抛光存在死角，导致抛光效率低，质量差的问题。包括电机、传动机构以及抛光装置，抛光装置包括抛光机构和定位机构，抛光机构包括细轴、抛光件，电机带动细轴转动，定位机构包括连接杆、压板以及弹簧，连接杆套设于细轴上，连接杆能够绕着细轴自由旋转，弹簧套设于连接杆上由于该抛光机通过抛光机构和定位机构相结合的方式进行抛光，使得抛光件在抛光时，对方向孔的内表面进行有效地抛光，尤其是对方管内孔的边与边之间的死角进行有效的抛光，具有抛光效果好，抛光面广以及抛光质量高等优点
一种钢管多边形抛光机

[发明专利]异型表面抛光装置及抛光方法-CN202110128566.2有效
发明人：黄永刚;周游;王久旺;王云;付杨 -专利权人：中国建筑材料科学研究总院有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明是关于一种异型表面抛光装置及抛光方法，其包括：抛光介质、六轴机械手、抛光液喷射设备、抛光液体喷淋设备和工件夹持旋转平台，抛光介质包括层叠设置的置入层和抛光层，所述置入层的上表面设有第一凹槽，所述抛光层与所述置入层接触的一面设有第二凹槽，所述置入层内设置有压力传感器和温度传感器，所述抛光层的抛光结构与待抛光面相适配；所述抛光介质的材质为微孔聚氨酯。本发明选用微孔聚氨酯材质的抛光介质，微孔聚氨酯的发泡孔有利于抛光粉的流动性，抛光介质包括层叠设置的置入层和抛光层，每层都设置有凹槽，增加抛光液的流动性，提高抛光效率，并且使用六轴机械手抓取抛光介质，方便更换抛光介质
异型表面抛光装置方法

[实用新型]全自动弯头圆管外部抛光机-CN201320380404.9有效
发明人：王朝永 -专利权人：南阳市永福德不锈钢流体设备有限公司
申请日： 2013-06-29 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： B24B29/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全自动弯头圆管外部抛光机，包括：步进电机，夹具，抛光盘，电机，其特征在于：该抛光机的电机通过皮带轮带动抛光盘旋转，夹具上装置的待抛光管件由气缸控制其夹紧，步进电机通过齿轮组和轴承，带动夹具沿轨道旋转进入抛光盘内，抛光盘内砂纸孔内的砂纸块在气缸的推动下紧贴待抛光管件，通过抛光盘的旋转对待抛光管件抛光，其抛光过程中有进水孔对其冷却，进气口对其通气，抛光过程中砂纸磨损后，气缸会不断推进砂纸块紧贴待抛光管件，确保抛光进程；使用该抛光机，可使弯头圆管的外部抛光均匀，抛光效率高，粉尘少，噪声小，节省人力，抛光质量可靠，可广泛用在各种管径的弯头圆管的外部抛光。
全自动弯头圆管外部抛光机

[实用新型]基于非牛顿流体剪切增稠机理的孔内壁抛光装置-CN201520598800.8有效
发明人：戴伟涛;程仲点;吕冰海;翁海舟;张传通;邓乾发;林益波 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2015-08-11 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：一种基于非牛顿流体剪切增稠机理的孔内壁抛光装置，包括抛光池、抛光液循环系统、抛光工具和工件夹具，所述抛光池内放置抛光液，所述的抛光液为在具有剪切增稠效应的非牛顿流体中添加磨粒或微粉的抛光液；所述抛光工具位于抛光池内且与待加工的工件内孔壁保持加工间隙，所述工件夹具位于抛光工具的下方，所述抛光工具、工件夹具和待加工的工件均位于抛光池的液面下方；所述工件夹具与工件驱动机构连接，所述抛光工具与抛光工具驱动机构连接，所述抛光液循环系统的循环进口与所述抛光池的底部出口连通，所述抛光液的循环出口与所述抛光池的上部入口连通。本实用新型抛光效率高、质量好、成本低、装置结构简单。
基于牛顿流体剪切机理内壁抛光装置

[实用新型]一种铝板抛光机-CN201520577947.9有效
发明人：吴郑健 -专利权人：东莞市东铝铝业有限公司
申请日： 2015-08-04 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： B24B29/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种铝板抛光机，包括通过抛光轮进行抛光作业的抛光机构、控制抛光轮升降的升降机构、控制抛光轮进行横向摆动的摆动机构、以及控制铝板移动的自动运动平台，所述升降机构控制抛光轮接触铝板后，所述抛光轮在抛光机构控制下进行转动，同时其在摆动机构的控制下进行横向摆动，所述自动运动平台承载铝板移动，使抛光轮逐步打磨整个铝板表面，完成抛光作业。本实用新型的铝板抛光机能够实现对较大板材进行一次抛光，而无需进行多次抛光，解决了现有抛光机需要多次抛光的问题，同时本实用新型抛光机抛光均匀性高，抛光效果好，并且本实用新型不会出现抛光轮主轴因共振导致的弹跳问题
一种抛光机

[实用新型]抛光组件-CN201721751097.5有效
发明人：冯光建;夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种抛光组件，涉及半导体技术领域，为解决现有抛光工艺过程中，待加工件的外表面在抛光液和游星轮内壁的挤压下也被抛光，使得抛光件的原貌或者抛光件的外表面形貌被抛光的问题而设计。涉及一种抛光组件，包括：抛光件，抛光件的外侧面依次向外包覆有胶膜层和承载膜层。还涉及一种抛光组件，包括：抛光件，抛光件的外周面向外包覆有沉积膜层。还涉及另一种抛光组件，包括：抛光件，抛光件的外侧面或外周面向外包覆有光刻胶膜层。上述的抛光组件不会使抛光件的外侧面的尺寸发生任何改变，从而达到抛光件的外侧面不受或者少受抛光影响的要求。
抛光件抛光组件抛光外包覆外侧面外周半导体技术领域抛光工艺过程本实用新型光刻胶膜层形貌沉积膜层待加工件承载膜胶膜层抛光液游星轮内壁挤压

[实用新型]一种抛光机-CN201821473404.2有效
发明人：管印;刘涛;张辉 -专利权人：东莞市邦顺电子科技有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光机，包括抛光箱、抛光罐和底座，所述抛光箱内部设置有抛光罐，所述抛光箱下方设置有底座，所述抛光罐内部设置有旋转杆，所述旋转杆表面固定连接有旋转叶，所述旋转杆上方设置有旋转杆固定轴，所述旋转杆固定轴两端均通过旋转杆稳定杆与抛光箱内壁固定连接，所述抛光罐上方连接有抛光罐固定箍，所述抛光罐固定箍两端均通过抛光罐固定杆与抛光箱内壁固定连接，所述抛光罐内部填充有抛光砂。本实用新型结构简单，设计新颖，通过设置的抛光罐、抛光砂和驱动电机，能够利用旋转带动物料与抛光砂之间进行摩擦，能够有效对不规则形状物料进行彻底的抛光，增加抛光质量，从而提高产品质量，适合被广泛推广和使用。
抛光旋转杆抛光砂抛光箱本实用新型固定箍固定轴罐内部抛光机箱内壁底座不规则形状物料表面固定内部设置驱动电机旋转带动固定杆稳定杆旋转叶填充摩擦

[实用新型]一种磁力抛光机-CN201922474484.4有效
发明人：昌国栋;何明;昌国智 -专利权人：深圳市赢合技术有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： B24B31/112 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁力抛光机。该磁力抛光机包括机架台；所述机架台上设置有抛光槽；所述抛光槽内设置有磁力发生器以及磁力导向装置；所述机架台上、位于所述抛光槽的上方设置有可升降的旋转磁力抛光组件，所述旋转磁力抛光组件可下降深入至所述抛光槽内，且所述旋转磁力抛光组件可自由旋转；所述旋转磁力抛光组件括主旋转磁力抛光件和若干辅旋转磁力抛光件；所述辅旋转磁力抛光件可自由旋转的连接设置在所述主旋转磁力抛光件的下方；所述机架台上、位于所述抛光槽的一侧还设置有自动上下料系统本实用新型的磁力抛光机可通过磁力抛光研磨的方式对包括玻璃、陶瓷或铝材质的型材进行抛光，抛光效率高，且抛光后的贴合效率及精度高。
一种磁力抛光机