专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]抛光管路系统和上下盘研磨机构-CN201710539411.1有效
  • 希尔维斯特·本杰明;孔满红;希尔维斯特·驹亮;希尔维斯特·昂睿 - 大连桑姆泰克工业部件有限公司
  • 2017-07-04 - 2023-09-22 - B24B37/34
  • 本发明提供了一种抛光管路系统和上下盘研磨机构,涉及抛光设备领域。该抛光管路系统包括供装置和抛光储存器,抛光储存器设置有环形的储槽;供装置通过输液管向储槽内提供抛光抛光储存器上还设置有与储槽连通的出孔,通过出孔向待冷却装置输送抛光。上下盘研磨机构包括如上的抛光管路系统,还包括第一冷却机构及第二冷却机构,第一冷却机构包括多个层叠固定连接在一起的第一冷却盘;上下相邻的两个第一冷却盘之间具有冷却通道;最下层的第一冷却盘下端面用于固定上盘研磨体,其上开设有流孔,流孔与冷却通道相连通;出孔与冷却通道连通。本发明解决了研磨机的抛光输送不易控制易迸溅的技术问题。
  • 抛光管路系统下盘研磨机构
  • [实用新型]抛光盘及抛光系统-CN201922216053.8有效
  • 侯晶;许乔;刘世伟;陈贤华;王健;李洁;钟波 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2019-12-11 - 2020-08-11 - B24B13/00
  • 本申请提供了抛光盘及抛光系统,涉及光学元件精密加工技术领域。一种抛光盘,抛光盘的内部具有用于储存抛光的储存腔,抛光盘的抛光面开设有出口,出口通过设置于抛光盘内部的通道与储存腔连通。该抛光盘的储存腔内储存有抛光,在抛光时,抛光盘的抛光层与元件紧密接触,同时抛光通过出口流出,实现抛光抛光时均匀分布在元件表面,避免多次停止抛光再喷洒抛光,提高抛光效率。由于抛光由储存腔经由出口流出,使得不同出口流出的抛光量和压力大致相等,有助于元件表面的抛光分布均匀。
  • 抛光系统
  • [实用新型]一种抛光冷却桶-CN202320691258.5有效
  • 梁嘉晟 - 无锡吉致电子科技有限公司
  • 2023-03-31 - 2023-08-11 - B24B57/02
  • 本实用新型公开了一种抛光冷却桶,包括桶体和桶盖,所述桶体的底部设置有活动轮,且桶体的筒壁内侧设置有第一冷却层,并且第一冷却层的内部设置有第一冷却通道,同时第一冷却层内侧设置有抛光冷却层,所述抛光冷却层的内侧设置有第二冷却层,且第二冷却层的内部设置有第二冷却通道,并且第二冷却层的内侧设置有储仓,该抛光冷却桶设置有第一冷却层和第二冷却层,可以对抛光进行重复冷却,且第一冷却通道通和第二冷却通道在第一冷却层和第二冷却层内部呈螺旋状缠绕,进一步提高抛光的冷却效率,有效提高抛光冷却桶的实用性,同时抛光冷却桶的底部设置有活动轮,方便工作人员对抛光冷却桶进行移动和搬运。
  • 一种抛光冷却
  • [实用新型]抛光输送装置及研磨设备-CN202320964805.2有效
  • 余奇;魏志杰 - 粤芯半导体技术股份有限公司
  • 2023-04-25 - 2023-09-29 - B24B57/02
  • 本申请提出了一种抛光输送装置及研磨设备。该抛光输送装置包括摆臂组件、驱动源和传动组件;摆臂组件包括臂体以及设置于臂体下侧的抛光输送管,抛光输送管用于输送抛光并设有允许抛光输出的第一喷嘴;传动组件建立摆臂组件与驱动源之间的连接通道,驱动源用于驱动传动组件以带动摆臂组件沿顺时针或逆时针方向摆动本申请使得摆臂的位置并非固定的,从而可以灵活调节抛光的落点。
  • 抛光输送装置研磨设备
  • [发明专利]抛光供给系统及晶圆抛光-CN202311005660.4在审
  • 朱亮;曹建伟;李阳健;陈建国;王旭东;张国阳 - 浙江晶盛机电股份有限公司;浙江晶盛创芯半导体设备有限公司
  • 2023-08-10 - 2023-09-22 - B24B57/02
  • 本发明涉及一种抛光供给系统及晶圆抛光机,该抛光供给系统应用于晶圆抛光机,该抛光供给系统包括:中心轴,开设有进液流道;及第一转动件,转动连接于中心轴,开设有出液流道,出液流道用于连通供通道;进液流道连通出液流道因为进液流道、出液流道均位于抛光供给系统内,所以抛光在流动过程中始终不会暴露于外界。因此,外界的杂质无法通过抛光进入晶圆抛光机流入上盘,这能够避免外界的杂质对晶圆的抛光过程造成负面影响而导致晶圆的抛光品质降低。而且,因为抛光没有暴露于外界,所以抛光不容易挥发,晶圆抛光机上由挥发的抛光形成的结晶便会显著减少,这能够减轻晶圆抛光机的清洁负担。
  • 抛光供给系统抛光机
  • [实用新型]一种高精度铰链抛光装置-CN202123435926.8有效
  • 俞雪军 - 平湖市雪天五金制品有限公司
  • 2021-12-29 - 2022-09-27 - B24B31/10
  • 本实用新型公开一种高精度铰链抛光装置,包括抛光槽,抛光槽内通过分隔板分为抛光区和加区,分隔板下方设有连通抛光区和加区的通道抛光区内设有若干间隔设置的抛光篮,加区设有搅拌装置,在抛光槽内加入抛光,将铰链放置在抛光篮内,通过抛光进行抛光,只要控制抛光的浓度以及抛光时间便能掌握抛光精度,并且通过将铰链浸入抛光内,能够对铰链的整个表面同时抛光,提高了抛光效率。
  • 一种高精度铰链抛光装置
  • [实用新型]一种用于化学机械抛光抛光的供给装置-CN201921849443.2有效
  • 孙韬 - 宁波日晟新材料有限公司
  • 2019-10-30 - 2020-08-25 - B24B57/02
  • 本实用新型公开了一种用于化学机械抛光抛光的供给装置,包括料箱、循环泵、进料组件和支撑架;料箱位于抛光装置的下方;料箱顶部与从抛光装置引出的回流管相连,回流管上设有回流阀;循环泵进口与料箱相连,出口与进料组件相连;进料组件包括旋转盘、进料盘、电机和挡板;进料盘位于旋转盘的上方,进料盘开设有贯穿进料盘的进料通道,进料通道进口与循环管路相连,出口靠近旋转轴设置;进料盘外缘还连接有环形挡板;旋转盘通过旋转轴与电机相连本实用新型的用于化学机械抛光抛光的供给装置,抛光供给质量稳定,抛光浓度和pH值波动小,抛光中的研磨颗粒分布均匀,抛光抛光装置中分布均匀,且无气泡产生。
  • 一种用于化学机械抛光机抛光供给装置
  • [发明专利]一种在公自转磁流变抛光中实现回转供与回收的装置-CN201110456996.3有效
  • 张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;刘向;刘文涛 - 清华大学
  • 2011-12-30 - 2012-06-20 - B24B1/00
  • 一种在公自转磁流变抛光中实现回转供与回收的装置,包括外壳、公转底座、轴承座、自转轴、抛光轮、循环系统和其他必要的辅助装置,其特征在于:循环系统中包括第一注通道、第二注通道、第一抽通道、第二抽通道、注环形凹槽、抽环形凹槽和密封圈。储罐中的磁流变抛光通过外壳上的第一注通道进入注环形凹槽和第二注通道,被注嘴加注到抛光轮上。被收集器回收的磁流变抛光通过第一抽通道和抽环形凹槽进入外壳上的第二抽通道并最终返回储罐。该装置能够解决现有公自转磁流变抛光技术中磁流变抛光在循环过程中易沉积和运行不流畅的现象,以及无法通过泵的运转实现自动清洗管路的问题。
  • 一种自转流变抛光实现回转回收装置
  • [实用新型]一种在公自转磁流变抛光中实现回转供与回收的装置-CN201120570338.2有效
  • 张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;刘向;刘文涛 - 清华大学
  • 2011-12-30 - 2012-11-21 - B24B13/00
  • 一种在公自转磁流变抛光中实现回转供与回收的装置,包括外壳、公转底座、轴承座、自转轴、抛光轮、循环系统和其他必要的辅助装置,其特征在于:循环系统中包括第一注通道、第二注通道、第一抽通道、第二抽通道、注环形凹槽、抽环形凹槽和密封圈。储罐中的磁流变抛光通过外壳上的第一注通道进入注环形凹槽和第二注通道,被注嘴加注到抛光轮上。被收集器回收的磁流变抛光通过第一抽通道和抽环形凹槽进入外壳上的第二抽通道并最终返回储罐。本实用新型能够解决现有公自转磁流变抛光技术中磁流变抛光在循环过程中易沉积和运行不流畅的现象,以及无法通过泵的运转实现自动清洗管路的问题。
  • 一种自转流变抛光实现回转回收装置
  • [发明专利]一种人工关节球用双螺杆双抛光通道抛光装置-CN201910648678.3有效
  • 彭伟;王鸿云;朱伟强;方晓斌;杜永杰;方明;傅莉莉 - 浙江科惠医疗器械股份有限公司
  • 2019-07-18 - 2021-08-20 - B24B1/00
  • 本发明公开了一种人工关节球用双螺杆双抛光通道抛光装置,两个完全相同且对称设置的抛光主体,抛光主体内设有环形的抛光通道,左螺杆和右螺杆平行设置且同时穿过两个抛光主体的抛光通道,驱动装置驱动左螺杆和右螺杆反向旋转,每个抛光主体上均开有与抛光通道相通的注料口,注料口上设有封口器,抛光通道内设有磁流变抛光,每个抛光主体内设有磁场发生器。本发明的优点是:通过左螺杆和右螺杆的驱动,两个抛光通道内可以同时进行抛光作业,极大的提高了抛光效率,同时抛光通道内充入磁流变抛光,在受到磁场作用后,磁流变抛光由液态转为类固态,形成无数的磁流变刷,对人工关节球的各个面进行均匀的抛光,使抛光成品率获得极大的提升。
  • 一种人工关节球用双螺杆抛光通道装置

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