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[发明专利]新型混沌光学加工误差的统计感知与抛光参数自适应决策方法-CN202211385938.0在审
发明人：魏朝阳;李瀚捷;万嵩林;邵建达;郭豪;张兰亚 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2022-11-07 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G05B19/408 文献下载
摘要：本发明涉及一种新型混沌光学加工误差的统计感知与抛光参数自适应决策方法，包括以下步骤：S1、针对子孔径超精密抛光，混沌误差是由复杂误差源影响下抛光工具每个驻留时间位置的去除函数引起，建立基于统计学意义上的混沌误差感知模型；S2、建立抛光工具头混沌误差率C提取方法，使混沌误差感知模型用于实际抛光加工指导；S3、根据混沌误差感知模型与抛光工具头混沌误差率C提取方法，结合智能化数学手段建立抛光参数自适应决策模型，实现高精度高效率抛光加工有益效果是效率高、一致性和确定性好、抛光过程定量控制。
新型混沌光学加工误差统计感知抛光参数自适应决策方法

[发明专利]对轻质反射镜压印效应误差的修正方法-CN201110329852.1无效
发明人：施春燕;范斌;徐清兰;伍凡;万勇建;张亮 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2011-10-26 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： B24C1/08 文献下载
摘要：本发明是一种对轻质反射镜压印效应误差的修正方法，是确定轻质反射镜压印效应的误差分布数据，把轻质反射镜对准安装在抛光机床上，确定轻质反射镜在抛光机床坐标系上的误差分布的位置；获得射流抛光轻质反射镜材料的去除函数和去除函数数据；根据压印效应的误差分布数据和去除函数数据，计算射流抛光过程中的驻留时间分布；根据轻质反射镜压印效应误差位置的分布情况，规划射流抛光误差修正过程中的射流抛光运动轨迹；基于驻留时间分布和运动轨迹，生成相应抛光机床的数控代码；开启射流抛光系统和机床数控系统，射流抛光头在数控机床的控制下，冲击射流对准轻质反射镜上不同点进行材料去除加工，从而实现轻质反射镜全口径或局部的误差修正。
反射压印效应误差修正方法

[发明专利]一种用于控制非球面元件全频段误差的加工方法-CN201710604702.4在审
发明人：钟波;陈贤华;王健;许乔;周炼;谢瑞清;邓文辉;侯晶;赵世杰;袁志刚;徐曦;金会良 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于控制非球面元件全频段误差的加工方法涉及非球面元件加工技术领域。一种用于控制非球面元件全频段误差的加工方法，其包括磨削成型、保形抛光、修正抛光、匀滑抛光四个步骤。磨削成型采用超精密磨削方法进行非球面元件的直接成型，同时将亚表面缺陷控制在较低水平；保形抛光采用高稳定性、高去除效率的子口径抛光技术，实现非球面元件的快速保形抛亮，以去除亚表面缺陷；修正抛光采用高稳定性的子口径抛光技术快速修正非球面元件低频误差；匀滑抛光采用匀滑抛光技术，在低频误差不被恶化的情况下，控制非球面元件中高频误差。本发明加工方法的特点在于通过多种技术耦合实现非球面元件全频段误差控制。
一种用于控制球面元件频段误差加工方法

[发明专利]布轮抛光湿度检测误差修正方法-CN201510496014.1有效
发明人：刘建春;陈雄风;柯晓龙;黄海滨;林晓辉 -专利权人：厦门理工学院
申请日： 2015-08-13 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： B24B49/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种布轮抛光湿度检测误差修正方法，涉及布轮抛光加工领域。其提供一种原理简单、操作方便的布轮抛光湿度检测误差修正方法，由于湿度传感器检测的布轮抛光湿度值会随着探头与布轮的距离、抛光布轮半径、布轮表面灰度值的变化而产生一定的误差，该方法自动在线修正湿度检测误差，通过控制一种变量按固定值变化，统计布轮湿度检测值的变化量，来预测变量在其余数值下所引起的检测湿度值误差，最终将三种误差叠加，补偿到湿度检测值中。
抛光湿度检测误差修正方法

[发明专利]一种复杂曲面光学元件磁流变抛光的加工方法及系统-CN202211298926.4在审
发明人：王洪祥;刘世伟;付云飞 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2022-10-24 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及光学元件的抛光领域，尤其是涉及一种复杂曲面光学元件磁流变抛光的加工方法及系统。计算初始面形误差；设定分频段参数；设定各层参数；获得对应各频段的抛光斑形貌；对第一频段初始面形误差进行延拓处理，获得第一频段延拓后面形误差；进行磁流变抛光，最终获得延拓后面形误差；计算第二频段的第一层延拓后面形误差；计算各个频段中各层的延拓后面形误差，直至实现最终频段的加工。
一种复杂曲面光学元件流变抛光加工方法系统

[发明专利]一种面向亚纳米精度离子束抛光的面形误差优化去除方法-CN201911262675.2在审
发明人：廖文林;聂徐庆;谢强;张浩;万稳;蒋国庆;聂旭涛;张逸飞 -专利权人：中国空气动力研究与发展中心设备设计及测试技术研究所
申请日： 2019-12-10 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种面向亚纳米精度离子束抛光加工的面形误差优化去除方法，步骤包括：计算期望的材料去除总量；计算等比例去除方式的迭代加工材料去除量；计算迭代加工所需的驻留时间；材料的等比例加工去除；迭代抛光加工本发明能够避免抛光过程中高频误差的产生，更有利于迭代抛光过程中机床的平稳运行，可在迭代抛光过程中实现全局面形误差的均匀修正，更适合亚纳米精度光学元件的离子束抛光加工。
一种面向纳米精度离子束抛光误差优化去除方法

[实用新型]全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置-CN201820473860.0有效
发明人：廖德锋;赵世杰;谢瑞清;孙荣康;任乐乐;王健;许乔 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种检测精度较高的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置。全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，在直线导轨上设置有溜板，在所述溜板上设置有L形辅助检测支架、第一激光位移传感器和第二激光位移传感器，在所述直线导轨的下方设置有水槽，在所述L形辅助检测支架的下板上设置有元件孔本实用新型检测抛光盘的形状误差时，采用水面作为参考对象，可以避免直线导轨本身的直线度误差对检测精度的影响，不会引入系统误差，具有极高的检测精度；本实用新型采用L形辅助检测支架和辅助检测平面贴合抛光盘表面以起到平滑的作用，从而改善了抛光盘宏观轮廓的检测精度和稳定性。
抛光盘形状误差辅助检测支架本实用新型环形抛光检测装置直线导轨全口径激光位移传感器检测辅助检测元件孔溜板水槽抛光盘表面直线度误差参考对象宏观轮廓平面贴合引入系统种检测平滑下板水面

[发明专利]一种改进的评价CCOS抛光去除函数误差抑制能力的方法-CN201910312432.9在审
发明人：王佳;王朝阳;万勇建;侯溪;张云;胡跃 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2019-04-18 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明为一种改进的评价CCOS抛光去除函数误差抑制能力的方法，包括：步骤S1：利用第j‑1次和第j次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数PSD_j‑1、PSD_{j2＝PSD_j/PSD_j‑1；步骤S3：对关系式(2)进行m项相乘运算，构建出改进的评价抛光工艺误差抑制能力的数学模型H_OPT(m)；步骤S4：对多次抛光的误差抑制能力计算模型进行取平均值计算，构建出计算机控制表面成形抛光中去除函数在确定抛光条件下对不同频段误差抑制能力H_{TIF_OPT<本发明在多次抛光中计算抛光工艺和去除函数的误差抑制能力时能减少计算量，使得最终计算结果更准确。}}
误差抑制构建去除抛光去除函数多次抛光抛光工艺数学模型平滑谱功率谱密度函数光学元件面形傅里叶变换函数归一化计算机控制平均值计算改进表面成形能力计算抛光条件数学变换相乘运算抛光次抛光计算量频段

[发明专利]一种含抛光粉的毛毡轮及其制造方法-CN202111102338.4在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：河北恒澳毛毡制造有限公司
申请日： 2021-09-19 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： B24D13/12 文献下载
摘要：本项发明致力于生产一种含抛光粉的毛毡轮，主要用于不锈钢、铝等金属及石材、玻璃等非金属的精细抛光。本项发明目的在于解决现实抛光使用中，毛毡轮需配合使用抛光蜡、抛光液、抛光膏等抛光料，存在操作复杂、效率低、成本高、误差大、浪费抛光料等问题。本项发明在毛毡的生产过程中，将抛光粉按比例、要求加入到毛毡中，最后得到的含抛光粉的毛毡轮，其在抛光使用时不再需要额外添加抛光料，使抛光操作更简便，提高了抛光效率，降低抛光成本，减小产品间误差。
一种抛光毛毡及其制造方法

[实用新型]机器人抛光误差补偿装置-CN201920632448.3有效
发明人：苗凯杰 -专利权人：诺万五金制造(上海)有限公司
申请日： 2019-05-05 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： B24B21/18 文献下载
摘要：机器人抛光误差补偿装置包括：回弹装置、补偿导轮和固定轮，补偿导轮与回弹装置一端连接，固定轮与回弹装置下端连接。其中，回弹装置包括：回弹导轨、回弹阻尼固定板、回弹阻尼装置、弹簧固定轴、弹簧、夹层固定板、回弹装置导轨固定板和抛光机器固定支架。本实用新型与传统技术相比，通过增设回弹装置，实现在抛光件误差很大的情况下，能够进行向内压缩动作，减少抛光轮与抛光件凸起地方的接触力度，进而减少滚轮的硬摩擦损耗，使滚轮使用寿命变长，成本降低，同时在抛光件存在误差不平整，有凸起也有凹陷或不垂直的情况下，在编程时机械手臂可以向内多移动2mm，从而提高抛光合格率，减少返工抛光工时，也减低了成本。
回弹装置抛光件回弹固定板固定轮抛光导轮滚轮凸起向内本实用新型弹簧固定轴导轨固定板补偿装置固定支架机械手臂接触力度抛光机器抛光误差使用寿命一端连接阻尼装置不垂直抛光轮硬摩擦凹陷弹簧导轨返工夹层下端编程机器人平整合格率增设压缩移动

[发明专利]一种抛光机床回转轴几何误差测量装置与调整方法-CN201910169086.3在审
发明人：郭俊康;刘志刚;南凯刚;洪军;贾康 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2019-03-06 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光机床回转轴几何误差测量装置与调整方法。该装置包括数据采集系统，计算机，安装于磨具主轴上的标准圆球(2)，以及安装于抛光工件安装主轴(3)上的测量装置；基于测量装置，几何误差调整方法包括以下步骤：首先对测量装置进行标定，得到测量结果与标准球空间位置的变换矩阵；其次进行各回转轴运动，对标准球空间运动轨迹进行测量；接着利用误差分析模型，辨识回转轴误差大小及方向；最后依据误差辨识结果对几何误差进行调整，减少几何误差，满足机床安装精度要求。本发明克服了现有抛光机床回转轴几何误差难以进行空间误差测量导致的误差调整效率低，调整精度差的现状。
几何误差测量装置回转轴抛光机床标准球测量空间运动轨迹数据采集系统回转轴误差变换矩阵机床安装精度要求空间位置空间误差磨具主轴抛光工件误差辨识误差调整误差分析圆球辨识标定计算机

[发明专利]一种基于降低仿真与实验之间拟合误差的永磁小球头磁流变抛光材料去除率模型建立方法-CN202310750123.6在审
发明人：刘赫男;田金川;陈明君;程健;吴春亚 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2023-06-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G06F30/23 文献下载
摘要：本发明一种基于降低仿真与实验之间拟合误差的永磁小球头磁流变抛光材料去除率模型建立方法，涉及超精密加工技术领域，为解决现有技术针对永磁小球头磁流变抛光方法的材料去除机理未完全揭示，材料去除率模型难以准确建立的问题包括如下步骤：S1、获取实际抛光凹坑轮廓，获取实际抛光凹坑轮廓参数；S2、采用有限元仿真建立永磁小球头磁流变抛光区域的加工模型，获取不同模型参数组合下的仿真抛光凹坑轮廓及轮廓参数；S3、计算各组模型参数下仿真抛光凹坑与实际抛光凹坑之间的拟合误差；S4、以拟合误差最小为优化目标获取模型的最优参数值，建立永磁小球头磁流变抛光材料去除率模型。
一种基于降低仿真实验之间拟合误差永磁小球流变抛光材料去除模型建立方法

[发明专利]基于镜片抛光的定位方法及装置-CN202310597939.X在审
发明人：姚洪辉;张嘉荣;朱相优;卓少木;马帅杰;邝佳琪 -专利权人：中山超精科技有限公司
申请日： 2023-05-24 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B24B13/005 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种基于镜片抛光的定位方法及装置，包括接收镜片抛光信号，响应于其中一条镜片抛光指令，获取镜片抛光指令中的抛光信息，获取当前抛光工位的工作状态，从当前空闲的抛光工位中按照预设选位规则选取目标抛光工位；控制夹具电机驱动夹具夹紧在目标抛光工位上的镜片，以及控制抛光定位电机驱动抛光机移动至目标位置；比对目标位置与抛光位置之间的误差。实施例结合当前不同抛光工位的工作状态选取匹配的抛光工位，进一步通过夹具对镜片进行夹紧固定，防止抛光中移位，通过抛光定位电机驱动抛光机在不同方位移动，进而可以更精准的将抛光机对准目标位置对镜片进行抛光，减少目标位置与抛光位置之间的误差，大大提高抛光精准度。
基于镜片抛光定位方法装置

[发明专利]基于镜片抛光的定位方法及装置-CN202211497489.9在审
发明人：姚洪辉;张嘉荣;朱相优;卓少木;马帅杰;邝佳琪 -专利权人：中山超精科技有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B24B13/005 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种基于镜片抛光的定位方法及装置，包括接收镜片抛光信号，响应于其中一条镜片抛光指令，获取镜片抛光指令中的抛光信息，获取当前抛光工位的工作状态，从当前空闲的抛光工位中按照预设选位规则选取目标抛光工位；控制夹具电机驱动夹具夹紧在目标抛光工位上的镜片，以及控制抛光定位电机驱动抛光机移动至目标位置；比对目标位置与抛光位置之间的误差。实施例结合当前不同抛光工位的工作状态选取匹配的抛光工位，进一步通过夹具对镜片进行夹紧固定，防止抛光中移位，通过抛光定位电机驱动抛光机在不同方位移动，进而可以更精准的将抛光机对准目标位置对镜片进行抛光，减少目标位置与抛光位置之间的误差，大大提高抛光精准度。
基于镜片抛光定位方法装置

[发明专利]一种针对二次曲面反射镜的抛光制备方法-CN202111465697.6有效
发明人：孙洁斐;高凡;李忠;熊涛;伊博;李通;罗耀明 -专利权人：湖北久之洋红外系统股份有限公司
申请日： 2021-12-03 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种针对二次曲面反射镜的抛光制备方法，采用弹性气囊抛光技术进行预抛光，去除铣磨过程中砂轮与零件因直接刚性接触给零件表面带来的不规则的凹凸破坏层与裂纹层；采用高稳定性气囊抛光技术进行2D抛光，修正预抛光过程中形成的对称误差；五轴联动进行3D抛光，修正预抛光过程中形成的非对称误差；采用子孔径沥青抛光技术，进行自适应平滑抛光，在保证面形的前提下，降低镜面的中高频误差；本发明通过结合多种数控抛光工艺方式，最大程度的提高面形精修效率，缩短高精度二次曲面反射镜的加工时间，不需借助其他修正方式，仅组合数控抛光工艺实现高精度二次曲面反射镜的制备，提高二次曲面反射镜的生产效率。
一种针对二次曲面反射抛光制备方法

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